NO180081B - Fremgangsmåte for fremstilling av silisiumnitrid - Google Patents

Fremgangsmåte for fremstilling av silisiumnitrid Download PDF

Info

Publication number
NO180081B
NO180081B NO894910A NO894910A NO180081B NO 180081 B NO180081 B NO 180081B NO 894910 A NO894910 A NO 894910A NO 894910 A NO894910 A NO 894910A NO 180081 B NO180081 B NO 180081B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
nitrogen
reaction
silicon
silicon nitride
reaction step
Prior art date
Application number
NO894910A
Other languages
English (en)
Other versions
NO180081C (no
NO894910D0 (no
NO894910L (no
Inventor
Jochen Hintermayer
Ernst Graf
Werner Gmohling
Georg Schroll
Wolfgang Kobler
Original Assignee
Sueddeutsche Kalkstickstoff
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sueddeutsche Kalkstickstoff filed Critical Sueddeutsche Kalkstickstoff
Publication of NO894910D0 publication Critical patent/NO894910D0/no
Publication of NO894910L publication Critical patent/NO894910L/no
Publication of NO180081B publication Critical patent/NO180081B/no
Publication of NO180081C publication Critical patent/NO180081C/no

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/06Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
    • C01B21/068Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
    • C01B21/0682Preparation by direct nitridation of silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/515Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
    • C04B35/58Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
    • C04B35/584Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/50Agglomerated particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/14Pore volume

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

Foreliggende oppfinnelse vedrører en fremgangsmåte for fremstilling av silisiumnitrid.
Silisiumnitrid omfattes med økende interesse som allsidig anvendbart keramisk materiale med høy temperaturbestandighet. Det har allerede fortrengt metaller eller .spesielle metal-legeringer fra mange anvendelsesområder. Følgelig finner dette materialet eksempelvis anvendelse ved deler som er utsatt for sterke temperaturbelastninger og som anvendes innen motorbygging. Også innen kjemisk apparatur har silisiumnitrid vist seg meget fordelaktig idet det både har en høy temperaturvekselbestandighet og også er meget mot-standsdyktig mot innvirkningen av kjemikalier. Innenfor den metallurgiske industrien er silisiumnitrid en uerstattelig bestanddel av støperenner, støpeøser, tappefremspring og lignende.
Egenskapene for gjenstander dannet av silisiumnitrid bestemmes i stor grad av materialets renhet.
For fremstilling av slike gjenstander tjener normalt et silisiumnitrid som både oppviser en høy renhet og også en høy andel av a-fase.
Det er kjent tallrike fremgangsmåter som med utgangspunkt i forskjellige råstoffer fører til silisiumnitrid. Følgelig beskrives eksempelvis i EP-A 0 082 343 fremstillingen av silisiumnitrid ved reaksjonen av silisiumdioksyd i nærvær av karbon med nitrogen ved temperaturer fra 1350 til 1550°C. Fra EP-A 0 206 795 er fremstillingen av et finfordelt silisiumnitrid med en høy andel av a-fase kjent, hvorved det som utgangsstoffer anvendes SiO og karbon samt eventuelt silisiumpulver og/eller silisiumnitrid, som oppvarmes i en nitrogenatmosfære på ikke under 2 bar til 1400 til 1800°C. En ulempe ved denne fremgangsmåten er den relativt høye andelen av forurensninger, slik at det for fremstillingen av et enhetlig produkt er nødvendig med ytterligere rensetrinn.
I EP-A 0 186 497 er en fremstillingsfremgangsmåte beskrevet hvori finfordelt silisium i en kornstørrelse under 150 mesh ved 1200 til 1400° C bringes til reaksjon med nitrogen som eventuelt er blandet med en inertgass. For å oppnå en høyest mulig andel av a-silisiumnitrid er det påkrevet å innstille temperaturen for den sterkt eksoterme reaksjonen i området mellom 1300 og 1400° C (kfr. også DE-OS 23 50 031, side 1, avsnitt 3). Ifølge fremgangsmåten i EP-A 0 186 497 oppnås opprettholdelsen av temperaturområdet på 1200 til 1400°C ved reaksjon ved undertrykk inntil ca. 50 % av det metalliske silisiumet har reagert. Ved denne fremgangsmåten kan det riktignok fremstilles et a-silisiumnitrid av høy renhet, men fremstillingen av en ved undertrykk og 1200 til 1400°C drevet reaksjonsovn er teknisk omstendelig. Videre er en kontinuerlig drift av en ovn ved forskjellige gasstrykk problem-atisk.
Følgelig besto den oppgaven å tilveiebringe en fremgangsmåte for fremstilling av silisiumnitrid som kan gjennomføres problemløst også i teknisk målestokk og hvorved det oppnådde produktet dannes i porøs form.
Det er nå funnet at dette målet oppnås ved at man i ett reaksjonstrinn omsetter silisiumpulver med nitrogen under stadig omrotering ved 1000 til 1800°C og 1,01 til 1,8 bar inntil et innhold på 5 til 25 vekt-# nitrogen.
Vanligvis oppviser silisiumnitridet et forhold a:<p->fase på 1:1 til 9:1.
Det har nemlig overraskende vist seg at man kan omgå vanske-lighetene ved fremstillingen av finfordelt silisiumnitrid-pulver når man fremstiller et azotert porøst granulat som er blitt fullstendig gjennomazotert i et andre reaksjonstrinn, og findeler dette til den ønskede finheten.
Foreliggende oppfinnelse tilveiebringer feri-gelig en fremgangsmåte for fremstilling av silisiumnitrid ved reaksjon av silisium og nitrogen, kjennetegnet ved at man i et første reaksjonstrinn omsetter silisiumpulver med nitrogen under stadig omrøring ved 1000 til 1800°C og 1,01-1,8 x 10<5>Pa (1,01 til 1,8 bar), inntil det oppnås et nitrogeninnhold på 5 til 25 vekt-#, og det delvis azoterte produktet får i et andre reaksjonstrinn reagere med en blanding av nitrogen og en inertgass ved 1100 til 1600°C inntil avslutning av nitrogenopptaket.
Azoteringen av det finfordelte silisiumet med nitrogen foregår fortrinnsvis i et utenfra oppvarmet dreierør, slik at nitrogenet ved bevegelsen av produktet stadig får en ny angrepsflate på silisiumpartiklene. Herved sikres at reaksjonsvarmen på grunn av den eksoterme reaksjonen straks avgis til dreierøret og dermed unngås en overoppvarming av reaksjonsmassen. Også anvendelsen av en etasjeovn med innebygde roteringsorganer er f.eks. mulig. Ved anvendelse av et svakt overtrykk i dette reaksjonstrinnet utelukkes inntreden av luftoksygen og dermed dannelsen av uønskede oksygenholdige silisiumforbindelser.
Anvendelsen av et lett overtrykk medfører ingen spesielle tetningsproblemer, selv ved temperaturer inntil 1800°C i reaksjonssonen. Gjennomløpshastigheten for silisium, henholdsvis når silisiumnitridet skal gjennomazoteres i to reaksjonstrinn, det delvis azoterte silisiumet, gjennom dreierøret innstilles på en slik måte at produktet ved utløp oppviser et nitrogeninnhold på 5 til 25 vekt-#. Den for dette formålet nødvendige tiden utgjør 2 til 60 minutter; generelt er 20 til 45 minutter tilstrekkelig til å oppnå det ønskede nitrogenopptaket. Det dannede, i det vesentlige kuleformede, porøse granulatet har en kornstørrelse på 0,1 til 20 mm og avkjøles til romtemperatur under den samme gassatmosfæren som hersker i dreierøret. Ved variasjon av reaksjonsbetingelsene (f.eks. skråningsvinkel og omdreiningshastighet for dreie- røret) kan kornstørrelsesbåndet for granulatet forskyves til lavere eller høyere verdier, hvorved også porøsiteten og pakningsvekten endrer seg innenfor visse grenser.
Ifølge en foretrukket utførelsesform av fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen blir silisiumet delvis azotert i et første trinn, og deretter ferdigazoteres det delvis azoterte granulatet i en gasstett ovn, fortrinnsvis i en såkalt kammerovn, ved 1100 til 1600°C, i stasjonært sjikt. Som reaksjonsmedium anvendes en blanding av nitrogen med en edelgass eller med hydrogen. Fortrinnsvis anvender man nitrogen i blanding med argon, hvorved nitrogenandelen, avhengig av nitrogeninnholdet i utgangsproduktet, kan variere mellom 30 og 100 volumprosent. Ved allerede relativt høye nitrogeninnhold for det delvis azoterte produktet anvendes en gass med høyere nitrogenandel enn ved et utgangsprodukt med lavere nitrogeninnhold. Azoteringen fortsettes inntil nitrogenforbruket pr. tidsenhet er sunket praktisk talt til null, hvorved produktet er fullstendig gjennomreagert og har oppnådd et nitrogeninnhold på inntil 39,5 %. Det derved oppnådde silisiumnitridgranulatet foreligger i løs pakning; det er ikke sammensintret og kan følgelig lett males til den ønskede kornstørrelsen.
Det porøse, i det vesentlige kuleformige granulatet har som regel en pakningsvekt på 0,5 til 1,5 g/cm5 , et porevolum på 30 til 80 # og oppstår med en kornstørrelse på 0,1 til 20 mm, fortrinnsvis på 1 til 10 mm. Silisiumnitridet fremstilt ifølge oppfinnelsen trenger ingen ytterligere rensetrinn ved utvasking med uorganiske syrer. En forutsetning for å oppnå et slikt høyrent silisiumnitrid er naturligvis også anvendelsen av tilsvarende rent silisiumpulver. Dette bør oppvise et innhold på minst 95 # Si. Generelt er for fremstillingen av teknisk anvendelig silisiumnitrid et utgangspunkt med 97,5 # Si tilstrekkelig; for spesialkvaliteter anvendes imidlertid også et silisiummetall med en renhetsgrad på 99,8 % Si.
Avhengig av det planlagte anvendelsesformålet kan forholdet mellom a:3-fase i produktet påvirkes ved tilsvarende styring av reaksjonstemperaturen, og varieres i forhold på 1:9 til 9:1. Det i et første reaksjonstrinn delvis azoterte produktet med et nitrogeninnhold på 5 til 25 vekt-% oppviser vanligvis et a:p-forhold på 1:1 til 9:1.
Det ved 1300 til 1400°C ifølge oppfinnelsen fremstilte silisiumnitridet består av 87 # a- og 13 1o p-fase. Det egner seg fremragende for fremstilling av pressede gjenstander eller komponenter i høytemperaturbestandige gjenstander.
For bestemte silisiumnitridkvaliteter, f.eks. slike med høyere andeler av p-fase, kan azoteringstemperaturen i det andre reaksjonstrinnet økes inntil 1600°C.
De etterfølgende eksemplene skal belyse oppfinnelsen nærmere.
Eksempel 1
Silisiumpulver med kornstørrelse < 20 jjm og en renhet på 99,5 % Si ble kontinuerlig tilført et dreierør gjennom-strømmet med nitrogen (99,99 % N). Dets 400 mm lange reaksjonssone var oppvarmet til 1350°C. Reaksjonen førte ved et nitrogentrykk på 1,1 bar og en oppholdstid på 30 minutter til et porøst, i det vesentlige kuleformig, granulat med en kornstørrelse mellom 1 og 5 mm og et nitrogeninnhold på 10 til 12 vekt-#. Etter overføring av dette granulatet til en gasstett kammerovn med nitrogen/argonatmosfære, hvorved nitrogen/argon-forholdet styres tilsvarende reaksjonsforløpet (ved raskt reaksjonsforløp, lavere nitrogenandel i gassbland-ingen enn ved langsommere reaksjonsforløp), ble. produktet fullstendig azotert i løpet av 48 timer ved en temperatur på 1300 til 1400°C. Nitrogeninnholdet for det oppnådde silisiumnitridet utgjorde 39,5 % (teroretisk 39,96 % N). Granulat-formen var fullstendig opprettholdt; porøsiteten, bestemt ved kapillartrykksfremgangsmåten (kvikksølvporoslmetri ), utgjorde 60 %.
Ved 24-timers behandling av det oppnådde produktet med 80°C varm konsentrert saltsyre og flussyre inntrådte hverken en vektendring eller en formendring.
Bet oppnådde silisiumnitridet ble malt i en svingeskivemølle til en kornstørrelse mindre enn 20 pm. Analysen av produktet viste
Faseanalysen viste en andel på 85 # a-Si3N4; den resterende andelen forelå i p-modifikasjonen.
Eksempel 2
Silisiumpulver med en kornstørrelse < 45 >im og et innhold på 95,5 % Si ble kontinuerlig tilført en dreieovn hvis 400 mm lange reaksjonssone var holdt på en temperatur på 1380°C. Omdreiningshastigheten for røret utgjorde 3 opm, nitrogen-trykket 1,2 bar. Oppholdstiden for produktet i det totalt 1500 mm lange dreierøret utgjorde 35 minutter. Det delvis azoterte produktet oppviste et nitrogeninnhold på 9,2 %, oppsto i et kornstørrelsesbånd på 1 til 8 mm og hadde en porøsitet på 40 # (bestemt ved kapillartrykksfremgangsmåten med lavtrykksporosimeter).
50 kg av det oppnådde delvis azoterte granulatet ble azotert videre i løs pakning i en til 1600°C oppvarmet kammerovn i en nitrogen/argonatmosfaere, hvorved forholdet mei-lom nitrogen og argon først utgjorde 1:2. I løpet av 8 timer ble temperaturen av ovnen senket til 1350° C og det fikk stå i ytterligere 16 timer ved denne temperaturen, hvorved nitrogenandelen i reaksjonsgassen ble hevet avhengig av reaksjonsforløpet inntil 100 % Ng. Etter denne tiden ble det fra ovnen tatt ut et silisiumnitrid med gjennomsnittlig 38, 2 % N som løst porøst granulat.
Faseanalysen viste et innhold av a-modifikasjon på 55 %; 45 % av produktet forelå som p-fase.
Eksempel 3
Silisiumpulver med en kornstørrelse < 20 pm og et silisium-innhold på 99 % ble kontinuerlig tilført til en dreierørsovn. I dreierøret forelå en ren nitrogenatmosfære ved et nitrogen-partialtrykk på 1,1 bar og en temperatur på 1350° C. Om-dreiningstallet for dreierøret utgjorde 3 opm, og den oppvarmede sonen viste en lengde på 400 mm. Oppholdstiden for pulveret i dreierøret utgjorde 10 minutter. Det ble dannet et porøst agglomerat med et gjennomsnittsområde på 2 til 5 mm og et gjennomsnittlig nitrogeninnhold på 6,7 0,2 vekt-#.
Faseanalysen viste et a-innhold på 90 %.
Eksempel 4
Silisiumpulver med en kornstørrelse på < 20 pm og et innhold på 98,5 % Si ble kontinuerlig tilført til en dreierørsovn. Reaksjonssonen hadde en temperatur på 1400°C og en lengde på 400 mm. Omdreiningshastigheten for røret utgjorde 1,5 opm, nitrogenpartialtrykket 1,01 bar. Oppholdstiden for produktet i reaksjonssonen utgjorde 45 minutter. Det ferdige produktet var et porøst granulat som ble dannet i kornstørrelsesbåndet 0,5 til 3 mm. Porøsiteten utgjorde 45 %."Nitrogeninnholdet utgjorde 39,2 vekt-#.
Faseanalysen viste et innhold av p-modifikasjonen på 70 %.

Claims (8)

1. Fremgangsmåte for fremstilling av silisiumnitrid ved reaksjon av silisium og nitrogen,karakterisertved at man i et første reaksjonstrinn omsetter silisiumpulver med nitrogen under stadig omrøring ved 1000 til 1800°C og 1,01-1,8 x 10<5>Pa (1,01 til 1,8 bar), inntil det oppnås et nitrogeninnhold på 5 til 25 vekt-#, og det delvis azoterte produktet får i et andre reaksjonstrinn reagere med en blanding av nitrogen og en inertgass ved 1100 til 1600° C inntil avslutning av nitrogenopptaket.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1,karakterisertved at det første reaksjonstrinnet gjennomføres i et dreierør.
3. Fremgangsmåte ifølge et av kravene 1 og 2,karakterisert vedat man anvender silisiumpulver med kornstørrelse < 500 pm, spesielt med en kornstørrelse < 20 pm.
4. Fremgangsmåte ifølge kravene 1 til 3,karakterisert vedat man anvender et silisiumpulver hvis innhold av Si ligger mellom 95 og 99,8 # , fortrinnsvis over 97,5 5é.
5. Fremgangsmåte ifølge kravene 1 til 4,karakterisert vedat oppholdstiden for silisiumpulveret i det første reaksjonstrinnet utgjør 2 til 60 minutter.
6. Fremgangsmåte ifølge krav 1-5,karakterisertved at det andre reaksjonstrinnet gjennomføres i en kammerovn i stasjonært sjikt.
7. Fremgangsmåte ifølge kravene 1-6,karakterisert vedat man i det andre reaksjonstrinnet anvender en blanding av nitrogen og argon som reaksjonsgass.
8. Fremgangsmåte ifølge krav 1-7,karakterisertved at nitrogenandelen i reaksjonsgassen innstilles på 30 til 70 volum-# og heves tilsvarende reaksjonsforløpet inntil 100 volum-# nitrogen.
NO894910A 1988-12-08 1989-12-07 Fremgangsmåte for fremstilling av silisiumnitrid NO180081C (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3841311 1988-12-08

Publications (4)

Publication Number Publication Date
NO894910D0 NO894910D0 (no) 1989-12-07
NO894910L NO894910L (no) 1990-06-11
NO180081B true NO180081B (no) 1996-11-04
NO180081C NO180081C (no) 1997-02-12

Family

ID=6368696

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO894910A NO180081C (no) 1988-12-08 1989-12-07 Fremgangsmåte for fremstilling av silisiumnitrid

Country Status (10)

Country Link
US (1) US5114693A (no)
EP (1) EP0377132B1 (no)
JP (1) JPH02196009A (no)
KR (1) KR920001513B1 (no)
AT (1) ATE106854T1 (no)
CA (1) CA2003811C (no)
DE (1) DE58907842D1 (no)
DK (1) DK605889A (no)
ES (1) ES2016068T3 (no)
NO (1) NO180081C (no)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02255510A (ja) * 1989-03-29 1990-10-16 Shin Etsu Chem Co Ltd 低酸素高β型窒化珪素微粉末及びその製造方法
US5156830A (en) * 1990-07-24 1992-10-20 Eaton Corporation Process for preparing an alpha-phase silicon nitride material and thereafter converting to non-densified beta-phase material
US5665279A (en) * 1994-09-02 1997-09-09 Minnesota Mining & Manufacturing Company Low density silicon nitride-containing beads, aggregates thereof, and method for preparing same
DE19612926C2 (de) * 1996-04-01 1999-09-30 Fraunhofer Ges Forschung Siliciumnitrid-Kompositpulver für thermische Beschichtungstechnologien und Verfahren zu ihrer Herstellung
JP2002075992A (ja) * 2000-09-01 2002-03-15 Fujitsu Ltd シリコン窒化膜の成膜方法および半導体装置の製造方法および半導体装置
US20040043888A1 (en) * 2002-08-28 2004-03-04 Noritake Co., Limited Compositions and methods for making microporous ceramic materials
JP4572382B2 (ja) * 2004-12-06 2010-11-04 独立行政法人 日本原子力研究開発機構 単結晶窒化ケイ素ナノシートとその製造方法
DE102008062177A1 (de) * 2008-12-13 2010-07-08 Alzchem Trostberg Gmbh Verfahren zur Herstellung von hochreinem Siliciumnitrid
KR101130298B1 (ko) * 2009-08-24 2012-03-23 한국기계연구원 규소의 입도분포 조절을 이용한 반응소결 질화규소 및 그 제조방법
CN107285288A (zh) * 2017-07-12 2017-10-24 深圳市东川技术研究有限公司 纳米氮化硅粉的制备方法
DE102018110731B4 (de) 2018-05-04 2020-06-18 Alzchem Trostberg Gmbh Azotiertes Silicium-haltiges Pulver

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE252597C (no) *
JPS5550882B2 (no) * 1973-03-27 1980-12-20
JPS6197110A (ja) * 1984-10-18 1986-05-15 Osaka Titanium Seizo Kk 高α相率窒化けい素の製造方法
JPS61158804A (ja) * 1984-12-28 1986-07-18 Onoda Cement Co Ltd 窒化けい素の製法
JPH03151603A (ja) * 1989-11-08 1991-06-27 Seiko Epson Corp 磁界発生装置
JPH03170203A (ja) * 1989-11-30 1991-07-23 Okuma Mach Works Ltd パルプの切粉つまり防止具並びにパイプ材加工方法

Also Published As

Publication number Publication date
DK605889D0 (da) 1989-11-30
NO180081C (no) 1997-02-12
CA2003811C (en) 1997-01-14
EP0377132A1 (de) 1990-07-11
CA2003811A1 (en) 1990-06-08
EP0377132B1 (de) 1994-06-08
DK605889A (da) 1990-06-09
JPH02196009A (ja) 1990-08-02
US5114693A (en) 1992-05-19
KR920001513B1 (ko) 1992-02-15
DE58907842D1 (de) 1994-07-14
NO894910D0 (no) 1989-12-07
ES2016068T3 (es) 1994-09-01
KR900009432A (ko) 1990-07-04
ATE106854T1 (de) 1994-06-15
NO894910L (no) 1990-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5783142A (en) Kiln system for treatment of reactive fines
KR101656779B1 (ko) 고순도 질화규소 제조방법
CA2105776C (en) Moving bed process for carbothermally synthesizing nonoxide ceramic powders
EP0802159B1 (en) Method of manufacturing lithium sulfide
NO180081B (no) Fremgangsmåte for fremstilling av silisiumnitrid
US5201949A (en) TiO2 manufacturing process
US4746638A (en) Alumina-titania composite powder and process for preparing the same
JP4030410B2 (ja) モリブデン金属及びそれらの製造
US5166103A (en) Method of making monotunsten carbide and mixtures of monotungsten carbide-titanium carbide powders
AU2005228207B2 (en) Cyclical vacuum chlorination processes, including lithium extraction
US4710369A (en) Oxidation method for production of special aluminas from pure aluminum chloride
US2618531A (en) Method of purifying zirconium tetrachloride vapors
US5075091A (en) Process for the preparation of silicon nitride
CA1191017A (en) Process for producing hydrogen fluoride
US4120941A (en) Process for the oxidation of halides
US6051729A (en) Process for preparing organosilazanes
JP2888275B2 (ja) 石英粉の連続精製方法
US4363789A (en) Alumina production via aluminum chloride oxidation
US3993649A (en) Process for preparing haloisocyanuric acids
CA1077678A (en) Process for the manufacture of aluminium chloride from ores
JPH07206431A (ja) α−アルミナ粉末の製造方法
SU1049430A1 (ru) Способ получени окиси магни ,легированной фторидом лити
KR20210005269A (ko) 삼염화붕소의 제조 방법
RU2450972C1 (ru) Способ получения порошка оксида цинка
JPH0460049B2 (no)

Legal Events

Date Code Title Description
MM1K Lapsed by not paying the annual fees