JPH03151603A - 磁界発生装置 - Google Patents
磁界発生装置Info
- Publication number
- JPH03151603A JPH03151603A JP29051789A JP29051789A JPH03151603A JP H03151603 A JPH03151603 A JP H03151603A JP 29051789 A JP29051789 A JP 29051789A JP 29051789 A JP29051789 A JP 29051789A JP H03151603 A JPH03151603 A JP H03151603A
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- JP
- Japan
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- yoke
- magnetic pole
- permanent magnet
- magnetic field
- magnetic
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- Pending
Links
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- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、被検体の断層像を撮影する核磁気共鳴撮像装
置（以下、ＭＨＩ装置と呼ぶ）などに用いられる広い空
隙内に高強度かつ高精度で均一な静磁場を発生させる磁
界発生装置に関する。
置（以下、ＭＨＩ装置と呼ぶ）などに用いられる広い空
隙内に高強度かつ高精度で均一な静磁場を発生させる磁
界発生装置に関する。
［従来の技術］
従来のＭＨＩ装置に用いられる磁界発生装置は、特開昭
６０−８８４０７等に記載される如き第３図に示すよう
なものであった。
６０−８８４０７等に記載される如き第３図に示すよう
なものであった。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、前述の従来技術では、永久磁石及び磁極片の周
方向の側面から空間を通しヨークに磁束が漏れ、この漏
洩磁束量が中心磁場強度の低減を招き、更にこの低減量
が画像のコントラストに悪影響を与え、鮮明な画像を得
に＜＜シているという課題を有していた。
方向の側面から空間を通しヨークに磁束が漏れ、この漏
洩磁束量が中心磁場強度の低減を招き、更にこの低減量
が画像のコントラストに悪影響を与え、鮮明な画像を得
に＜＜シているという課題を有していた。
そこで本発明は、このような課題を解決するもので、そ
の目的とするところは、永久磁石及び磁極片からヨーク
に漏洩する磁束量を減少させ、鮮明な画像を得られる磁
界発生装置の構成を提供するところにある。
の目的とするところは、永久磁石及び磁極片からヨーク
に漏洩する磁束量を減少させ、鮮明な画像を得られる磁
界発生装置の構成を提供するところにある。
［課題を解決するための手段］
本発明の磁界発生装置は、永久磁石、ヨーク、磁極片、
支柱の各要素の構成によりなる磁界発生装置において、
前記ヨークの一部に四部を設けたことを特徴とする。
支柱の各要素の構成によりなる磁界発生装置において、
前記ヨークの一部に四部を設けたことを特徴とする。
［作用コ
本発明の上記の構成によれば、永久磁石及び磁極片の周
方向の側面とヨークの距離をできる限り離すことで、永
久磁石及び磁極片の周方向の測面から空間を通して漏れ
る磁束量を減少させることが可能となり、このことで磁
極片から相対する磁極片を通過する磁束量が多くなり、
中心磁場強度が向上し鮮明な画像を得るために必要な信
号が得られるものである。
方向の側面とヨークの距離をできる限り離すことで、永
久磁石及び磁極片の周方向の測面から空間を通して漏れ
る磁束量を減少させることが可能となり、このことで磁
極片から相対する磁極片を通過する磁束量が多くなり、
中心磁場強度が向上し鮮明な画像を得るために必要な信
号が得られるものである。
［実施例１］
第１図は本発明の一実施例を示す磁界発生装置の主要断
面図である、１は永久磁石、２は磁極片、３はヨーク、
４は支柱である。更に第４図に上面図を示す。第１図に
基づき説明すると、ヨーク３に接続されている永久磁石
１は材質がＰｒ−Ｆｅ−Ｂ系 （エネルギー積が２５メ
カ゛力゛ウスエルステッド）で形状は円盤状をなし外形
は半ｆＺ（ｒ＋）５５ｃｍ。
面図である、１は永久磁石、２は磁極片、３はヨーク、
４は支柱である。更に第４図に上面図を示す。第１図に
基づき説明すると、ヨーク３に接続されている永久磁石
１は材質がＰｒ−Ｆｅ−Ｂ系 （エネルギー積が２５メ
カ゛力゛ウスエルステッド）で形状は円盤状をなし外形
は半ｆＺ（ｒ＋）５５ｃｍ。
肉厚（Ｔ＋）１０．５ｃｍである。上下ヨーク間に４本
均等位置に支柱４が設けられ長さ（ｇ）１３８ｃｍであ
る。ヨーク３は材質がスチールで形状は円盤状をなし外
形は半径（ｒ２）９８ｃｍ、肉厚（Ｔ３）１２．５ｃｍ
であり、永久磁石１と支柱４の間には弧状の凹部が設け
られている。この凹部の日量はヨーク３に流れる磁束量
が飽和しない程度の量でコントロールされており、弧状
の最も深いところの距Ｍ （Ｄ）は７ｃｍである。磁石
１に接続されている磁極片２は中心磁場強度の均一化の
為に一方端の外周部は中心部に比べ、肉厚が厚くなって
おり、この外周部の肉厚（Ｔ２）は１５ｃｍである。上
記の様に構成された磁界発生装置において、中心磁場強
度を測定したところ、最大磁場強度は１７７０ガウス、
均一性はｓｏｐｐｍと良好であり、従来のヨークに四部
のない磁気回路に比べ、中心磁場強度も約５％向上し画
像も鮮明なものが得られた。
均等位置に支柱４が設けられ長さ（ｇ）１３８ｃｍであ
る。ヨーク３は材質がスチールで形状は円盤状をなし外
形は半径（ｒ２）９８ｃｍ、肉厚（Ｔ３）１２．５ｃｍ
であり、永久磁石１と支柱４の間には弧状の凹部が設け
られている。この凹部の日量はヨーク３に流れる磁束量
が飽和しない程度の量でコントロールされており、弧状
の最も深いところの距Ｍ （Ｄ）は７ｃｍである。磁石
１に接続されている磁極片２は中心磁場強度の均一化の
為に一方端の外周部は中心部に比べ、肉厚が厚くなって
おり、この外周部の肉厚（Ｔ２）は１５ｃｍである。上
記の様に構成された磁界発生装置において、中心磁場強
度を測定したところ、最大磁場強度は１７７０ガウス、
均一性はｓｏｐｐｍと良好であり、従来のヨークに四部
のない磁気回路に比べ、中心磁場強度も約５％向上し画
像も鮮明なものが得られた。
［実施例２］
第２図は、実施例１の磁界発生装置を更に改善したもの
であり、永久磁石１′と磁極片２′の周方向の側面に隣
接する支柱４゛面は弧状をなしている。この実施例にお
ける改Ｍ目的は永久磁石ｌ゛及び磁極片２°の周方向の
側面から支柱４に漏れる磁束を減少させることである。
であり、永久磁石１′と磁極片２′の周方向の側面に隣
接する支柱４゛面は弧状をなしている。この実施例にお
ける改Ｍ目的は永久磁石ｌ゛及び磁極片２°の周方向の
側面から支柱４に漏れる磁束を減少させることである。
この磁界発生装置において中心磁場強度を測定したとこ
ろ最大磁場強度は１８００ガウスと実施例１に比べ僅か
であるが向上でき、画像も鮮明なものが得られた。
ろ最大磁場強度は１８００ガウスと実施例１に比べ僅か
であるが向上でき、画像も鮮明なものが得られた。
［実施例３］
実施例１と同様の磁界発生装置を用い、四回と中心磁場
強度の関係を調べた。以下表１に実施結果を示す。 （
但し、ヨークの肉厚は１２．５ｃｍ）表１ 以上表１に示す様にヨークの肉厚を一定にした場合、凹
部を設けることで中心磁場強度の向上ができた。
強度の関係を調べた。以下表１に実施結果を示す。 （
但し、ヨークの肉厚は１２．５ｃｍ）表１ 以上表１に示す様にヨークの肉厚を一定にした場合、凹
部を設けることで中心磁場強度の向上ができた。
［発明の効果］
以上述べたような発明によれば、永久磁石及び磁極片の
周方向側面近傍のヨークの一部に四部を設けることで、
永久磁石及び磁極片からヨークに漏れる漏洩磁束を減少
させることが可能となり、磁気回路の効率が高まり中心
磁場強度の高いものが得られ、かつ鮮明な画像が得られ
るものである。
周方向側面近傍のヨークの一部に四部を設けることで、
永久磁石及び磁極片からヨークに漏れる漏洩磁束を減少
させることが可能となり、磁気回路の効率が高まり中心
磁場強度の高いものが得られ、かつ鮮明な画像が得られ
るものである。
他の効果としては従来の製造方法とほとんど変わらない
ためコスト的にも従来と変わらなく製造出来るという効
果もある。
ためコスト的にも従来と変わらなく製造出来るという効
果もある。
なお、実施例において、材質、外形が記載しであるが、
これは限定されるものではなく、特に永久磁石は、材質
はエネルギー積が２５メガガウス工ルステツド以上のも
のであればなんでもよく、また外形も規定されるもので
はない。更にまた、四部の四回についても記載しである
が、当然ヨーク肉厚が変われば変化するものであり、規
定されるものでもない。
これは限定されるものではなく、特に永久磁石は、材質
はエネルギー積が２５メガガウス工ルステツド以上のも
のであればなんでもよく、また外形も規定されるもので
はない。更にまた、四部の四回についても記載しである
が、当然ヨーク肉厚が変われば変化するものであり、規
定されるものでもない。
第１図は本発明の実施例１における主要断面図。
第２図は本発明の実施例２における主要断面図。
第３図は従来の磁場発生装置の断面図。
第４図は磁場発生装置の上面図。
１．１．１１１１１１１ ・・・永久磁石２．２′、
２“′ ２”″ ・・・磁極片３．３．３ ３ ・・
・ヨーク ４．４．４”＋ ４ ＋ ＋ ＋ ・・・支柱以上
２“′ ２”″ ・・・磁極片３．３．３ ３ ・・
・ヨーク ４．４．４”＋ ４ ＋ ＋ ＋ ・・・支柱以上
Claims (1)
- 永久磁石、ヨーク、磁極片、支柱の各要素の構成によ
りなる磁界発生装置において、前記ヨークの一部に凹部
を設けたことを特徴とする磁界発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29051789A JPH03151603A (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | 磁界発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29051789A JPH03151603A (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | 磁界発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03151603A true JPH03151603A (ja) | 1991-06-27 |
Family
ID=17757051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29051789A Pending JPH03151603A (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | 磁界発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03151603A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5114693A (en) * | 1988-12-08 | 1992-05-19 | Skw Trostberg Aktiengesellschaft | Process for the production of silicon nitride and product made according to the process |
-
1989
- 1989-11-08 JP JP29051789A patent/JPH03151603A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5114693A (en) * | 1988-12-08 | 1992-05-19 | Skw Trostberg Aktiengesellschaft | Process for the production of silicon nitride and product made according to the process |
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