PL184217B1 - Nowe związki krzemoorganiczne, kompozycja powłokowa i sposób powlekania podłoża - Google Patents
Nowe związki krzemoorganiczne, kompozycja powłokowa i sposób powlekania podłożaInfo
- Publication number
- PL184217B1 PL184217B1 PL96322132A PL32213296A PL184217B1 PL 184217 B1 PL184217 B1 PL 184217B1 PL 96322132 A PL96322132 A PL 96322132A PL 32213296 A PL32213296 A PL 32213296A PL 184217 B1 PL184217 B1 PL 184217B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- group
- groups
- carbon atoms
- compound
- alkylene
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 37
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 27
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 26
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 24
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 19
- -1 1,2,4-benzenetriyl Chemical group 0.000 claims description 18
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 18
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 6
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- VILAVOFMIJHSJA-UHFFFAOYSA-N dicarbon monoxide Chemical group [C]=C=O VILAVOFMIJHSJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 abstract description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 8
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 7
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 6
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 5
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003270 Cymel® Polymers 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000007590 electrostatic spraying Methods 0.000 description 2
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- SLENOLQGWQMIFD-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(propan-2-yloxymethyl)cyclohexane Chemical compound CC(C)OCC1CCC(COC(C)C)CC1 SLENOLQGWQMIFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 10-undecenoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC=C FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- WQMSMTXKOKZPBQ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylheptan-4-one methanol Chemical compound CO.C(C(C)C)C(=O)CC(C)C WQMSMTXKOKZPBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJOUWMMZJISKHY-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)O IJOUWMMZJISKHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLPSPGUBQWMHJZ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(O)OC(=O)C=C OLPSPGUBQWMHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000505 Al2TiO5 Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004609 Impact Modifier Substances 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013036 UV Light Stabilizer Substances 0.000 description 1
- 102100029469 WD repeat and HMG-box DNA-binding protein 1 Human genes 0.000 description 1
- 101710097421 WD repeat and HMG-box DNA-binding protein 1 Proteins 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(octanoyloxy)stannyl] octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCC NBJODVYWAQLZOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- OHBRHBQMHLEELN-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-butoxybutane Chemical compound CC(O)=O.CCCCOCCCC OHBRHBQMHLEELN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- ZXTPJLLIHIDBKQ-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) cyclohexane-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1CCC(C(=O)OCC=C)CC1 ZXTPJLLIHIDBKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- KHAVLLBUVKBTBG-UHFFFAOYSA-N caproleic acid Natural products OC(=O)CCCCCCCC=C KHAVLLBUVKBTBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000005002 finish coating Substances 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- REPYFJZMYFFGJK-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-n-(2-methylpropyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.CC(C)CNC1=NC(N)=NC(N)=N1 REPYFJZMYFFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910021480 group 4 element Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical group C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UACSZOWTRIJIFU-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCO UACSZOWTRIJIFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000006713 insertion reaction Methods 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 description 1
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTBAPWCYTNCZTO-UHFFFAOYSA-N isoindol-1-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)N=CC2=C1 XTBAPWCYTNCZTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZZXKVYTWCYOQX-UHFFFAOYSA-J octanoate;tin(4+) Chemical compound [Sn+4].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O XZZXKVYTWCYOQX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical class C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N polynoxylin Chemical compound O=C.NC(N)=O ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N propan-2-yl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(C)C AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009418 renovation Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229920006114 semi-crystalline semi-aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-RNFDNDRNSA-N tin-123 Chemical compound [123Sn] ATJFFYVFTNAWJD-RNFDNDRNSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical group Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N triethyl orthoformate Chemical compound CCOC(OCC)OCC GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical class C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) benzene-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C(C(=O)OCC=C)=C1 GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001665 trituration Methods 0.000 description 1
- 229940124543 ultraviolet light absorber Drugs 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- MZFGYVZYLMNXGL-UHFFFAOYSA-N undec-10-enoyl chloride Chemical compound ClC(=O)CCCCCCCCC=C MZFGYVZYLMNXGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002703 undecylenic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/14—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Sealing Material Composition (AREA)
Abstract
1 . Nowy zwiazek krzemoorganiczny o ogólnym wzorze W A-[B-SiR1 nR2 3 .n ]y w którym A oznacza grupe karbocykliczna wybrana sposród grup cykloalifatycznych i ugrupowan benze- nu majaca y dostepnych miejsc wiazania, z których kazde znajduje sie przy innym atomie wegla tej grupy karbocyklicznej; grupy B niezaleznie oznaczaja grupe alkilenowa zawierajaca co najmniej jeden eterowy atom tlenu pomiedzy segmentami alkilenowymi, oddzielony od atomu krzemu co najmniej dwoma ato- mami wegla, i/lub co najmniej jedna grupe estrowa -C(O)OR3 - lub -O(O)CR3 - przylaczona do grupy A bezposrednio lub poprzez segment alkilenowy, z tym, ze kazda z tych grup B zawiera 3-20 atomów wegla, przy czym gdy cykloalifatyczna grupe A stanowi grupa norbomanowa, to wówczas jedna z grup B oznacza wiazanie kowalencyjne i jedna z grup B oznacza grupe alkilenowa zawie- rajaca 2-20 atomów wegla.; y oznacza liczbe calkowita 2-6, przy czym gdy A oznacza pierscien benzenowy i B zawiera grupe -C (0)0R 3 - przylaczona do A poprzez karbonylowy atom wegla, to wówczas y oznacza 3; R niezaleznie oznaczaja alkil o 1-20 atomach wegla lub fenyl; R2 niezaleznie oznaczaja atom chlorowca, alkoksyl o 1-20 atomach wegla, fenoksyl, acyloksyl o 1-20 atomach Wegla lub oksysilil; R3 niezaleznie oznaczaja grupy alkilenowe o 2-20 atomach wegla; a n niezaleznie oznaczaja 0, 1 lub 2. (72) Twórcy wynalazku: Lech Wilczek, Wilmington, US Isidor Hazan, Clementon, US Basil V. Gregorovich, Wilmington, US PL PL PL
Description
Przedmiotem wynalazku są nowe związki krzemoorgoniczne, kompozycja powłokowa i sposób powlekania podłoża.
Reaktywne związki krzemoorganiczne są powszechnie stosowane jako środki sprzęgające składniki organiczne i nieorganiczne, np. w klejach, powłokach i szczeliwach. Znalazły one zastosowanie w powłokach zabezpieczających, lakierach samochodowych i powłokach stosowanych na konstrukcjach architektonicznych.
Z GB 1010801 znane są Przemoorgoniczną związki silanowe zdolne do tworzenia na włóknach szklanych powłok odpornych na alkalia. Budowa tych związków jest inna niż budowa związków według wynalazku.
Szczególnie ważne dla producentów w różnych branżach przemysłu i użytkowników powłok jest obniżenie w nich zawartości lotnych substancji organicznych (LbO), zwłaszcza dla spełnienia coraz surowszych norm ochrony środowiska, zatem istnieje zapotrzebowanie na takie kompozycje powłokowe, które umożliwiłyby przestrzeganie tych norm.
Nieoczekiwanie okazało się, iż kompozycje o niższej zawartości LbO można otrzymać dzięki zastosowaniu nowych reaktywnych związków krzemoorgonicznych, a mianowicie zgodnych z wynalazkiem związków o ogólnym wzorze 1
A-[B-SiR'1R23.n]y
184 217 w którym
A oznacza grupę karbocykliczną wybraną spośród grup cykloalifatycznych i ugrupowań benzenu mającą y dostępnych miejsc wiązania, z których każde znajduje się przy innym atomie węgla tej grupy karbocyklicznej;
grupy B niezależnie oznaczają grupę alkilenową zawierającą co najmniej jeden eterowy atom tlenu pomiędzy segmentami alkilenowymi, oddzielony od atomu krzemu co najmniej dwoma atomami węgla, i/lub co najmniej jedną grupę estrową C(O)OR3- lub -O(O)CR przyłączoną do grupy A bezpośrednio lub poprzez segment alkilenowy, z tym, że każda z tych grup B zawiera 3-20 atomów węgla, przy czym gdy cykloalifatyczną grupę A stanowi grupa norbomanowa, to wówczas jedna z grup B oznacza wiązanie kowalencyjne i jedna z grup B oznacza grupę alkilenową zawierającą 2-20 atomów węgla;
y oznacza liczbę całkowitą 2-6, przy czym gdy A oznacza pierścień benzenowy i B zawiera grupę -C(O)OR3-przyłączoną do A poprzez karbonylowy atom węgla, to wówczas y oznacza 3;
R niezależnie oznaczają alkil o 1-20 atomach węgla lub fenyl;
r2 niezależnie oznaczają atom chlorowca, alkoksyl o 1-20 atomach węgla, fenoksyl, acyloksyl o 1-20 atomach węgla lub oksysilil;
R3 niezależnie oznaczają grupy alkilenowe o 2-20 atomach węgla; a n niezależnie oznaczają 0, 1 lub 2.
Zakres wynalazku obejmuje także kompozycję powłokową zawierającą wagowo 5 - 100% reaktywnego związku krzemoorganicznego, 0 - 95% spoiwa polimerycznego, 0 - 30% środka sieciującego, 0 - 30% polimeru zdyspergowanego, 0 - 50% rozpuszczalnika i ewentualnie znane dodatki stosowane w kompozycjach powłokowych, charakteryzującą się tym, że jako reaktywny związek krzemoorganiczny zawiera co najmniej jeden związek o wzorze 1.
Ponadto zakresem wynalazku jest objęty sposób powlekania podłoża kompozycją powłokową zawierającą wagowo 5 - 100% reaktywnego związku krzemoorganicznego, 0 - 95% spoiwa polimerycznego, 0 - 30% środka sieciującego, 0 - 30% polimeru zdyspergowanego, 0 - 50% rozpuszczalnika i ewentualnie znane dodatki stosowane w kompozycjach powłokowych, poprzez nanoszenie warstwy tej kompozycji na podłoże, charakteryzujący się tym, że na podłoże nanosi się kompozycję powłokową zawierającą jako reaktywny związek krzemoorganiczny co najmniej jeden związek o wzorze 1.
Określenie grupa cykloalifatyczna (grupa A) oznacza nasyconą grupę zawierającą jeden lub więcej pierścieni karbocyklicznych, skondensowanych lub połączonych wiązaniami kowalencyjnymi. Każde z dostępnych miejsc wiązania w grupie A znajduje się przy innym atomie węgla w karbocyklicznej grupie A. Korzystnie A oznacza grupę cykloheksylową lub norbomylenową.
Gdy B oznacza wiązanie kowalencyjne, to wówczas atom krzemu jest związany bezpośrednio z atomem węgla stanowiącym część pierścienia karbocyklicznego A.
B może także oznaczać grupę alkilenową zawierającą jeden lub więcej eterowych atomów tlenu usytuowanych między segmentami alkilenowymi, takąjak grupa -CH^0(CH2)3-.
Ponadto B może oznaczać grupę alkilenową zawierającą grupę estrową usytuowaną pomiędzy segmentami alkilenowymi, takąjak grupa -CHA)(O)C'(CH2)m-, w której m oznacza liczbę całkowitą 2-20.
B może oznaczać również grupę -C(O)OR3-, takąjak grupa -C(O)O(CH2)m-, lub grupę -OC(O)R3-, takąjak grupa -O(O)C(CH2)m-, gdzie m oznacza liczbę 2-20.
W korzystnych związkach grupę A stanowi 1,4-cykloheksylen, 1.2.4-benzenotriyl lub grupa o wzorze
184 217
Ta grupa norbomanowa pochodzi od 5-winylo-2-norbomenu, a wiązanie po prawej stronie najprawdopodobniej jest przyłączone w pozycji 2 lub 3, albo w obu tych pozycjach, przy czym bez doświadczalnego sprawdzenia produktu reakcji należy przyjąć, iż możliwa jest każda inna pozycja.
W innych korzystnych związkach n oznacza O i/lub R2 oznacza atom chlorowca (szczególnie chloru) lub alkoksyl. Szczególnie korzystną grupą R2 jest n-alkoksyl o 1-4 atomach węgla, zwłaszcza metoksyl lub etoksyl, a szczególnie metoksyl.
R2 może też oznaczać oksysilil o wzorze -OSi=, w którym z wolnymi wiązaniami przy atomie krzemu (z prawej strony) mogą być połączone takie grupy jak alkil lub inny oksysilil, np. wyżej zdefiniowane grupy R^R-j-n-, oligomeryczny siloksan zawierający szereg grup -Si(RI)2OSi(R1)2 zawierającą do 10 atomów krzemu, korzystnie 1-5, a zwłaszcza 1-3 atomów krzemu. Gdy n nie oznacza O, to wówczas R1 korzystnie oznacza metyl. Korzystnie y oznacza 2 lub 3, a zwłaszcza 2.
Przykładowe konkretne związki według wynalazku to
R43Si—(CH^-R^^ SlR
R43Si—(CH22)—O-CH—
R4?)Si—(CH2)— CO— CH2CH2-O2 C—(Cl-y—SiR
R43Si-(CH2)z— 02C-^^-C022CH2x““SiR43 CO2-(CH2)z— SiR43
O
O
R43S1—(CH-)z—C—O
<CH2)z—S1R43 w których z oznacza 2-20, a podstawniki r4 niezależnie oznaczają atom chlorowca, alkoksyl o 1-20 atomach węgla, fenoksyl, acyloksyl o 1-20 atomach węgla lub oksysilil. Pomiędzy atomem krzemu i grupą A powinien znajdować się przyłączony do atomu krzemu łańcuch o co najmniej trzech sąsiadujących ze sobą atomach węgla.
Korzystnie r4 oznacza atom chlorowca lub metoksyl, a zwłaszcza metoksyl.
Związki według wynalazku najwygodniej wytwarza się drogą hydrosililowania odpowiednich funkcjonalnych olefin. To hydrosililowanie można prowadzić po przyłączeniu funkcjonalnej olefiny do grupy cykloalifatycznej. Można też prowadzić hydrosililowanie olefiny, a następnie sililowany związek przyłączyć do grupy cykloalifatycznej, np. drogą estryfikacji. Przykłady syntez tego typu są opisane w literaturze. W szczególności procesy hydrosililowania opisano w E.Y.Lukevits i inni. Organie Insertion Reactions of Group IV Elements (Consultants Bureau, Nowy Jork, 1996) oraz w B.Marciniel i inni, Comprehensive Handbook on Hydrosililation, (Pergamon Press, 4 Oksford 1992).
Inny sposób wytwarzania związków według wynalazku, w procesie rodnikowym, a nie w procesie katalizowanym metalami przejściowymi, ujawniono w US 5527936.
184 217
W związkach według wynalazku reaktywne podstawniki atomów krzemu, takie jak alkoksyl lub atom chlorowca, można hydrolizować lub poddawać innym reakcjom dla poprawienia adhezji, usieciowania itp.
Związki według wynalazku są użyteczne przede wszystkim w kompozycjach powłokowych, w których mogą stanowić substancje reaktywne w procesach sieciowania polimerów zawierających grupy funkcyjne, takie jak grupy hydroksylowe. Przypuszcza się że związki te nie tylko dostarczają reaktywnych grup funkcyjnych w powłoce, ale także, ze względu na obecność grupy cykloalifatycznej, zapewniają dobre właściwości powłoki, to jest lepszą twardość, giętkość, odporność na zarysowanie i większą szybkość sieciowania.
Związki według wynalazku są użyteczne jako składniki kompozycji powłokowych, zwłaszcza lakierów samochodowych, zarówno przezroczystych, jak i barwnych.
Taka kompozycja powłokowa, przed i/lub po naniesieniu na podłoże, musi zawierać składnik błonotwórczy w postaci składników polimerycznych, zwany spoiwem lub stałymi substancjami spoiwowymi, rozpuszczony, zemulgowany lub zdyspergowany w rozpuszczalniku organicznym lub w ciekłym nośniku.
Do stałych substancji spoiwowych należą zasadniczo wszystkie normalnie stałe, niepłynne składniki polimeryczne kompozycji. Na ogół katalizatorów, pigmentów i niepolimerycznych dodatków chemicznych, takich jak stabilizatory, nie uważa się za stałe substancje spoiwowe. Substancje stałe nie będące spoiwami, inne niż pigmenty, zwykle nie stanowią więcej w niż 5% wagowych kompozycji. Stosowane tu określenie spoiwo obejmuje polimery krzemo-organiczne, zdyspergowane polimery i wszystkie inne ewentualnie obecne polimery błonotwórcze.
Nanoszona kompozycja powłokowa zawiera korzystnie 50 - 100% wagowych spoiwa i 0 - 50% wagowych nośnika w postaci rozpuszczalnika organicznego, przy czym nie wlicza się tu związków według wynalazku, które pełnią podwójną funkcję rozpuszczalnika i składnika spoiwowego. Spoiwo w kompozycji powłokowej może zawierać do 100% reaktywnych związków krzemoorganicznych, korzystnie 5 - 80%, a zwłaszcza 20 - 60% wagowych w przeliczeniu na masę spoiwa.
Kompozycja powłokowa może ewentualnie zawierać także polimer z funkcyjnymi grupami silanowymi, polimer z funkcyjnymi grupami hydroksylowymi i/lub polimer zawierający obydwa te rodzaje grup funkcyjnych, np. ujawniony w US 5244959.
Przykładowo polimer silanowy w spoiwie może mieć wagowo średnią masę cząsteczkową około 1000 - 30000 i liczbowo średnią masę cząsteczkową około 500 - 10000 (wszystkie wartości masy cząsteczkowej określone metodą żelowej chromatografii permeacyjnej z użyciem wzorca polistyrenowego).
Zgodnie z wynalazkiem można także stosować inne polimery błonotwórcze i/lub polimery sieciujące w roztworach. Do przykładowych takich substancji należą polimery akrylowe, celulozowe, aminoplasty, uretany, poliestry, epoksydy i ich mieszaniny. Jednym z korzystnych ewentualnie stosowanych polimerów jest poliol, np. akrylowy polimer poliolowy w roztworze ze spolimeryzowanych monomerów. Do takich monomerów mogą należeć np. akrylany alkilu i/lub metakrylany alkilu, a ponadto akrylany lub metakrylany hydroksyalkilu. Polimer poliolowy korzystnie ma liczbę hydroksylową 50 - 200 i wagowo średnią masę cząsteczkową około 1000 - 200000, korzystnie około 1000 - 20000.
Dla zapewnienia hydroksylowych grup funkcyjnych w poliolu do 90% wagowych, a korzystnie 20 - 50% wagowych poliolu stanowią spolimeryzowane monomery z hydroksylowymi grupami funkcyjnymi. Odpowiednie monomery obejmują akrylany i metakrylany hydroksyalkilu, np. akrylan hydroksyetylu, akrylan hydroksypropylu, akrylan hydroksylzopropylu, akrylan hydroksybutylu, metakrylan hydroksyetylu, metakrylan hydroksypropylu, metakrylan hydroksyizopropylu, metakrylan hydroksybutylu itp., jak również ich mieszaniny.
W polimerze poliolowym mogą być zawarte inne zdolne do polimeryzowania monomery nie zawierające grup hydroksylowych, w ilości do 90% wagowych, a korzystnie 50 - 80% wagowych. Monomery te obejmują przykładowo styren, metylostyren, akryloamid, akrylonitryl, metakrylonitryl, metakryloamid, metylolometakryloamid, metyloloakryloamid itp., a także ich mieszaniny.
Innym ewentualnym składnikiem kompozycji powłokowej według wynalazku jest, obok powyższych składników polimerycznych, polimer zdyspergowany. Polimery zdyspergowane w organicznym zasadniczo bezwodnym środowisku zwane są niewodnymi polimerami dyspersyjnymi (NAD), mikrożelami, bezwodnymi lateksami lub koloidami polimerowymi [Poehlin i inni, Science and Technology of Polymer Colloids, vol. 1 str. 40-50, (1983); El-Asser, Future Directions in Polymerisation in Organic Media, (John Willey, 1975); opisy patentowe US 4147688, 4180489, 4075141, 4415681, 4591533],
Cząsteczki mikrożeli, zawsze usieciowane, były od dawna używane jako modyfikatory udamości tworzyw sztucznych, regulatory płynności powłok i podłoży powłok oraz środki umożliwiające nakładanie farb techniką mokre na mokre.
Alternatywnie kompozycje powłokowe według wynalazku mogą ewentualnie zawierać, zwłaszcza w połączeniu z dowolnym polimerem poliolowym, dodatkowy środek sieciujący, np. znaną monomeryczną lub polimeryczną żywicę melaminowo-formaldehydową, częściowo lub całkowicie zalkilowaną.
Korzystnie jako środek sieciujący stosuje się metylowaną lub butylowaną albo izobutylowąną żywicę melaminowO-formaldehydowu. której stopień polimeryzacji wynosi 1 - 3. Na ogół żywica ta zawiera około 50% grup butylowanych lub izobutylowanych i 50% grup metylowanych. Środek sieciujący ma liczbowo średnią masę cząsteczkową około 300 - 600 i wagowo średnią masę cząsteczkową około 500-1500.
Przykładami dostępnych w handlu żywic są żywice o nazwie Cymel 1168, Cymel 1161, Cymel 1158, Resimine 451, Resimine 354.
Korzystnie środek sieciujący stosowany jest w ilości 5 - 50% wagowych w przeliczeniu na masę spoiwa kompozycji.
Innymi środkami sieciującymi są formaldehydomocznik, formaldehydobenzokwanamina i blokowe poliizocyjaniany.
Dla skatalizowania procesów sieciowania grup silanowych polimerów silanowych, samych lub z innymi składnikami kompozycji, włącznie z polimerami zdyspergowanymi, dodaje się zwykle skuteczną ilość katalizatora, zwykle poniżej 5% wagowych w przeliczeniu na masę kompozycji. Typowe katalizatory to laurynian dibutylocyny, dioctan dibutylocyny, ditlenek dibutylocyny, dikaprylan dibutylocyny, kaprylan cyny, tytanian glinu, chelaty glinu, chelaty cyrkonu itp.
Użytecznymi środkami stosowanymi do katalizowania procesu wiązania silanów są również trzeciorzędowe aminy i kwasy lub ich kombinacje. Korzystnie ilość katalizatora wynosi około 0,1 - 5% wagowych w przeliczeniu na masę kompozycji.
Dla poprawienia odporności na warunki atmosferyczne przezroczystych powłok wykończeniowych wytwarzanych z kompozycji powłokowych według wynalazku, można dodawać stabilizatory działania światła ultrafioletowego lub mieszankę takich stabilizatorów w ilości około 0,1 - 5% wagowych w przeliczeniu na masę spoiwa. Stabilizatory takie obejmują absorbery światła UV, środki ekranujące, wygaszające i specyficzne stabilizatory światła typu amin z zawadą przestrzenną. Można również dodawać antyutleniacze w ilości 0,1 - 5% wagowych w przeliczeniu na masę spoiwa.
Typowymi użytecznymi stabilizatorami światła UV są benzofenony, triazole, triazyny, benzoesany, aminy z zawadą przestrzenną oraz ich mieszaniny. Konkretne przykłady takich stabilizatorów podano w opisie patentowym US 4591533.
Kompozycja według wynalazku może także zawierać inne standardowe dodatki ułatwiające jej formułowanie, takie jak środki regulujące przepływ, np. Resiflow S (poliakrylan butylowy), BYK 320 i 325 (poliakrylany wysokocząsteczkowe), środki regulujące rozlewność, takie jak pył krzemionkowy, pochłaniacze wody, takie jak tetrakrzemian, ortomrówczan trimetylu, ortomrówczan trietylu itp.
Gdy kompozycja według wynalazku stosowana jest jako powłoka bezbarwna (powłoka zewnętrzna) nad powłoką barwioną (podłożową) dla uzyskania powłoki wykończeniowej barwionej/przezroczystej, można dodać do powłoki przezroczystej małe ilości pigmentu, aby wyeliminować niepożądane zabarwienie w powłoce wykończeniowej, np. zażółcenie.
184 217
Kompozycja według wynalazku może także być zabarwiona i stosowana jako powłoka barwiona lub jako powłoka jednowarstwowa, albo nawet jako powłoka podkładowa lub szpachlówka.
Kompozycja według wynalazku charakteryzuje się doskonałą adhezją do różnorodnych podłoży, takich jak podłoża uprzednio malowane, stal zimnowalcowana, stal fosfatyzowona i stal koProąana standardowymi podkładami drogą, gplwonizacji.
Kompozycja według wynalazku wykazuje doskonałą adhezję również do powłok podkładowych obejmujących przykładowo sieciowane epoksypoliąstry i różne żywice epoksydowe, jak też żywice alkikoąą do podłoży renowacyjnych.
Kompozycja według wynalazku może być stosowana do pokrywania wyrobów z tworzyw sztucznych, takich jak włókna szklane wzmacniane poliestrem, uretany formowane wtryskowe i częściowo krystaliczne poliamidy.
Gdy kompozycja według wynalazku stosowana jest jako powłoka podkładowa, typowymi pigmentami które mogą być dodawane do kompozycji są tlenki metali, takie jak dwutlenek tytanu, tlenek cynku, tlenki żelaza o różnych zabarwieniach, sadza, pigmenty wypełniające, takie jak talk, glinka porcelanowa, baryty, węglany, krzemiany i duży wybór pigmentów organicznych takich jak chinokrykony, ftalocyjaniny miedziowe, peryleny, pigmenty azowe, błękit inkantrenoąy, Po^ozo^, takie jak fiolet korbozoloąy, izo^^inony, izoindolony, czerwienie tioinkygową, bąnzimikozolinony, metaliczne pigmenty płatkowe, takie jak płatki glinowe itp.
Pigmenty mogą być wprowadzane do kompozycji powłokowej w postaci wstępnie zmielonej lub zkyskąrgoąαnej bazy pigmentowej z którymkolwiek z wyżej wymienionych polimerów stosowanych w kompozycji powłokowej lub z innym zgodnym polimerem lub dyspergatorem, znanymi sposobami, takimi jak mieszanie z dużą prędkością, rozcieranie w masie, mielenie kulowe, mielenie dwuwalcowe itp. Zmieloną bazę miesza się następnie z innymi składnikami stosowanymi w kompozycji powłokowej. Do dyspergowania i/lub rozcieńczania wyżej wymienionych polimerów w procesie ąytwprzpnia kompozycji powłokowej według wynalazku można stosować standardowe rozpuszczalniki lub rozcieńczalniki, korzystnie w minimalnych ilościach. Typowe rozpuszczalniki i rozcieńczalniki obejmują toluen, ksylen, octan butylowy, aceton, keton metolowo-izobutyloąy, keton metylowo-etylowy, metanol, izopropanol, butanol, heksan, glikol etylenowy, eter monoetylowy, benzynę ciężką VM i P, heptan i inne alifatyczne, cykloalifαtyczną, aromatyczne węglowodory, estry, etery i ketony.
Kompozycję powłokową można nanosić znanymi sposobami, takimi jak natryskiwanie, natryskiwanie elektrostatyczne, zanurzanie, pędzlowanie, malowanie przez polewanie itp. Korzystną techdiPejąst natryskiwanie i elektrostatyczne natryskiwanie.
Po nałożeniu kompozycja poddawana jest suszeniu w temperaturze 100 - 100°C w ciągu około 15-30 minut, do czasu utworzenia powłoki o grubości 0,00204 - 0,0762 mm.
Gdy kompozycję stosuje się jako powłokę bezbarwną, nakłada się ją na powłokę zabarwioną, którą można wysuszyć tak, by przestała być lepka i utwardzić lub, korzystnie, wysuszyć pneumatycznie przez krótki okres czasu przed nałożeniem powłoki bezbarwnej.
Układ powłoka barąionp/poąłoka bezbarwna suszy się następnie jak powyżej, do uzyskania suchej utwardzonej powierzchni.
Zazwyczaj nakładanie bezbarwnej powłoki zewnętrznej na powłokę podłożową prowadzi się metodą mokre na mokre, np. powłokę zewnętrzną nakłada się na powłokę podkładową bez suszenia lub końcowego suszenia powłoki podkładowej. Pokryte podłoże ogrzewa się następnie przez określony czas dla jednoczesnego suszenia powłoki podkładowej i powłoki przezroczystej.
Kompozycja powłokowa może być formułowana jako układ w pojedynczym opakowaniu lub układ w dwu opakowaniach, który ma przedłużony okres przechowywania.
Wynalazek ilustrują podane poniżej przykłady. Wszystkie części i procenty wyrażono wagowo, o ile nie podano inaczej. W poniższych przykładach kompleks diąinylowoklatynowy oznacza kompleks platyny z kiąinolotątrametylokisiloksanem, który zawiera 2 - 3% platyny i jest do nabycia w firmie Petrarch bilanes and bilicones, Bristol, PA19007, UbA za numerem katalogowym PC072.
184 217
Przykład I
Wytwarzanie 5-(2-trichlorosililoetylo)trichlorosililonorbomanu
Do kolby trój szyjnej o pojemności 1 litra, wyposażonej w mieszadło magnetyczne, chłodnice zwrotną i wkraplacz dodano w atmosferze azotu 5-winylo-2-norbomenu (100 g, 0,83 mola). Zawartość ogrzewano w trakcie mieszania w temperaturze 75 - 85°C i dodawano kroplami kompleks diwinylowoplatynowy (0,6 g, 2 - 3% platyny w ksylenie) i trichlorosilan (320 g, 2,36 mola) w ciągu 12 godzin. Przez następne 36 godzin mieszaninę reakcyjną ogrzewano. Nadmiar trichlorosilanu odpędzono pod próżnią. Analiza przeprowadzona metodą chromatografii gazowej wykazała czystość produktu powyżej 94%. Spektroskopia masowa (K+IDS) i analiza Ή NMR wykazały, że produkt składa się głównie z 5-(2trichlorosililoetylo)trichlorosililonorbomanu o wzorze
Cl3Si
SiCl3 oraz niewielkiej ilości monoadduktu trichlorosilanu z 5-winylo-2-norbomenem.
Przykład II
Wytwarzanie 5-(2-trimetoksysililoetylo)trimetoksysililonorbomanu
Do produktu reakcji otrzymanego w przykładzie I wkroplono w trakcie mieszania pod próżnią mieszaninę bezwodnego metanolu (115 g, 3,6 mola) i ortomrówczanu trimetylu (530 g, 5,0 moli), utrzymując temperaturę poniżej 30°C. Po zakończeniu wkraplania dodano trietyloaminę (15 g, 0,15 mola) i mieszaninę reakcyjną ogrzewano w temperaturze wrzenia przez 2 godziny. Składniki lotne odpędzono, a mieszaninę reakcyjną przedestylowano w temperaturze 80 - 100°C pod próżnią 4 - 13,33 Pa, zbierając około 10% przedgonu przy zastosowaniu kolumny kulkowej. Gazowa analiza chromatograficzna, spektroskopia masowa (K+IDS) oraz analiza 'H NMR wykazały, że produkt ma pożądaną strukturę:
(MeO)3Si
Si(OMe)3 i czystość powyżej 95% i złożony jest z czterech izomerów w stosunku 7/1/3/1 (według GC). Wydajność 180 g (59%) bezbarwnej cieczy o lepkości poniżej 0,001 Pa-s w temperaturze pokojowej.
Przykład III
Wytwarzanie estru tri(3-trimetoksysililo)propylowego kwasu 1,2,4-benzenotrikarboksylowego
Mieszaninę trimelitanu triallilowego (3 g, 0,09 mola), trimetoksysilanu (6 g, 0,049 mola) i kompleksu diwinylowoplatynowego (0,050 g, 2 - 3% platyny w ksylenie) dodawano w ciągu 1 godziny do suchego naczynia i mieszano w temperaturze pokojowej. Zaobserwowano egzotermiczny przebieg reakcji w czasie dodawania katalizatora. Po czterech dniach nadmiar trimetoksysilanu usunięto w wyparce obrotowej, układ reakcyjny rozcieńczono 5 ml heksanu, przesączono przez złoże krzemionki i Darco G-60. Lotne substancje odpędzono w wyparce obrotowej pod próżnią.
Spektroskopia masowa (K+ IDS) i analiza 'H NMR wykazały obecność powyżej 82% pożądanego produktu w postaci żółtej cieczy o lepkości 0,53 Pa-s w temperaturze pokojowej.
Przykład IV
Wytwarzanie estru diallilowego kwasu 1,4-cykloheksano-dikarboksylowego
184 217
U
Do kolby o pojemności 1 1 wyposażonej w chłodnicę, mieszadło magnetyczne i płaszcz grzewczy pod osłoną azotu wprowadzono kwas trans-1,4-cykloheksanodikarboksylowy (80 g, 0,46 mola) i chlorek tionylu (160 g, 1,34 mola). Zawartość kolby ogrzewano w temperaturze około 90°C przez 8 godzin. Nadmiar chlorku tionylu oddestylowano przez ogrzewanie mieszaniny reakcyjnej do temperatury powyżej 125°C i pod próżnią w temperaturze 60°C. Chromatografia masowa i analiza 'H NMR wykazały zasadniczo czysty chlorek kwasu
1,4-cykloheksanodikarboksylowego o dwóch izomerach w stosunku 1:2,5. Następnie do kolby zawierającej chlorek kwasowy dodano powoli alkohol allilowy (85 g, 1,46 mola) i połączono z płuczką do absorpcji HC1. Mieszaninę reakcyjną ogrzewano w temperaturze 70°C w ciągu 4 godzin i produkt destylowano w temperaturze 100-110°C pod próżnią 1,33 Pa z użyciem chłodnicy kulkowej. Gazowa analiza chromatograficzna i analiza *H nMr wykazały, że otrzymano pożądany ester allilowy kwasu 1,4-cykloheksanodikarboksylowego o czystości powyżej 95% z wydajnością 94 g (81%).
Przykład V
Wytwarzanie estru di-(3-trimetylosililopropylowego kwasu 1,4-cykloheksanodikarboksylowego
Do kolby trój szyjnej o pojemności 1 l wyposażonej w mieszadło magnetyczne, chłodnicę zwrotną i wkraplacz pod osłoną azotu wprowadzono ester diallilowy kwasu
1,4-cykloheksanodikarboksylowego (85 g, 0,34 mola) i kompleks diwinylowoplatynowy (0,035 g, 2 - 3% platyny w ksylenie). Następnie kroplami dodano trichlorosilan (15 g, 1,11 mola) w ciągu 3 godzin w temperaturze poniżej 40°C. Po dodatkowych 48 godzinach w temperaturze pokojowej lotne składniki odpędzono pod próżnią, po czym kroplami dodano mieszaninę bezwodnego metanolu (40 g, 1,23 mola) i trimetyloortomrówczanu (220 g, 2,06 mola) tak, aby utrzymać temperaturę poniżej 30°C pod próżnią, cały czas mieszając. Po zakończeniu wkraplania dodano dietyloaminę (10 g, 0,14 mola) i mieszaninę reakcyjną ogrzewano pod chłodnicą zwrotną przez 2 godziny. Lotne składniki odpędzono pod wysoką próżnią i mieszaninę rozcieńczono heksanem oraz trzykrotnie przesączono przez złoże krzemionki i Darco G-60. Lotne składniki odpędzono pod wysoką próżnią.
Pożądany produkt zidentyfikowano metodą spektroskopii masowej (K+ IDS). Analiza 'H NMR wykazała brak reszt olefinowych i ponad 89% wiązań Si-CH2-CH2-.
Wydajność wyniosła 89 g (53%) żółtej cieczy o lepkości 0,02 Pas w temperaturze pokojowej.
Przykład VI
Wytwarzanie estru 1,4-cykloheksanodimetylowego kwasu diundecenowego
Do kolby o pojemności 1 l wyposażonego w chłodnicę zwrotną, mieszadło magnetyczne i płaszcz grzewczy z przepływem azotu, połączonej z płuczką HC1, wprowadzono kwas 10-undecenowy (800 g, 4,34 mola) i chlorek tionylu (770 g, 6,47 mola). Zawartość mieszano przez 24 godziny w temperaturze pokojowej i następnie ogrzewano w temperaturze około 80°C przez 8 godzin. Lotne substancje odpędzono pod wysoką próżnią w temperaturze 60°C.
Gazowa analiza chromatograficzna i analiza Ή nMr wykazała zasadniczo czysty chlorek kwasu 10-undecenowego. Do kolby połączonej z płuczką HC1 zawierającej ten kwas dodawano powoli 1,4-cykloheksanodimetanol (300 g, 2,15 mola) i mieszaninę ogrzewano w temperaturze 80°C przez 48 godzin. Następnie rozcieńczono ją heksanem, przesączono przez zasadowy AI2O3 i Darco G-60, po czym lotne substancje odpędzono na obrotowej suszarce pod wysoką próżnią.
Analiza lH NMR wykazała żądany ester 1,4-cykloheksanodimetylowy kwasu di-undecenowego o czystości powyżej 931.
Przykład VII
Wytwarzanie estru 1,4-cykloheksanodimetylowego kwasu di-(11-trimetoksysililo)undekanowego
Mieszaninę estru 1,4-cykloheksanodimetylowego kwasu di-(11-trimetoksysili!o)undekanowego (3 g, 0,006 mola), trichlorosilanu (8 g, 0,059 mola) i kompleksu diwinylowoplatynowego (0,03 g, 2-3% Pt w heksanie) wprowadzono w ciągu ponad 1 godziny do suchej komory i mieszano w temperaturze pokojowej. Podczas dodawania katalizatora zaobserwowano
184 217 reakcję egzotermiczną. Po dwóch dniach odpędzono nadmiar trichlorosilanu w suszarce obrotowej. Do pojemnika dodano powoli mieszaninę bezwodnego metanolu (1,5 g, 0,047 mola) i ortomrówczanu trimetylu (8 g, 0,075 mola), cały czas mieszając. Po 24 godzinach substancje lotne odpędzono w suszarce obrotowej pod wysoką próżnią. Analiza lH NMR wykazała brak reszt olefmowych i powyżej 84% wiązań S1-CH2-CH2.
Produkt o wzorze (MeO^Si—
O2C(^ ;I0Si(OMe)3 miał postać żółtej cieczy o lepkości 0,06 Pa-s w temperaturze pokojowej.
Związek o powyższym wzorze może być wytwarzany na drodze reakcji bromku allilu z 1,4-cykloheksanodimetanolem w obecności bromku tetrabutyloamoniowego i NaOH z wytworzeniem dieteru, po czym prowadzi się hydrosililowanie za pomocą HSłCl3, a następnie prowadzi się reakcję z metanolem z wytworzeniem trimetylosilanów, przy czym mogą być stosowane procedury podobne do opisanych w przykładach.
Przykład VIII
Wytwarzanie 1,4-bis[(2-propanyloksy)metylo]cykloheksanu
W trójszyjnej kolbie okrągłodennej o pojemności 2 1 wyposażonej w mieszadło mechaniczne, chłodnicę zwrotną, termoparę i wlot azotu umieszczono 1,4-cykk)heksanodimetanol (375 g, 2,60 mola), bromek allilu (100 g, 9,09 mola), toluen (830 ml), wodorotlenek sodu (300 g, 7,5 mola) i bromek tetra-n-butyloamoniowy (110 g, 0,34 mola). Mieszaninę reakcyjną mieszano w temperaturze 30-50°C przez 8 godzin i w temperaturze 70-80°C przez 10 godzin.
Gazowa analiza chromatograficzna wykazała ponad 99% żądanego produktu. Po ochłodzeniu mieszaninę reakcyjną wylano do 2 l wody, warstwy rozdzielono i warstwę wodną wyekstrahowano 150 ml toluenu. Roztwory toluenowe połączono i przemyto wodą o pH poniżej
7. Fazę organiczną suszono nad bezwodnym siarczanem sodu, rozpuszczalnik odpędzono w wyparce obrotowej i produkt przedestylowano przez chłodnicę kulkową w temperaturze 90 - 100°C pod próżnią 4 Pa. Gazowa analiza chromatograficzna, spektroskopia masowa (K+ IDS) i analiza Ή NMr wykazały otrzymanie żądanego produktu stanowiącego bezbarwną ciecz o czystości powyżej 97%. Wydajność wyniosła 385 g (66%).
Przykład Ix
Wytwarzanie 1,4-bis[(3-trimetoksysililopropylo)metylo]-cykloheksanu (MeO),
Si(OMe)3
Mieszaninę l,4-bis[(2-propylenoksy)metylo]cykloheksanu (3 g, 0,013 mola), trichlorosilanu (10 g, 0,074 mola), kompleksu diwinylowoplatynowego (0,14 g, 2-3% Pt w ksylenie) i kwasu octowego (0,5 g, 0,008 mola) mieszano w suchej komorze. Po trzech dniach nadmiar trichlorosilanu odpędzono w wyparce obrotowej. Następnie powoli dodano mieszaninę bezwodnego metanolu (1,5 g, 0,047 mola) i ortomrówczanu trimetylu (8 g, 0,075 mola). Po 24 godzinach lotne składniki odpędzono w wyparce obrotowej pod wysoką próżnią.
Analiza *H NMR wykazała brak reszt olefmowych i ponad 75% żądanych wiązań Si-CH2CH2-. Produkt stanowił żółtą ciecz o lepkości 0,05 Pa · s w temperaturze pokojowej.
Przykład X
Przygotowano kompozycję zawierającą wagowo 10,22 części monomerycznej melaminy metylowanej i butylowanej, produkcji Monsanto, 4,64 części ortomrówczanu trimetylu,
184 217
2,32 części Tin 384™ jako absorbera światła nadfioletowego, 220 części aminy z zawadą przestrzenną Tin 123™, 0,40 części roztworu terpolimeru akrylowego Resiflow™ jako modyfikatora rozpływności, 30,5 części niewodnej dyspersji akrylowej (z US 5066698), 40,21 części dwufunkcyjnej żywicy hydroksysilanowej (wytworzonej z 10% A-174 czyli monomeru metakryloksypropylotrimetoksysilanowego produkcji Union Carbide, 30% monomeru metakrylanu hydroksymetylu, --% monomeru cykloheksylometakrylanowego, 8% monomeru izobutylometakrylanowego i 30% monomeru styrenowego, z użyciem inicjatora polimeryzacji Vazo 67™ w pentanolu i octanie eteru etylenowomonobutylowego w temperaturze 145 - 150°C w ciągu kilku godzin oraz 40,9 części silanowanego winylobomanu o wzorze
R43Si—(CH2)2SiR43 gdzie wszystkie grupy R4 są grupami metoksylowymi, 0,20 części katalizatora dibutylocynodioctanowego i -,67 części drugiego katalizatora, kwasu dodecylobenzenosulfonowego zobojętnionego --aminopropanolem. Kompozycja była w 75% stała, zaś w 25% płynna. Zawartość LSO wynosiła 2,20.
Tak więc otrzymano z powodzeniem kompozycję powłokową o bardzo niskim LSO i wysokiej zawartości części stałych.
184 217
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 60 egz.
Cena 4,00 zł.
Claims (12)
- Zastrzeżenia patentowe1. Nowy związek krzemoorganiczny o ogólnym wzorzeA-[B-SiR’n R23.n]y w którymA oznacza grupę karbocykliczną wybraną spośród grup cykloalifatycznych i ugrupowań benzenu mającą y dostępnych miejsc wiązania, z których każde znajduje się przy innym atomie węgla tej grupy karbocyklicznej;grupy B niezależnie oznaczają grupę alkilenową zawierającą co najmniej jeden eterowy atom tlenu pomiędzy segmentami alkilenowymi, oddzielony od atomu krzemu co najmniej dwoma atomami węgla, i/lub co najmniej jedną grupę estrową -C(O)OR3- lub -O(O)CR3przyłączoną do grupy A bezpośrednio lub poprzez segment alkilenowy, z tym, że każda z tych grup B zawiera 3-20 atomów węgla, przy czym gdy cykloalifatyczną grupę A stanowi grupa norbomanowa, to wówczas jedna z grup B oznacza wiązanie kowalencyjne i jedna z grup B oznacza grupę alkilenową zawierającą 2-20 atomów węgla.;y oznacza liczbę całkowitą 2-6, przy czym gdy A oznacza pierścień benzenowy i B zawiera grupę -C(O)OR3- przyłączoną do A poprzez karbonylowy atom węgla, to wówczas y oznacza 3;Ri niezależnie oznaczają alkil o 1-20 atomach węgla lub fenyl;R2 niezależnie oznaczają atom chlorowca, alkoksyl o 1-20 atomach węgla, fenoksyl, acyloksyl o 1-20 atomach węgla lub oksysilil;R3 niezależnie oznaczają grupy alkilenowe o 2-20 atomach węgla; a n niezależnie oznaczają 0, 1 lub 2.
- 2. Związek według zastrz. 1, w którym A oznacza 1,4-cykloheksylen, 1,2.4-benzenotriy'l lub grupę o wzorze
- 3. Związek według zastrz. 1, w którym n oznacza 0.
- 4. Związek według zastrz. 2, w którym n oznacza 0.
- 5. Związek według zastrz. 1, w którym n oznacza 0, a wszystkie podstawniki R3 oznaczają atom chloru, metoksyl lub etoksyl.
- 6. Związek według zastrz. 4, w którym n oznacza 0, a wszystkie podstawniki R3 oznaczają atom chloru, metoksyl lub etoksyl.
- 7. Związek według zastrz. 6, w którym n oznacza 0, a wszystkie podstawniki R2 oznaczająmetoksyle.184 217
- 8. ZOązek według zzatrz. 1, scybrany spośród związków o wzorachR’Si—(CH2)2SiR43Si—(CH2)z O - CH--ch2-o- (CH-.—SiIĆR43Si—(CH-)—CO—CH-CH_-O- C--H-—SiR^R43si-(CH-)—o-c—-C^(-a2)-^CR4z-siR43 CO—CH-)—SiR’j o o4 11 II 4R’3Si-(CH-)2— C—O O—C-(CH-— SiR3 w których z oznacza 2-20, a podstawniki R4 niezależnie oznaczają atom chlorowca, alkoksyl o 1-20 atomach węgla, fenoksyl, acyloksyl o 1-20 atomach węgla lub oksysilil.
- 9. Związek według zastrz. 8, w którym z oznacza 3 lub 10.
- 10. Związek według zastrz. 8, w którym wszystkie podstawniki R4 oznaczają atomy chloru lub wszystkie podstawniki r4 oznaczają metoksyle.
- 11. Kompozycja pośγło0ośoo zawierająca wgoowo 5 - 100% reaktywnego) związku krzemoorganicznego, 0 - s)5% spoiwa polrmeryjznngo, 0 - 30% r^^idlk^a sieciującegOs 0 * 3(0% polimeru zdyspergowanego, 0 - 50% rozpuszczalnika i ewentualnie znane dodatki stosowane w kompozycjach powłokowych, znamienna tym, że jako reaktywny związek krzemoorganiczny zawiera co najmniej jeden związek o ogólnym wzorze 1MB-SiR^^y w którymΆ oznacza grupę karbocykliiczną wybraną spośród grup cykloalifatycznych i ugrupowań benzenu mającą y dostępnych miejsc wiązania, z których każde znajduje się przy innym atomie węgla tej grupy karrocykricznej ;grupy B niezależnie oznaczają grupę alkilenową zawierającą co najmniej jeden eterowy atom tlenu pomiędzy segmentami alkilenowymi, oddzielony od atomu krzemu co najmniej dwoma atomami węgla, i/lub co najmniej jedną grupę estrową C(O)OR(- lub -O(O)CR(przylączoną do grupy Ά bezpośrednio lub poprzez segment alkilenowy, z tym, że każda z tych grup B zawiera 3-20 atomów węgla, przy czym gdy cykloalifatyczna grupę Ά stanowi grupa norbomanowa, to wówczas jedna z grup B oznacza wiązanie kowalencyjne i jedna z grup B oznacza grupę alkilenową zawierającą 2-20 atomów węgla;y oznacza liczbę całkowitą 2-6, przy czym gdy Ά oznacza pierścień benzenowy i B zawiera grupę -C(O)OR(-przyłączoną do Ά poprzez karbonylowy atom węgla, to wówczas y oznacza 3;R1 niezależnie oznaczają alkil o 1-20 atomach węgla lub fenyl;R2 niezależnie oznaczają atom chlorowca, alkoksyl o 1-20 atomach węgla, fenoksyl, acyloksyl o 1-20 atomach węgla lub oksy^lil;RS niezależnie oznaczają grupy alkilenowe o 2-20 atomach węgla;184 217 a n niezależnie oznaczają O, 1 lub 2.
- 12. Sposób powlekonia podioża kompo;omjPLPowłokowązowierającąwagowo 5 - 100% reaktywnego związku krzemoorganicznego, 0 - 90% spoiwa polimerycznego, 0 - 30% środka sieciującego, 0 - 30% polimeru zdyskergowanego, 0 - 00% rozpuszczalnika i ewentualnie znane dodatki stosowane w kompozycjach powłokowych, poprzez nanoszenie warstwy tej kompozycji na podłoże, znamienny tym, że na podłoże nanosi się kompozycję powłokową zawierającą jako reaktywny związek krzemoorganiczny co najmniej jeden związek o ogólnym wzorze 1A-[B-SiR’n R23-n]y w którymA oznacza grupę karbocykliczną wybraną spośród grup cykloolifptycznoch i ugrupowań benzenu mającą y dostępnych miejsc wiezpnia, z których każde znajduje się przy innym atomie węgla tej grupy karbocyklicznej;grupy B niezależnie oznaczają grupę alkilenową zawierającą co najmniej jeden eterowy atom tlenu pomiędzy segmentami olkilenoąomi, oddzielony od atomu krzemu co najmniej dwoma atomami węgla, i/lub co najmniej jedną grupę estrową -C(O)OR3- lub -O(O)CR3przyłączoną do grupy A bezpośrednio lub poprzez segment alkilenowy, z tym, że każda z tych grup B zawiera 3-20 atomów węgla, przy czym gdy cykloalifatyczną grupę A stanowi grupa norbomanowa, to wówczas jedna z grup B oznacza wiązanie kowalencyjne i jedna z grup B oznacza grupę alkilenową zawierającą 2-20 atomów węgla.;o oznacza liczbę całkowitą 2-6, przy czym gdy A oznacza pierścień benzenowy i B zawiera grupę -C(O)OR3-przyłączoną do A poprzez korbonylowy atom węgla, to wówczas y oznacza 3;Ri niezależnie oznaczają alkil o 1-20 atomach węgla lub fenyl;R2 niezależnie oznaczają atom chlorowca, alkoksyl o 1-20 atomach węgla, fenoksyl, acyloksyl o 1-20 atomach węgla lub oksysilil;R3 niezależnie oznaczają grupy alkilenowe o 2-20 atomach węgla; a n niezależnie oznaczają 0, 1 lub 2.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US40072595A | 1995-03-08 | 1995-03-08 | |
PCT/US1996/002999 WO1996027599A1 (en) | 1995-03-08 | 1996-03-05 | Reactive organosilicon compounds |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
PL322132A1 PL322132A1 (en) | 1998-01-05 |
PL184217B1 true PL184217B1 (pl) | 2002-09-30 |
Family
ID=23584748
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PL96322132A PL184217B1 (pl) | 1995-03-08 | 1996-03-05 | Nowe związki krzemoorganiczne, kompozycja powłokowa i sposób powlekania podłoża |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5719251A (pl) |
EP (1) | EP0869964B1 (pl) |
JP (1) | JPH11501631A (pl) |
KR (1) | KR100393366B1 (pl) |
CN (1) | CN1057766C (pl) |
AU (1) | AU713226B2 (pl) |
BR (1) | BR9607747A (pl) |
CA (1) | CA2214787A1 (pl) |
DE (1) | DE69625241T2 (pl) |
DK (1) | DK0869964T3 (pl) |
ES (1) | ES2187638T3 (pl) |
IL (1) | IL117294A (pl) |
MX (1) | MX9706772A (pl) |
NZ (1) | NZ303624A (pl) |
PL (1) | PL184217B1 (pl) |
WO (1) | WO1996027599A1 (pl) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BR9608394A (pt) | 1995-06-05 | 1999-01-05 | Du Pont | Composição de revestimento líquida curável pulverizável método para proteção de um substrato substrato composto contendo grupo silil e processo para fazer um composto oligomérico contendo um grupo silil |
US5866706A (en) * | 1997-06-09 | 1999-02-02 | Boulder Scientific Co. | Preparation and separation of RAC and MESO compound mixtures |
DE19734251A1 (de) * | 1997-08-07 | 1999-02-11 | Wacker Chemie Gmbh | Bicyclen aufweisende Organosiliciumverbindungen |
DE69929306T2 (de) * | 1998-02-06 | 2006-09-21 | E.I. Dupont De Nemours And Co., Wilmington | Silicium enthaltende reaktive oligomere und daraus hergestellte beschichtungszusammensetzungen |
DE19824188A1 (de) * | 1998-05-29 | 1999-12-02 | Bayer Ag | Wäßrige Zubereitung zur Behandlung mineralischer Baustoffe |
US6187376B1 (en) * | 1998-10-01 | 2001-02-13 | Basf Corporation | Method for improving the adhesion of a repair coating to a previously coated substrate |
JP4408982B2 (ja) * | 1999-03-31 | 2010-02-03 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | フェノール基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
US6329489B1 (en) * | 1999-12-20 | 2001-12-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for producing reactive silane oligomers |
JP4600614B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2010-12-15 | 昭和電工株式会社 | 新規な不飽和エーテル化合物及び該化合物の製造方法 |
WO2001096274A1 (en) * | 2000-06-16 | 2001-12-20 | Showa Denko K. K. | Production of alicyclic (meth)allyl esters for plastic lens compositions |
US6410147B1 (en) | 2000-08-24 | 2002-06-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Low gloss crosslinkable coating compositions |
JP3856088B2 (ja) * | 2000-08-25 | 2006-12-13 | 信越化学工業株式会社 | ビスシリルノルボルナン化合物の製造方法 |
JP2008519110A (ja) * | 2004-11-08 | 2008-06-05 | クィーンズ ユニバーシティー アット キングストン | 官能化ポリオレフィン、湿分硬化型(moisturecurable)ポリオレフィン樹脂およびそれらを製造する方法 |
WO2006069376A2 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-29 | University Of Cincinnati | Improved superprimer |
US20060189711A1 (en) * | 2005-02-23 | 2006-08-24 | Ng Howard C | Silicon-containing polytrimethylene homo- or copolyether composition |
US7629396B2 (en) | 2005-02-23 | 2009-12-08 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Silicon-containing polytrimethylene homo- for copolyether composition |
US7476344B2 (en) * | 2005-02-25 | 2009-01-13 | E.I. Du Pont De Nemours | Electrical apparatuses containing polytrimethylene homo- or copolyether glycol based electrical insulation fluids |
EP2089436B1 (en) | 2006-12-07 | 2013-06-19 | Coatings Foreign IP Co. LLC | Polymerization of acrylic polymers in reactive diluents |
RU2467028C2 (ru) * | 2006-12-19 | 2012-11-20 | БАСФ Коатингс ГмбХ | Покровные средства с высокой стойкостью к царапанью и устойчивостью к атмосферным воздействиям |
US8034965B2 (en) | 2007-11-09 | 2011-10-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Norbornane skeleton structure-containing organosilicon compound and method of producing same |
JP4542128B2 (ja) * | 2007-11-09 | 2010-09-08 | 信越化学工業株式会社 | ノルボルナン骨格含有有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
DE102007061854A1 (de) | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Basf Coatings Ag | Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität |
DE102007061856A1 (de) * | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Basf Coatings Ag | Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität |
DE102007061855A1 (de) | 2007-12-19 | 2009-06-25 | Basf Coatings Ag | Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität |
DE102008030304A1 (de) | 2008-06-25 | 2009-12-31 | Basf Coatings Ag | Verwendung teilsilanisierter Verbindungen auf Polyisocyanatbasis als Vernetzungsmittel in Beschichtungszusammensetzungen und Beschichtungszusammensetzung enthaltend die Verbindungen |
US8809479B2 (en) * | 2009-05-01 | 2014-08-19 | Momentive Performance Materials Inc. | Moisture curable silylated polymer compositions containing reactive modifiers |
US9932437B2 (en) | 2009-05-01 | 2018-04-03 | Momentive Performance Materials Inc. | Moisture curable silylated polymer compositions containing reactive modifiers |
US8901198B2 (en) | 2010-11-05 | 2014-12-02 | Ppg Industries Ohio, Inc. | UV-curable coating compositions, multi-component composite coatings, and related coated substrates |
US8513321B2 (en) | 2010-11-05 | 2013-08-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Dual cure coating compositions, methods of coating a substrate, and related coated substrates |
KR20170093028A (ko) * | 2016-02-04 | 2017-08-14 | 에스케이케미칼주식회사 | 물 소거제를 포함하는 유연 폴리유산 수지 조성물 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA558576A (en) * | 1958-06-10 | W. Ryan John | Acetoxysilcarbanes | |
US2545780A (en) * | 1948-08-09 | 1951-03-20 | Libbey Owens Ford Glass Co | Cycloaliphatic silanes |
US2924588A (en) * | 1957-04-22 | 1960-02-09 | Dow Corning | Organosiloxane alcohols |
US3994947A (en) * | 1971-02-02 | 1976-11-30 | Copolymer Rubber & Chemical Corporation | Fulvene-silane adduct and ethylene interpolymers embodying same |
GB1407957A (en) * | 1974-03-14 | 1975-10-01 | Owens Corning Fiberglass Corp | Method of preparing organooxy silanes and or organosilicon carboxylates |
CA1101743A (en) * | 1974-05-24 | 1981-05-26 | Kevin M. Foley | Organo silane coupling agents |
US4148773A (en) * | 1977-12-28 | 1979-04-10 | General Electric Company | Polycarbonate composition containing siloxane plasticizer |
US4281145A (en) * | 1980-04-02 | 1981-07-28 | General Electric Company | Process for producing alkoxylated silanes |
US4408011A (en) * | 1982-09-13 | 1983-10-04 | Union Carbide Corporation | Polysiloxanes and the use thereof in the production of silane modified alkylene-alkyl acrylate copolymers |
DE3423608A1 (de) * | 1984-06-27 | 1986-01-02 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen | Fluoralkylsilane oder -siloxane, deren herstellung und verwendung |
DE3427922A1 (de) * | 1984-07-28 | 1986-01-30 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Silyl-substituierte cyclopentadiene, verfahren zur herstellung und sie enthaltende kunststoff- und kautschukmischungen |
DE3518878A1 (de) * | 1985-05-25 | 1986-11-27 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Phenylengruppen-haltige organosilane, verfahren zu ihrer herstellung |
US4965334A (en) * | 1986-08-06 | 1990-10-23 | First Brands Corporation | Copolymers of polysilyl compounds and anti-gelling agents |
US5266670A (en) * | 1986-10-14 | 1993-11-30 | Loctite Corporation | Selective monohydrosilation of vinyl and ethynyl functional norbornenes and curable products produced thereby |
DE3934100A1 (de) * | 1989-10-12 | 1991-04-18 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von 0-silylierten hydroxylverbindungen und ihre verwendung zur herstellung von estergruppen aufweisenden isocyanaten |
US5378790A (en) * | 1992-09-16 | 1995-01-03 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Single component inorganic/organic network materials and precursors thereof |
US5530152A (en) * | 1995-02-17 | 1996-06-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for manufacturing organosilanes |
US5527936A (en) * | 1995-02-17 | 1996-06-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrosilylation of unsaturated compounds |
-
1994
- 1994-02-24 NZ NZ303624A patent/NZ303624A/xx unknown
-
1996
- 1996-02-28 IL IL11729496A patent/IL117294A/xx not_active IP Right Cessation
- 1996-03-05 DE DE69625241T patent/DE69625241T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-05 BR BR9607747A patent/BR9607747A/pt not_active IP Right Cessation
- 1996-03-05 DK DK96906670T patent/DK0869964T3/da active
- 1996-03-05 CA CA002214787A patent/CA2214787A1/en not_active Abandoned
- 1996-03-05 PL PL96322132A patent/PL184217B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1996-03-05 MX MX9706772A patent/MX9706772A/es not_active IP Right Cessation
- 1996-03-05 AU AU49992/96A patent/AU713226B2/en not_active Ceased
- 1996-03-05 JP JP8527011A patent/JPH11501631A/ja not_active Ceased
- 1996-03-05 CN CN96192399A patent/CN1057766C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-05 WO PCT/US1996/002999 patent/WO1996027599A1/en active IP Right Grant
- 1996-03-05 EP EP96906670A patent/EP0869964B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-03-05 KR KR1019970706233A patent/KR100393366B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-03-05 ES ES96906670T patent/ES2187638T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-26 US US08/703,285 patent/US5719251A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU713226B2 (en) | 1999-11-25 |
US5719251A (en) | 1998-02-17 |
EP0869964A1 (en) | 1998-10-14 |
ES2187638T3 (es) | 2003-06-16 |
AU4999296A (en) | 1996-09-23 |
EP0869964B1 (en) | 2002-12-04 |
IL117294A0 (en) | 1996-06-18 |
DE69625241D1 (de) | 2003-01-16 |
KR19980702826A (ko) | 1998-08-05 |
MX9706772A (es) | 1997-11-29 |
CA2214787A1 (en) | 1996-09-12 |
CN1057766C (zh) | 2000-10-25 |
KR100393366B1 (ko) | 2003-10-17 |
WO1996027599A1 (en) | 1996-09-12 |
NZ303624A (en) | 1999-01-28 |
BR9607747A (pt) | 1998-06-23 |
CN1177964A (zh) | 1998-04-01 |
JPH11501631A (ja) | 1999-02-09 |
DK0869964T3 (da) | 2003-01-27 |
DE69625241T2 (de) | 2003-09-11 |
PL322132A1 (en) | 1998-01-05 |
IL117294A (en) | 2000-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
PL184217B1 (pl) | Nowe związki krzemoorganiczne, kompozycja powłokowa i sposób powlekania podłoża | |
JPH11507091A (ja) | シラン官能性を持つコーティング組成物 | |
JP4124505B2 (ja) | 耐湿性を有する改良シリル化紫外線吸収剤 | |
US6750270B1 (en) | Binding agents modified with nanoparticles, for coatings, and use thereof | |
JP2001522925A (ja) | 反応性ケイ素オリゴマーを含有する塗料 | |
KR20110128933A (ko) | 개질된 실리카 입자 및 이를 포함하는 방오성 중합체 조성물 | |
US5413809A (en) | Method for achieving recoat adhesion over a silane topcoat | |
US6649672B1 (en) | Binding agents modified by nanoparticles for coating agents and use of the same | |
JP2006520839A (ja) | 改善された耐引掻き性および表面損傷抵抗の低vocコーティング組成物 | |
JPH06503851A (ja) | 有機シランポリマーよりなる自動車コーティング組成物 | |
MXPA04004016A (es) | Revestimientos que contienen melaminas monomericas y polimericas con grupos silano funcional unidos. | |
JP2948638B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物 | |
WO2005105939A1 (en) | Preparation and use of reactive organosilicon compounds | |
JPH0261510B2 (pl) | ||
EP0302950B1 (en) | Coating composition | |
EP0376293B1 (en) | Curable composition | |
JPH09263731A (ja) | 低溶剤型樹脂組成物、それを使用する低溶剤型塗料組成物、並びにその塗装方法 | |
EP0695783A2 (en) | Low solvent content type-resin composition, coating composition containing such resin composition and process for coating such coating composition | |
US5712411A (en) | N-vinylformamidopropionates and process for their synthesis | |
US7268246B2 (en) | Preparation and use of reactive organosilicon compounds | |
JPH0812931A (ja) | 上塗り塗膜形成方法 | |
MXPA97008923A (en) | Coating compositions containing a functionality of sil | |
JPH04309574A (ja) | 上塗り塗料組成物 | |
JPH081089A (ja) | 低溶剤型塗料組成物の塗装方法 | |
JPH1160885A (ja) | 耐摩耗性被覆材組成物及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20060305 |