PL189519B1 - Sposób wytwarzania związków 2-chlorotiazolowych, sposób wytwarzania związków pośrednich oraz związki pośrednie - Google Patents
Sposób wytwarzania związków 2-chlorotiazolowych, sposób wytwarzania związków pośrednich oraz związki pośrednieInfo
- Publication number
- PL189519B1 PL189519B1 PL96326973A PL32697396A PL189519B1 PL 189519 B1 PL189519 B1 PL 189519B1 PL 96326973 A PL96326973 A PL 96326973A PL 32697396 A PL32697396 A PL 32697396A PL 189519 B1 PL189519 B1 PL 189519B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- formula
- compound
- reacted
- unsubstituted
- group
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- KLEYVGWAORGTIT-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothiazole Chemical class ClC1=NC=CS1 KLEYVGWAORGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 85
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 27
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 17
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 17
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 16
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 15
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 11
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 claims description 11
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- -1 polysuric dichloride Chemical compound 0.000 claims description 9
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 125000001624 naphthyl group Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 6
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 claims description 4
- FWMUJAIKEJWSSY-UHFFFAOYSA-N sulfur dichloride Chemical compound ClSCl FWMUJAIKEJWSSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KWPQTFXULUUCGD-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,7,8,9,10,10a-octahydropyrido[1,2-a][1,4]diazepine Chemical compound C1CCN=CC2CCCCN21 KWPQTFXULUUCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N quinuclidine Chemical compound C1CC2CCN1CC2 SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DGWFDTKFTGTOAF-UHFFFAOYSA-N P.Cl.Cl.Cl Chemical compound P.Cl.Cl.Cl DGWFDTKFTGTOAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 claims 1
- 125000005263 alkylenediamine group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 101100097467 Arabidopsis thaliana SYD gene Proteins 0.000 abstract 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 101100495925 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) chr3 gene Proteins 0.000 abstract 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 abstract 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 abstract 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 5
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 4
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NWWZPOKUUAIXIW-UHFFFAOYSA-N thiamethoxam Chemical compound O=N(=O)N=C1N(C)COCN1CC1=CN=C(Cl)S1 NWWZPOKUUAIXIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCKYRLWYBRUAHE-UHFFFAOYSA-N 2-benzylsulfanyl-5-(chloromethyl)-1,3-thiazole Chemical compound S1C(CCl)=CN=C1SCC1=CC=CC=C1 HCKYRLWYBRUAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229940052308 general anesthetics halogenated hydrocarbons Drugs 0.000 description 2
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 125000005913 (C3-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HTSGKJQDMSTCGS-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(4-chlorophenyl)-2-(4-methylphenyl)sulfonylbutane-1,4-dione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C(C(=O)C=1C=CC(Cl)=CC=1)CC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 HTSGKJQDMSTCGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRMUIVKEHJSADG-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-5-(chloromethyl)-1,3-thiazole Chemical compound ClCC1=CN=C(Cl)S1 VRMUIVKEHJSADG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 8-[3-(1-cyclopropylpyrazol-4-yl)-1H-pyrazolo[4,3-d]pyrimidin-5-yl]-3-methyl-3,8-diazabicyclo[3.2.1]octan-2-one Chemical class C1(CC1)N1N=CC(=C1)C1=NNC2=C1N=C(N=C2)N1C2C(N(CC1CC2)C)=O HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDSJNHDRSZBSTM-UHFFFAOYSA-N C=C1C=NC(S1)=S Chemical compound C=C1C=NC(S1)=S WDSJNHDRSZBSTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N Methyl ethyl ketone Natural products CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylcyclohexylamine Chemical compound CN(C)C1CCCCC1 SVYKKECYCPFKGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N benzyl bromide Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1 AGEZXYOZHKGVCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- GAYLOVDFGKQKCJ-UHFFFAOYSA-N n-(3-methyl-2,6-dihydro-1,3,5-oxadiazin-4-yl)nitramide Chemical compound CN1COCN=C1N[N+]([O-])=O GAYLOVDFGKQKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUBQJLUDMLPAGT-UHFFFAOYSA-N potassium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound C[Si](C)(C)N([K])[Si](C)(C)C IUBQJLUDMLPAGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000005951 trifluoromethanesulfonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
- C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
- C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D277/36—Sulfur atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
Abstract
1 Sposób wytwarzania zwiazków 2-chIorotiazolowvch o wzorze 1 w którym Y oznacza N O 2 lub CN, a R 3 oznacza niepodstawiony C 1 -C8alkil, znam ienny tym , ze a) zwiazek o wzorze II b 1) zwiazek o wzorze IV w postaci wolnej lub w postaci soli, w którym R6 i n sa jak zdefiniowane dla wzoru II, zas X 1 jest grupa odszczepialna, poddaje sie reakcji, ewentualnie w obecno- sci zasady, wybranej z grupy obejmujacej wodorotlenki metali alkalicznych lub metali ziem alkalicznych, wodorki, amidy, C 1 -C8alka nolany, octany, weglany, d 1 -C 1 -C8alkiloamidy, C 1 -C8alkilosililoamidy, C 1 -C8alkiloaminy, C 1 -C8 alkilenodiaminy, zwiazek o wzorze VII PL PL PL PL PL PL PL PL
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania związków 2-chlorotiazolowych, sposób wytwarzania związków pośrednich oraz związki pośrednie, które są stosowane w procesie wytwarzania związków chlorotiazolowych.
Znane sposoby wytwarzania związków 2-chlorotiazolowych wymagają stosowania, jako materiału wyjściowego, między innymi 2-chloro-5-chlorometylotiazolu, który jest szkodliwy przy bezpośrednim kontakcie.
Celem wynalazku jest opracowanie sposobu, w którym są stosowane nieszkodliwe substraty'.
Według wynalazku sposób wytwarzania związków 2-chlorotiazolowych o wzorze 1
w którym
Y oznacza NO2 lub CN, a
R3 oznacza niepodstawiony Cj^alkil, charakteryzuje się tym, że a) związek o wzorze II
w którym Y i R3 są jak zdefiniowane dla wzoru 1, n oznacza 0, 1 lub 2,
Ró oznacza niepodstawiony lub podstawiony przez R8 CrCgalkil, niepodstawiony C3-C6cykloalkil albo niepodstawioną lub podstawioną przez R7 grupę fenylową lub naftylową,
R7 oznacza niepodstawiony C)-C8alkil,
189 519
Rg oznacza niepodstawioną grupę fenylową lub naftylową, -COOH, -COOM, w której M oznacza metal alkaliczny, lub -SH, poddaje się reakcji z czynnikiem chlorującym, wybranym z grupy obejmującej wolny chlor, wodę z Javelle, dwuchlorek polisiarki, dwuchlorek siarki, trójchlorek fosforu, pięciochlorek fosforu i ich mieszaniny, lub b1) związek o wzorze IV
(IV) w postaci wolnej lub w postaci soli, w którym R(, i n sąjak zdefiniowane dla wzoru II, zaś Xt jest grupą odszczepialrną poddaje się reakcji, ewentualnie w obecności zasady, wybranej z grupy obejmującej wodorotlenki metali alkalicznych lub metali ziem alkalicznych, wodorki, amidy, CrCgalkanolany, octany, węglany, d1-C1-Cs-alkiloamidy, C1-C8alkilosililoamidy, C1-C8alkiloaminy, C1-Csalkilenodiaminy, wolne lub N- CrCsalkilowane, nasycone lub nienasycone C3-C6cykloalkiloaminy, pirydynę, 4-(N,N-dimetyloamino)-pirydynę, chinuklidynę, N-metylomorfolinę, wodorotlenek amonowy oraz 1,5-diazabicyklo[5.4.0]undek-5-en, ze związkiem o wzorze V
którym R3 i Y są, jak zdefiniowane dla wzoru 1, oraz otrzymany związek o wzorze II, ewentualnie wyodrębniony, poddaje się dalszej reakcji z powyżej określonym czynnikiem chlorującym, przy czym reakcje według wariantu a) lub wariantu b) prowadzi się, korzystnie w obecności rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika lub w ich mieszaninie, pod normalnym albo podwyższonym ciśnieniem, w temperaturze w zakresie od -80°C do temperatury wrzenia mieszaniny reakcyjnej, w czasie od 0,1 do 48 godzin.
Według wynalazku sposób wytwarzania związku pośredniego o wzorze IV, określonego powyżej, charakteryzuje się tym, że związek o wzorze VI
(VI)
HN poddaje się reakcji ze związkiem o wzorze R(,X2, w którym R ma znaczenia przedstawione powyżej dla wzoru II, a X2 oznacza grupę opuszczającą, i kolejno, wytworzony związek o wzorze VII, zdefiniowany poniżej, poddaje się reakcji ze związkiem wzorze QX1,
189 519 w którym Q jest grupą kwasową, korzystnie, funkcją kwasu nieorganicznego, zwłaszcza takiego jak SO2X1, a Xt, oznacza grupę odszczepialną, po czym wytworzony związek o wzorze IV, w którym n oznacza 0, ewentualnie poddaje się reakcji z czynnikiem utleniającym, takim jak nadtlenek wodoru, celem otrzymania związku o wzorze IV, w którym n oznacza 1 lub 2, lub związek o wzorze VII
Re (VII) w którym Ró ma znaczenia wyżej podane dla wzoru II, poddaje się reakcji ze związkiem o wzorze QX1, w którym Q jest grupą kwasową, korzystnie, funkcją kwasu nieorganicznego, zwłaszcza takiego jak SO2X1, a X1 oznacza grupę odszczepialną, po czym wytworzony związek o wzorze IV, w którym n oznacza 0, ewentualnie poddaje się reakcji z czynnikiem utleniającym, takim jak nadtlenek wodoru, celem otrzymania związku o wzorze IV, w którym n oznacza 1 lub 2, przy czym powyższe reakcje prowadzi się, korzystnie w obecności rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika lub w ich mieszaninie, pod normalnym albo podwyższonym ciśnieniem, w temperaturze w zakresie od -80°C do temperatury wrzenia mieszaniny reakcyjnej.
Według wynalazku sposób wytwarzania związku pośredniego o wzorze VII, określonego powyżej, charakteryzuje się tym, że związek o wzorze VI, również określony powyżej, poddaje się reakcji ze związkiem o wzorze RóX2, w którym Ró ma znaczenia podane dla wzoru II, a X2 jest grupą opuszczającą przy czym proces prowadzi się, korzystnie w obecności rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika lub w ich mieszaninie, pod normalnym albo podwyższonym ciśnieniem, w temperaturze w zakresie od -80°C do temperatury wrzenia mieszaniny reakcyjnej.
Według wynalazku nowy związek pośredni stanowi powyżej określony związek o wzorze IV, pod warunkiem, ze n oznacza 1 lub 2, jeśli Ró oznacza metyl, a Xi oznacza chlor.
Ponadto, według wynalazku nowy związek pośredni stanowi powyżej określony związek o wzorze VII.
Znaczenie ogólnych terminów stosowanych w niniejszym opisie wskazano poniżej.
Każda z grup zawierających węgiel oraz każdy ze związków zawiera, o ile nie zdefiniowano inaczej, 1 do 8, korzystnie 1 do 6, w szczególności 1 do 4, zwłaszcza 1 lub 2 atomy węgla.
Halogen jest korzystnie chlorem lub bromem.
Alkil - jako grupa per se oraz jako element strukturalny innych grup, przykładowo, alkoksylowych i alkilotiolowych - jest (w zależności od liczby atomów węgla) zarówno grupą prostołańcuchową, tj. metylem, etylem, propylem, butylem, pentylem lub heksylem, lub grupą rozgałęzioną, na przykład izopropylem, izobutylem, sec-butylem, tert-butylem, izopentylem lub izoheksylem.
Cykloalkil - jest cyklopropylem, cyklobutylem lub cykloheksylem, korzystnie cyklopropylem.
Alkilen - jako element strukturalny grup, takich jak (alkilen)SH, jest (w zależności od liczby atomów węgla) zarówno grupą prostołańcuchową, na przykład -CH2-, -CH2CH2-, -CH2CH2CH2- lub -CH2CH2CH2CH2-, oraz grupą rozgałęzioną, na przykład -CH(CHa)-, -CH(C2H5)-, -C(CH3)2-, -CH(CH3)CH2- lub -CH(CH3)CH(CH3)-.
Korzystnymi materiałami wyjściowymi do otrzymywania odpowiednich związków o wzorze 1 są:
(1) związek o wzorze II, w którym Y jest NO2;
(2) związek o wzorze II, w którym R3 jest niepodstawionym Ci-Chalkilem, korzystnie
Ci-C2alkilem;
189 519 (3) związek o wzorze II, w którym IR jest niepodstawionym lub podstawionym przez R8 Ci-C4alkilem, fenylem lub naftylem, a zwłaszcza podstawionym przez R8 C1-C2alkilem;
(4) związek o wzorze II, w którym iR jest grupą fenylową lub naftylową.
Szczególnie korzystnym związkiem o wzorze II jest 3-(2-benzylotiotiazol-5-ilometylo)-5-metylo-4-nitroimmo-perhydro-1,3,5-oksadiazyna oraz związki wymienione w tabeli 2.
Poszczególne reakcje (dotyczące wytwarzania związków o wzorze 1, II, IV i VII) są przeprowadzane w typowy sposób, na przykład w nieobecności lub zwykle w obecności właściwego rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika, lub ich mieszaninie, z zastosowaniem, jeśli sytuacja tego wymaga, chłodzenia, temperatury pokojowej lub ogrzewania, na przykład w temperaturze w zakresie od około -80°C do punktu wrzenia środowiska reakcyjnego, korzystnie w około -20°C do około +150°C i, jeśli konieczne, w zamkniętym naczyniu, pod zwiększonym ciśnieniem, w atmosferze gazu obojętnego i/lub w warunkach bezwodnych. Szczególnie korzystne warunki są podane w przykładach realizacji.
Materiały wyjściowe, stosowane do wytworzenia związków o wzorze 1, są znane, lub jeśli są nowe mogą być otrzymane znanymi sposobami, omówionymi poniżej. Zależnie od sytuacji, materiały wyjściowe są stosowane w postaci wolnej lub w postaci soli.
Wariant a)
Odpowiednimi czynnikami chlorującymi są przykładowo, chlor elementarny, woda z Javelle, dwuchlorek polisiarki, dwuchlorek siarki, trójchlorek fosforu, pięciochlorek fosforu lub mieszaniny dwóch lub więcej niż dwóch spośród tych związków, korzystnie chloru elementarnego, wody z Javelle, dwuchlorku siarki lub mieszaniny tych dwóch związków, szczególnie korzystnie chloru elementarnego lub wody- z Javelle.
Substraty mogą reagować ze sobą bez dodatku rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika. Jednakże może być dogodne dodanie rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika lub ich mieszaniny, w którym to przypadku ich ilość nie zasadniczo istotna. Przykładami takich rozpuszczalników lub rozcieńczalników są: woda; alkohole, takie jak metanol, etanol, propanol, izopropanol, butanol, glikol etylenowy lub glicerol; węglowodory aromatyczne, alifatyczne i alicykliczne oraz węglowodory halogenowane, takie jak benzen, toluen, ksylen, mezytylen, tetralina, chlorobenzen, dichlorobenzen, bromobenzen, eter naftowy, heksan, cykloheksan, dichlorometan, trichlorometan, czterochlorek węgla, dichloroetan, trichloroetan lub tetrachloroetan; etery, takie jak eter dietylowy, eter dipropylowy, eter diizopropylowy, eter dibutylowy, eter tertbutylowometylowy, eter monometylowy glikolu etylenowego, eter monoetylowy glikolu etylenowego, eter dimetylowy glikolu etylenowego, eter dimetoksydietylowy, tetrahydrofiiran lub dioksan; amidy, takie jak N,N-dimetyloformamid, N,N-dietyloformamid, N,N-dimetyloacetamid, N-metylo-pirolidon lub heksametylotriamid kwasu fosforowego; nitryle, takie jak acetonitryl lub propionitryl; i sulfotlenki, takie jak sulfotlenek dimetylowy. Reakcja jest korzystnie przeprowadzana w obecności halogenowanego węglowodoru, w szczególności dichlorometanu lub chlorobenzenu.
Reakcja jest korzystnie przeprowadzana w zakresie temperatur od około -20°C do około +180°C, korzystnie od około 0°C do około +80°C, w wielu przypadkach w zakresie pomiędzy temperaturą pokojową i temperaturą wrzenia mieszaniny reakcyjnej.
W praktycznej realizacji wariantu a) związek II jest poddany reakcji w -10°C do 40°C, korzystnie w 0°C, z czynnikiem chlorującym, korzystnie wodą z Javelle.
Reakcja jest przeprowadzana korzystnie pod ciśnieniem atmosferycznym.
Czas reakcji nie jest zasadniczo istotny; korzystnie czas reakcji wynosi od 0,1 do 48 godzin, w szczególności 0,5 do 24 godzin.
Produkt jest wydzielany za pomocą typowych sposobów, na przykład sączenia, krystalizacji, destylacji lub chromatografii lub jakiejkolwiek odpowiedniej kombinacji tych sposobów Wydajności uzyskane są ogólnie dobre.
Wariant b 1)
Odpowiednie grupy odszczepialne Χ1 w związkach o wzorze IV stanowią, na przykład, hydoksyl, CrCgałkoksyl, halo-CrC8alkoksyl, CrC8alkanoiloksyl, merkapto, CrC8alkilotio,
189 519 halo-Cj-Cgalkilotio, CrCsalkanosulfonyloksyl, halo-Ci-Csalkanosulfonyloksyl, benzenosulfo-nyloksyl, toluenosulfonyloksyl i halogen, korzystnie toluenosulfonyloksyl, trifluorometanosulfonyloksyl i halogen, w szczególności halogen.
Zasadami odpowiednimi dla przyspieszenia reakcji są, przykładowo, wodorotlenek sodowy, wodorek sodowy, amidek sodowy, metanolan sodowy, octan sodowy, węglan sodowy, tert-butanolan potasowy, wodorotlenek potasowy, węglan potasowy, wodorek potasowy, diizopropyloamidek litowy, bis(trimetylosililo)amidek potasowy, wodorek wapnia, trietyloamina, diizopropyloetyloamina, trietylenodiamina, cykloheksyloamina, N-cykloheksylo-N,N-dimetyloamina, N,N-dietyloanilina, pirydyna, 4-(N,N-dimetyloamino)pirydyna, chinuklidyna, N-metylomorfolina, wodorotlenek benzylotrimetyloamoniowy oraz 1,5-diazabicyklo[5.4.0]undec-5-en (DBU).
Substraty mogą reagować ze sobą jako takie, tj. bez dodatku rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika, na przykład w stanie stopionym. W większości przypadków, jednakże, dodanie rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika lub ich mieszaniny jest dogodne. Przykładami takich rozpuszczalników lub rozcieńczalników są: woda; węglowodory aromatyczne, alifatyczne i alicykliczne oraz węglowodory halogenowane, takie jak benzen, toluen, ksylen, mezytylen, tetralina, chlorobenzen, dichlorobenzen, bromobenzen, eter naftowy, heksan, cykloheksan, dichlorometan, trichlorometan, czterochlorek węgla, dichloroetan, trichloroetan lub tetrachloroetan; estry, takie jak octan etylu; etery, takie jak eter dietylowy, eter dipropylowy, eter diizopropylowy, eter dibutylowy, eter tert-butylowometylowy, eter monometylowy glikolu etylenowego, eter monoetylowy glikolu etylenowego, eter dimetylowy glikolu etylenowego, eter dimetoksydietylowy, tetrahydrofuran lub dioksan;ketony, takie jak aceton, keton metylowoetylowy lub keton metylowoizobutylowy; alkohole, takie jak metanol, etanol, propanol, izopropanol, butanol, glikol etylenowy lub glicerol; amidy, takie jak N,N-dimetyloformamid, N,N-dietyloformamid, N,N-dimetyloacetamid, N-metylo-pirolidon lub heksametylotriamid kwasu fosforowego; nitryle, takie jak acetonitryl lub propionitryl; i sulfotlenki, takie jak sulfotlenek dimetylowy. Jeśli reakcja jest przeprowadzana w obecności zasady stosowanej w nadmiarze, takiej jak trietyloamina, pirydyna, N-metylomorfolina lub N,N-dietyloanilina, to ta zasada może również pełnić rolę ropzuszczalnika lub rozcieńczalnika.
Reakcja może być również przeprowadzana w heterogennej mieszaninie dwufazowej, na przykład w mieszaninie rozpuszczalnika organicznego i wodnego roztworu zasady, jeśli konieczne w obecności katalizatora przeniesienia fazowego takiego jak eter koronowy lub sól tetraalkiloamoniowa.
Reakcja jest korzystnie przeprowadzana w zakresie temperatur od około 0°C do około +180°C, korzystnie od około +10°C do około +80°C, w wielu przypadkach w zakresie pomiędzy temperaturą pokojową i temperaturą wrzenia mieszaniny reakcyjnej.
W praktycznej realizacji wariantu b1) związek o wzorze IV jest poddany reakcji w 0°C do 120°C, korzystnie 20°C do 80°C, w szczególności 60°C do 80°C, w amidzie, korzystnie N,N-dimetyloformamidzie, ze związkiem o wzorze V.
Reakcja jest przeprowadzana korzystnie pod ciśnieniem atmosferycznym.
Czas reakcji nie jest zasadniczo istotny; korzystnie czas reakcji wynosi od 0,1 do 48 godzin, w szczególności 0,5 do 24 godzin.
Produkt jest wydzielany za pomocą typowych sposobów, na przykład sączenia, krystalizacji, destylacji lub chromatografii lub jakiejkolwiek odpowiedniej kombinacji tych sposobów. Wydajności uzyskane są ogólnie dobre.
Wariant b2)
Odpowiednie czynniki chlorujące są, na przykład, tego rodzaju jak przedstawione w wariancie a).
Substraty mogą reagować ze sobą jako takie, tj. bez dodatku rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika, na przykład w stanie stopionym. W większości przypadków, jednakże, dodanie rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika lub ich mieszaniny jest dogodne. Właściwe rozpuszczalniki lub rozcieńczalniki są, na przykład, tego rodzaju jak przedstawione w wariancie a).
189 519
Reakcja jest korzystnie przeprowadzana w zakresie temperatur od około -20°C do około +180°C, korzystnie od około 0°C do około +80°C, w wielu przypadkach w zakresie pomiędzy temperaturą pokojową i temperaturą wrzenia mieszaniny reakcyjnej.
W praktycznej realizacji wariantu b2) związek o wzorze II jest poddany reakcji z czynnikiem chlorującym, korzystnie chlorem elementarnym lub wodą z Javelle, w -10°C do 40°C, korzystnie 0°C. ’
Reakcja jest przeprowadzana korzystnie pod ciśnieniem atmosferycznym.
Czas reakcji nie jest zasadniczo istotny; korzystnie czas reakcji wynosi od 0,1 do 48 godzin, w szczególności 0,5 do 24 godzin.
Produkt jest wydzielany za pomocą typowych sposobów, na przykład sączenia, krystalizacji, destylacji lub chromatografii lub jakiejkolwiek odpowiedniej kombinacji tych sposobów. Wydajności uzyskane są ogólnie dobre.
Związek o wzorze II, stanowiący substrat w procesie wytwarzania związku o wzorze 1, może być otrzymany, przykładowo, zgodnie ze sposobem zdefiniowanym w wariancie b1).
Związek o wzorze IV, stosowany w procesie wytwarzania związku o wzorze 1 (poprzez związek pośredni o wzorze II), może być otrzymany w wyniku reakcji znanego związku o wzorze VI ze związkiem o wzorze 1R>X2, a następnie poprzez reakcję związku o wzorze VII ze związkiem o wzorze QX1, celem uzyskania związków o wzorze IV, w których n wynosi 0, które, jeśli żądane, mogą zostać przekształcone dalej w związki o wzorze IV, w których n wynosi 1 lub 2, poprzez zastosowanie czynnika utleniającego, takiego jak w szczególności nadtlenek wodoru.
Związek o wzorze IV może być również otrzymany, przykładowo, poprzez prowadzenie tylko powyżej określonej reakcji związku o wzorze VII ze związkiem o wzorze QX1, celem uzyskania związku o wzorze IV, w którym n wynosi 0, i, jeśli żądane, poddanie dalszej reakcji związku o wzorze IV, w którym n wynosi 0, z czynnikiem utleniającym, takim jak nadtlenek wodoru, celem otrzymania związku o wzorze IV, w którym n wynosi 1 lub 2.
Związek o wzorze VII, stosowany do wytwarzania związku o wzorze IV, lub II, lub 1, może, przykładowo, otrzymany w wyniku reakcji związku o wzorze VI ze związkiem o wzorze R6X2, korzystnie w obecności zasady.
W procesie wytwarzania poszczególnych związków stosuje się materiały wyjściowe lub półprodukty możliwe do otrzymania w którymkolwiek z omówionych etapów postępowania. W szczególności, jest stosowany materiał wyjściowy utworzony w warunkach reakcji w postaci pochodnej lub soli i/lub jej racematu lub enancjomerów.
W przykładach H1 do H8 zilustrowano sposób według wynalazku, przy czym temperatury podano w stopniach Celsjusza, zaś dane w procentach oznaczają „procent wagowy”, o ile nie wskazano inaczej.
Przykład H1: 2-Benzylotio-5-chlorometylotiazol (Związek nr 1.1 w tabeli 1)
3,2 g 2-Benzylo-5-metyleno-4H-tiazoliny rozpuszczono w 50 ml di-chlorometanu i, mieszając, dodano 0,9 g sproszkowanego kwaśnego węglanu sodowego. Kolejno mieszaninę ochłodzono w łaźni z lodem, wkroplono do niej 1,92 g chlorku sulfurylu w 5 ml dichlorometanu i mieszanie kontynuowano następnie przez dalsze 45 minut. Mieszaninę reakcyjną przesączono, przesącz odparowano, a pozostałość przekrystalizowano z eteru naftowego uzyskując 1,4 g tytułowego związku w postaci kryształów topiących się w 57 do 58°.
Przykład H2: 3-(2-Benzylotiotiazol-5-ilometylo)-5-metylo-4-nitroimino-perhydro-1,3,5-oksadiazyna (Związek nr 2.4 w tabeli 2)
0,8 g 2-Benzylotio-5-chlorometylotiazolu, 0,35 g 3-metylo-4-nitroimino-perhydro-1,3,5-oksadiazyny i 0,8 g sproszkowanego węglanu potasowego zmieszano w 40 ml N,N-d1metyloformamidu i mieszaninę mieszano w 60° przez 2 godziny. Mieszaninę reakcyjną przesączono, przesącz odparowano pod zmniejszonym ciśnieniem, a pozostałość wyługowywano eterem dietylowym/izopropanolem (5:1) uzyskując 0,6 g tytułowego związku w postaci kryształów topiących się w 140 do 145° (rozkład).
Przykład H3: 3-(2-Chlorotiazol-5-ilometylo)-5-metylo-4-nitroimino-perhydro-1,3,5-oksadiazyna (Związek nr 3.1 w tabeli 3)
189 519 g 3-(2-Ben2ylotrzyiazol-i-ilomeiyln)-5yme-y-o-4-nllroiminOinerhyPro-l,3,5-oksadlazyny rozpuszczono w mieszaninie 10 ml 4N wodnego kwasu solnego, 20 g lodu i 30 ml dichlorometanu, i wkroplono do tego roztworu, mieszając, 30 g wody z Javelle. Po 30 minutach mieszania fazę organiczną oddzielono, fazę wodną ekstrahowano wielokrotnie niewielką ilością dichlorometanu i połączone fazy organiczne, kolejno, wysuszono siarczanem sodowym i odparowano pod zmniejszonym ciśnieniem. Oleistą pozostałość rozpuszczono w tetrahydrofuranie i wytrącono heksanem, w wyniku czego produkt osadził się na ściankach naczynia w postaci przylegającego materiału. Rozpuszczalnik zdekantowano, pozostałość rozpuszczono ponownie w tetrahydrofuranie i roztwór powoli zatężano, uzyskując 0,84 g tytułowego związku w postaci pseudokrystalicznej żywicy. Próbkę tej żywicy oczyszczono chromatograficznie [zel krzemionkowy; dichlorometan/metanol (95:5)] uzyskując kryształy topiące się w 132 do 135°.
Przykład H4: 3-(2-Chlorotiazol-5-ilometylo)-5-metylo-4-nitroimino-perhydro-1,3,5-oksadiazyna (Związek nr 3.1 w tabeli 3)
Do mieszaniny 300 g wodnego kwasu solnego (32%) i 150 g chlorobenzenu dodano, mieszając, 183 g 5-metylo-4-mtroimino-3-(2-fenylotiotiazol-5-ilometylo)-perhydro-1,3,5-oksadiazyny w ciągu 5 minut. Następnie przez mieszaniną przepuszczano 124 g chloru w 20 do 25° w ciągu 4 godzin. Po mieszaniu przez kolejne 2 godziny nadmiar chloru usunięto wprowadzając azot i fazę wodną (zawierającą tytułowy związek w postaci chlorowodorku) oddzielono i doprowadzono do pH 5 za pomocą wodnego roztworu wodorotlenku sodowego (30%). Krystaliczny osad odsączono, przemyto wodą i wysuszono w 50° w próżni, uzyskując 132 g tytułowego związku (czystość: 97%), topiącego się w 132 do 135°.
Przykład H5: 3-(2-Chlorotiazol-5-ilometylo)-5-metylo-4-nitroimino-perhydro-1,3,5-oksadiazyna (Związek nr 3.1 w tabeli 3)
Do mieszaniny 300 g wodnego kwasu solnego (32%) i 150 g chlorobenzenu dodano, mieszając, 186 g 3-(2-cykloheksylotiotia.zol-5-ilometylo)-5-metylo-4-nitroimino-perhydro-1,3,5-oksadiazyny w ciągu 5 minut. Następnie przez mieszaninę przepuszczano 124 g chloru w 20 do 25° w ciągu 4 godzin. Po mieszaniu przez kolejne 2 godziny nadmiar chloru usunięto wprowadzając azot i fazę wodną (zawierającą tytułowy związek w postaci chlorowodorku) oddzielono i doprowadzono do pH 5 za pomocą wodnego roztworu wodorotlenku sodowego (30%). Krystaliczny osad odsączono, przemyto wodą i wysuszono w 50° w próżni, uzyskując 135 g tytułowego związku (czystość: 97%), topiącego się w 132 do 135°.
Przykład h6: 3-(2-Chlorotiazol-5-ilometylo)-5-metylo-4-nitroimino-perhydro-1,3,5-oksadiazyna (Związek nr 3.1 w tabeli 3)
Do mieszaniny 300 g wodnego kwasu solnego (32%) i 150 g chlorobenzenu dodano, mieszając, 190 g 3-(2-benzylotiotiazol-5-ilometylo)-5-metylo-4-nitroimino-perhydro-1,3,5-oksadiazyny w ciągu 5 minut. Następnie przez mieszaninę przepuszczano 124 g chloru w 20 do 25° w ciągu 4 godzin. Po mieszaniu przez kolejne 2 godziny nadmiar chloru usunięto wprowadzając azot i fazę wodną (zawierającą tytułowy związek w postaci chlorowodorku) oddzielono i doprowadzono do pH 5 za pomocą wodnego roztworu wodorotlenku sodowego (30%). Krystaliczny osad odsączono, przemyto wodą i wysuszono w 50° w próżni, uzyskując 120 g tytułowego związku (czystość: 97%), topiącego się w 132 do 135°.
Przykład H7: 2-Benzylotio-5-metyleno-4H-tiazolina (Związek nr 1,2a w tabeli 1a)
Mieszaninę 6,5 g 5-metyleno-2-tioksotiazoliny, 17,3 g sproszkowanego węglanu potasowego, 9,4 g bromku benzylu i 200 ml acetonitrylu mieszano przez 1 godzinę w 65°. Mieszaninę pozostawiono do ostygnięcia w temperaturze pokojowej, a następnie przesączono i przesącz odparowano do sucha w próżni. Pozostałość oczyszczano chromatograficznie [zel krzemionkowy; heksan/eter dietylowy (1:1)], uzyskując 7,7 g tytułowego związku w postaci bezbarwnego oleju.
Przykład H8: Analogicznie do sposobów ujawnionych w przykładach H1 do H7 mogą być otrzymane również inne związki zestawione w tabelach 1 do 3 Temperatury przedstawione w kolumnach „Dane fizyczne” w tych tabelach w każdym przypadku oznaczają temperaturę topnienia odpowiedniego związku.
189 519
Tabela 1
| Związek nr | n | Xi | R6 | Dane fizyczne |
| 1.1 | 0 | Cl | CH2C6H5 | 57-58° (chlorowodorek 129-131°) |
| 1.2 | 0 | Br | ^6^5 | 99-102° |
Tabela 1a
| Związek nr | R6 | Dane fizyczne |
| 1.1a | CH3 | olej |
| 1.2a | CH2C6H5 | olej |
| 1.3a | CH2CH=CH2 | nD a,:1.5924 |
189 519
Tabela 2
N—V
Re n(0)
Ν'
N—CH3
| Związek nr | n | Y | r6 | Dane fizyczne |
| 2.1 | 0 | NO2 | CH3 | 135-137° |
| 2.2 | 0 | NO2 | N-C3H7 | 67-72° |
| 2.3 | 0 | NO2 | cyklo-H6Hn | 109-110° |
| 2.4 | 0 | NO2 | CH2C6H5 | 140-145° (rozkład) |
| 2.5 | 0 | no2 | C6H5 | 147° |
| 2.6 | 0 | NO2 | C6H4-4-CH3 | 160-162° |
| 2.7 | 0 | NO2 | CH2-CH-CH2-CH2CH-SH | 57-60° |
| 2.8 | 0 | NO2 | C^COjNa | 130-138° (rozkład) |
| 2.9 | 1 | NO2 | CH2C6H5 | 170-180° |
| 2.10 | 2 | NO2 | CH3 | 157° |
| 2.11 | 2 | NO2 | n-C3fy | żywica |
| 2.12 | 2 | NO2 | CH2C6H5 | 160-175° |
| 2.13 | 2 | NO2 | C6H5 | 210 ° |
189 519
Tabela 3
| Związek nr | Wzór strukturalny | Dane fizyczne |
| 3.1 | nno2 | 132-135° |
| 3.2 | NCN aYrA'CH· N | 92-93° |
189 519
Departament Wydawnictw UP RP Nakład 50 egz Cena 4,00 zł.
Claims (5)
- Zastrzeżenia patentowe1. Sposób wytwarzania związków 2-chlorotiazolowvch o wzorze 1 w którymY oznacza NO2 lub CN, a R3 oznacza niepodstawiony C- -Cgalkil, znamienny tym, zea) związek o wzorze II w którym Y i R3 są jak zdefiniowane dla wzoru 1, n oznacza 0, 1 lub 2,Ró oznacza niepodstawiony lub podstawiony przez Rg Ci-Cgalkil, niepodstawiony CŁ-Cyeykloalkil albo niepodstawioną lub podstawioną przez R7 grupę fenylową lub naftylową,R7 oznacza niepodstawiony Ci-Cgalkil,Rg oznacza niepodstawioną grupę fenylową lub naftylową, -COOH, -COOM, w której M oznacza metal alkaliczny, lub -SH, poddaje się reakcji z czynnikiem chlorującym, wybranym z grupy obejmującej wolny chlor, wodę z Javelle, dwuchlorek polisiarki, dwuchlorek siarki, trójchlorek fosforu, pięciochlorek fosforu i ich mieszaniny, lub bl) związek o wzorze IV (IV) w postaci wolnej lub w postaci soli, w którym R i n są jak zdefiniowane dla wzoru II, zaś X- jest grupą odszczepialną, poddaje się reakcji, ewentualnie w obecności zasady, wybranej z grupy obejmującej wodorotlenki metali alkalicznych lub metali ziem alkalicznych, wodorki, amidy, C-Cgalkanolany, octany,189 519 węglany, di-Ci-Cgalkiloamidy, Ci-Csalkilosililoamidy, Ci-C8alkiloaminy, Ci-C8alkilenodiaminy^, wolne lub N- Ci-C8alkilowane, nasycone lub nienasycone C3-C6cykloalkiloaminy, pirydynę, 4-(N,N-dimetyloamino)-pirydynę, chinuklidynę, N-metylomorfolinę, wodorotlenek amonowy oraz 1,5-diazabicyklo[5.4.0]undek-5-en, ze związkiem o wzorze V którym R3 i Y są, jak zdefiniowane dla wzoru I, i b2) otrzymany związek o wzorze II, ewentualnie wyodrębniony, poddaje się dalszej reakcji z powyżej określonym czynnikiem chlorującym, przy czym reakcje według wariantu a) lub wariantu b) prowadzi się, korzystnie w obecności rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika lub w ich mieszaninie, pod normalnym albo podwyższonym ciśnieniem, w temperaturze w zakresie od -80°C do temperatury wrzenia mieszaniny reakcyjnej, w czasie od 0,1 do 48 godzin.
- 2. Sposób wytwarzania związku pośredniego o wzorze IV, określonego w zastrz. 1, znamienny tym, ze związek o wzorze VIHN (V!) poddaje się reakcji ze związkiem o wzorze R6X2, w którym R^ ma znaczenia przedstawione dla wzoru II w zastrz. 1, a X2 oznacza grupę opuszczającą, i kolejno, wytworzony związek o wzorze VII, zdefiniowany poniżej, poddaje się reakcji ze związkiem wzorze QX1, w którym Q jest grupą kwasową. korzystnie, funkcją kwasu nieorganicznego, zwłaszcza takiego jak SO2X1, a X, oznacza grupę odszczepialną, po czym wytworzony związek o wzorze IV, w którym n oznacza 0, ewentualnie poddaje się reakcji z czynnikiem utleniającym, takim jak nadtlenek wodoru, celem otrzymania związku o wzorze IV, w którym n oznacza 1 lub 2, lub związek o wzorze VIIRe (VII) w którym R6 ma znaczenia podane dla wzoru II w zastrz. 1, poddaje się reakcji ze związkiem o wzorze QX1, w którym Q jest grupą kwasową, korzystnie, funkcją kwasu nieorganicznego, zwłaszcza takiego jak SO2X-, a Xj oznacza grupę odszczepialnńą po czym wytworzony związek o wzorze IV, w którym n oznacza 0, ewentualnie poddaje się reakcji z czynnikiem utleniającym, takim jak nadtlenek wodoru, celem otrzymania związku o wzorze IV, w którym n oznacza 1 lub 2,189 519 przy czym powyższe reakcje prowadzi się, korzystnie w obecności rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika lub w ich mieszaninie, pod normalnym albo podwyższonym ciśnieniem, w temperaturze w zakresie od -80°C do temperatury wrzenia mieszaniny reakcyjnej.
- 3. Sposób wytwarzania związku pośredniego o wzorze VII, określonego w zastrz. 2, znamienny tym, ze związek o wzorze VI, określony w zastrz. 2, poddaje się reakcji ze związkiem o wzorze ^5X2, w którym Rg ma znaczenia podane dla wzoru II w zastrz. 1, a X2 jest grupą opuszczającą, przy czym proces prowadzi się, korzystnie w obecności rozpuszczalnika lub rozcieńczalnika lub w ich mieszaninie, pod normalnym albo podwyższonym ciśnieniem, w temperaturze w zakresie od -80°C do temperatury wrzenia mieszaniny reakcyjnej.
- 4. Związek pośredni o wzorze IV, jak określono w zastrz. 1, pod warunkiem, ze n oznacza 1 lub 2, jeśli Rć oznacza metyl, a Xi oznacza chlor.
- 5. Związek pośredni o wzorze VII, jak określono w zastrz. 2.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH341295 | 1995-12-01 | ||
| PCT/IB1996/001329 WO1997020829A1 (en) | 1995-12-01 | 1996-12-02 | Process for preparing 2-chlorothiazole compounds |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL326973A1 PL326973A1 (en) | 1998-11-09 |
| PL189519B1 true PL189519B1 (pl) | 2005-08-31 |
Family
ID=4255435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL96326973A PL189519B1 (pl) | 1995-12-01 | 1996-12-02 | Sposób wytwarzania związków 2-chlorotiazolowych, sposób wytwarzania związków pośrednich oraz związki pośrednie |
Country Status (21)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6211381B1 (pl) |
| EP (1) | EP0873326B1 (pl) |
| JP (1) | JP4142100B2 (pl) |
| KR (2) | KR100489160B1 (pl) |
| CN (2) | CN1083446C (pl) |
| AR (1) | AR004984A1 (pl) |
| AT (1) | ATE309230T1 (pl) |
| AU (1) | AU7636896A (pl) |
| BR (1) | BR9611666A (pl) |
| CA (2) | CA2591794A1 (pl) |
| CZ (2) | CZ301539B6 (pl) |
| DE (1) | DE69635421T2 (pl) |
| DK (1) | DK0873326T3 (pl) |
| ES (1) | ES2252762T3 (pl) |
| HU (1) | HUP9903701A3 (pl) |
| IL (3) | IL139175A (pl) |
| MX (1) | MX9804301A (pl) |
| PL (1) | PL189519B1 (pl) |
| TW (1) | TW480255B (pl) |
| WO (1) | WO1997020829A1 (pl) |
| ZA (1) | ZA9610046B (pl) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW240163B (en) * | 1992-07-22 | 1995-02-11 | Syngenta Participations Ag | Oxadiazine derivatives |
| DE4425145A1 (de) * | 1994-07-15 | 1996-01-18 | Basf Ag | Verwendung von Thiazol- und Thiadiazolverbindungen |
| CZ296558B6 (cs) * | 1996-12-19 | 2006-04-12 | Syngenta Participations Ag | Zpusob prípravy derivátu thiazolu a meziprodukt tohoto zpusobu |
| US6548676B1 (en) * | 1996-12-19 | 2003-04-15 | Syngenta Crop Protection, Inc. | Preparation of thiazoles |
| CN100379731C (zh) * | 2000-08-23 | 2008-04-09 | 辛根塔参与股份公司 | 制备杀虫氯噻唑的连续方法 |
| TWI359810B (en) | 2004-11-04 | 2012-03-11 | Mitsubishi Tanabe Pharma Corp | Carboxylic acid derivative containing thiazole rin |
| WO2007126043A1 (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Mitsubishi Tanabe Pharma Corporation | チアゾール環を含むカルボン酸誘導体の医薬用途 |
| EP2065374A1 (de) | 2007-11-30 | 2009-06-03 | Bayer CropScience AG | 2-(Benzyl- und 1H-pyrazol-4-ylmethyl)sulfinyl-Thiazol-Derivate als Herbizide und Pflanzenwachstumsregulatoren |
| AU2015203829B2 (en) * | 2007-11-30 | 2017-02-23 | Bayer Intellectual Property Gmbh | 2-(benzyl- and 1H-pyrazol-4-ylmethyl)sulfinyl thiazole derivatives as herbicides and plant growth regulators |
| JP2011193857A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | N−カルバモイルアミノ化合物の製造方法 |
| GB2514927B (en) * | 2014-05-28 | 2019-04-17 | Rotam Agrochem Int Co Ltd | Thiamethoxam and uses thereof |
| WO2016057931A1 (en) | 2014-10-10 | 2016-04-14 | The Research Foundation For The State University Of New York | Trifluoromethoxylation of arenes via intramolecular trifluoromethoxy group migration |
| BR112019017448A2 (pt) * | 2017-02-26 | 2020-04-07 | Oat Agrio Co Ltd | compostos de tiazol e herbicida |
| CN107474022B (zh) * | 2017-09-07 | 2020-06-26 | 连云港立本作物科技有限公司 | 噻唑基新烟碱化合物及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0192060B1 (de) * | 1985-02-04 | 1991-09-18 | Nihon Bayer Agrochem K.K. | Heterocyclische Verbindungen |
| DE3712307A1 (de) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Bayer Ag | 3-substituierte 1-(2-chlor-thiazol-5-yl-methyl)-2- nitroimino-1,3-diazacycloalkane |
| IE960442L (en) * | 1988-12-27 | 1990-06-27 | Takeda Chemical Industries Ltd | Guanidine derivatives, their production and insecticides |
| CA2044755A1 (en) * | 1990-06-18 | 1991-12-19 | Bunji Natsume | Pyrazolecarboxamide, insecticidal and miticidal composition, and fungicidal composition for use in agriculture and horticulture |
| IL99161A (en) * | 1990-08-17 | 1996-11-14 | Takeda Chemical Industries Ltd | History of guanidine A process for their preparation and preparations from pesticides that contain them |
-
1996
- 1996-11-29 ZA ZA9610046A patent/ZA9610046B/xx unknown
- 1996-12-01 TW TW085114834A patent/TW480255B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-12-02 ES ES96939236T patent/ES2252762T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-02 CZ CZ20033398A patent/CZ301539B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1996-12-02 CA CA002591794A patent/CA2591794A1/en not_active Abandoned
- 1996-12-02 IL IL13917596A patent/IL139175A/en not_active IP Right Cessation
- 1996-12-02 IL IL13917496A patent/IL139174A/en not_active IP Right Cessation
- 1996-12-02 EP EP96939236A patent/EP0873326B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-02 DE DE69635421T patent/DE69635421T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-02 CZ CZ19981664A patent/CZ295996B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1996-12-02 KR KR10-1998-0704017A patent/KR100489160B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-02 PL PL96326973A patent/PL189519B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1996-12-02 AU AU76368/96A patent/AU7636896A/en not_active Abandoned
- 1996-12-02 AR ARP960105458A patent/AR004984A1/es active IP Right Grant
- 1996-12-02 AT AT96939236T patent/ATE309230T1/de active
- 1996-12-02 CA CA002237348A patent/CA2237348C/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-02 BR BR9611666A patent/BR9611666A/pt not_active IP Right Cessation
- 1996-12-02 US US09/077,569 patent/US6211381B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-12-02 HU HU9903701A patent/HUP9903701A3/hu unknown
- 1996-12-02 WO PCT/IB1996/001329 patent/WO1997020829A1/en not_active Ceased
- 1996-12-02 JP JP52111697A patent/JP4142100B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-02 IL IL12431196A patent/IL124311A0/xx not_active IP Right Cessation
- 1996-12-02 KR KR10-2004-7015572A patent/KR100519189B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-02 DK DK96939236T patent/DK0873326T3/da active
- 1996-12-02 CN CN96198745A patent/CN1083446C/zh not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-05-29 MX MX9804301A patent/MX9804301A/es unknown
-
2001
- 2001-05-18 CN CNB011195185A patent/CN1219773C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PL189519B1 (pl) | Sposób wytwarzania związków 2-chlorotiazolowych, sposób wytwarzania związków pośrednich oraz związki pośrednie | |
| US20110306772A1 (en) | Process for the preparation of 2-chloro-5-chloromethyl-thiazole | |
| AU727669B2 (en) | Process for the preparation of thiazole derivatives | |
| EP0850231A1 (en) | Process for preparing a 2-chloro-5-chloromethyl-thiazole compound | |
| KR100520249B1 (ko) | 티아졸 유도체의 제조 방법 | |
| US5157119A (en) | Process for preparing sulfonylureas | |
| WO1997023469A9 (en) | Process for the preparation of 2-chloro-5-chloromethyl-thiazole | |
| US12565493B2 (en) | Method for preparing 2-[2-(2-chlorothiazol-5-yl)-2-oxo-ethyl]sulfanyl-6-hydroxy-3-methyl-5-phenyl-pyrimidin-4-one | |
| US5936093A (en) | Process for preparing pyridylmethyl isothiocyanates | |
| JP4597522B2 (ja) | ハロゲン化2−(3−ブテニルスルファニル)−1,3−チアゾールを製造する方法 | |
| US6462043B1 (en) | Method for producing substituted-2-nitroguanidine derivatives | |
| US5527917A (en) | Process for the preparation of 1,2-benzisothiazoles | |
| AU2006200339B2 (en) | Process for preparing 2-chlorothiazole compounds | |
| AU2002300672B2 (en) | Process for preparing 2-chlorothiazole compounds | |
| IL103416A (en) | Preparation of sulfonylureas | |
| CZ2000568A3 (cs) | Způsob výroby substituovaných 2- nitroguanidinových derivátů | |
| MXPA00001698A (en) | Method for producing substituted-2-nitroguanidine derivatives | |
| JPH0254357B2 (pl) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20101202 |