JPH05152120A - 磁場発生装置及び磁場均一度調整方法 - Google Patents
磁場発生装置及び磁場均一度調整方法Info
- Publication number
- JPH05152120A JPH05152120A JP3339980A JP33998091A JPH05152120A JP H05152120 A JPH05152120 A JP H05152120A JP 3339980 A JP3339980 A JP 3339980A JP 33998091 A JP33998091 A JP 33998091A JP H05152120 A JPH05152120 A JP H05152120A
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- magnetic field
- hole
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 発生磁場の均一度を上げるために補助磁性体
を用いて磁場調整を行なう磁場発生装置に於いて、補助
磁性体上下移動のための機構を必要とせず、且つ、磁束
量の微調整が極めて容易な磁場発生装置及び磁場均一度
調整方法を提供する。 【構成】 磁場を発生する対向した1対のリング状永久
磁石の透孔内に、少なくとも1個の磁場調整用補助磁性
体片を設け、一方の永久磁石から出る磁束量と他方の永
久磁石に入る磁束量とができるだけ等しくなるように磁
場を調整して、対向磁石間の磁場を均一にする。
を用いて磁場調整を行なう磁場発生装置に於いて、補助
磁性体上下移動のための機構を必要とせず、且つ、磁束
量の微調整が極めて容易な磁場発生装置及び磁場均一度
調整方法を提供する。 【構成】 磁場を発生する対向した1対のリング状永久
磁石の透孔内に、少なくとも1個の磁場調整用補助磁性
体片を設け、一方の永久磁石から出る磁束量と他方の永
久磁石に入る磁束量とができるだけ等しくなるように磁
場を調整して、対向磁石間の磁場を均一にする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁場発生装置及び磁場均
一度調整方法に関し、特に磁気共鳴を利用して物体の画
像を得る磁気共鳴撮影装置(MRI)に用いて好適であ
る。
一度調整方法に関し、特に磁気共鳴を利用して物体の画
像を得る磁気共鳴撮影装置(MRI)に用いて好適であ
る。
【0002】
【従来の技術】図2乃至図5を用いて、従来例について
説明する。永久磁石を使用したMRI用の磁場発生装置
に於いては、図2のような永久磁石対向型がよく知られ
ている。MRI用磁場発生装置として使用するには、所
定空間(磁石対向型では対向磁石面間の空間)に均一磁
場を発生させる必要がある。このため、図2に示すよう
に、継鉄12の内部に異極同士を対向させたリング状永
久磁石対10a、10bを設け、その対向面に、外周に
突起部16a、16bを夫々有する整磁板14a、14
b(軟鉄等の磁性体からなる磁極板)を設けて均一磁場
が得られるよう工夫している。
説明する。永久磁石を使用したMRI用の磁場発生装置
に於いては、図2のような永久磁石対向型がよく知られ
ている。MRI用磁場発生装置として使用するには、所
定空間(磁石対向型では対向磁石面間の空間)に均一磁
場を発生させる必要がある。このため、図2に示すよう
に、継鉄12の内部に異極同士を対向させたリング状永
久磁石対10a、10bを設け、その対向面に、外周に
突起部16a、16bを夫々有する整磁板14a、14
b(軟鉄等の磁性体からなる磁極板)を設けて均一磁場
が得られるよう工夫している。
【0003】しかし、対向する1対の永久磁石10a、
10bの大きさ、形状、特性等を等しくすることは実際
上極めて困難であり、一方の永久磁石(例えば永久磁石
10a)から出る磁束量と、他方の永久磁石(永久磁石
10b)に入る磁束量を等しくすることができない。こ
のため、磁場の均一度を向上させる目的で、例えば図3
乃至図5に示す装置が提案されている。
10bの大きさ、形状、特性等を等しくすることは実際
上極めて困難であり、一方の永久磁石(例えば永久磁石
10a)から出る磁束量と、他方の永久磁石(永久磁石
10b)に入る磁束量を等しくすることができない。こ
のため、磁場の均一度を向上させる目的で、例えば図3
乃至図5に示す装置が提案されている。
【0004】図3乃至図5に示した従来例に於いては、
その基本的な考えを等しくしている。即ち、永久磁石2
6a、26b(直径約1.0〜1.2m)の透孔(直径
約10〜20cm)に対応する部分の継鉄に透孔を設
け、この孔に補助磁性体22a、22bを挿入する。次
に、補助磁性体の上下位置を調整し、一方の永久磁石
(例えば26a)から出る磁束量と他方の永久磁石(2
6b)に入る磁束量とをできるだけ等しくなるようにし
て磁場の均一度を向上させている。
その基本的な考えを等しくしている。即ち、永久磁石2
6a、26b(直径約1.0〜1.2m)の透孔(直径
約10〜20cm)に対応する部分の継鉄に透孔を設
け、この孔に補助磁性体22a、22bを挿入する。次
に、補助磁性体の上下位置を調整し、一方の永久磁石
(例えば26a)から出る磁束量と他方の永久磁石(2
6b)に入る磁束量とをできるだけ等しくなるようにし
て磁場の均一度を向上させている。
【0005】補助磁性体の上下移動方法の例を、各々、
図3乃至図5に示す。図3では、補助磁性体22a、2
2bにねじ溝を設けた軸20a、20bを固定し、架台
24a、24bで軸20a、20bを支持し、軸20
a、20bを回転させて補助磁性体22a、22bを上
下に移動させる。
図3乃至図5に示す。図3では、補助磁性体22a、2
2bにねじ溝を設けた軸20a、20bを固定し、架台
24a、24bで軸20a、20bを支持し、軸20
a、20bを回転させて補助磁性体22a、22bを上
下に移動させる。
【0006】図4では、継鉄12の外部に設けた油圧シ
リンダー28a、28bにより補助磁性体22a、22
bに固定した軸20a、20bを上下させて、補助磁性
体22a、22bの上下位置を調整する。
リンダー28a、28bにより補助磁性体22a、22
bに固定した軸20a、20bを上下させて、補助磁性
体22a、22bの上下位置を調整する。
【0007】図5では、補助磁性体22a、22bの、
整磁板14a、14b側と反対側の面に補助板30a、
30bを設けている。補助板30a、30bの側面と、
これに接する継鉄12の孔にねじを設け、補助板30
a、30bを回転させて補助磁性体22a、22bを上
下に移動させる。
整磁板14a、14b側と反対側の面に補助板30a、
30bを設けている。補助板30a、30bの側面と、
これに接する継鉄12の孔にねじを設け、補助板30
a、30bを回転させて補助磁性体22a、22bを上
下に移動させる。
【0008】しかし、上記図3乃至図4の方法による
と、補助磁性体を上下に移動させる機構を磁場発生装置
外部に設置する必要があるため、磁場発生装置が大型に
なるという欠点があった。
と、補助磁性体を上下に移動させる機構を磁場発生装置
外部に設置する必要があるため、磁場発生装置が大型に
なるという欠点があった。
【0009】更に、上記図3乃至図5の方法によると、
透孔に設けられた補助磁性体は、全体として上下に移動
するだけなので、磁束量の微調整が困難であるという欠
点もあった。
透孔に設けられた補助磁性体は、全体として上下に移動
するだけなので、磁束量の微調整が困難であるという欠
点もあった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、補助
磁性体上下移動のための機構を必要とせず、且つ、磁束
量の微調整が極めて容易な磁場発生装置及び磁場均一度
調整方法を提供することである。
磁性体上下移動のための機構を必要とせず、且つ、磁束
量の微調整が極めて容易な磁場発生装置及び磁場均一度
調整方法を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の第1実施例は、
(a) 継鉄と、(b) 中心部に透孔を有し且つ厚み方向に
磁化され、上記継鉄の内部に設けられた1対のリング状
永久磁石と、(c) 上記1対のリング状永久磁石の対向
面の夫々に設けた整磁板と、(d) 上記リング状永久磁
石の透孔の内壁および/または上記透孔に面する上記整
磁板上に配置した少なくとも1個の磁性体片とを有する
磁場発生装置であり、本発明の第2実施例は、中心部に
透孔を有し、厚み方向に磁化された1対のリング状永久
磁石を対向させて継鉄内部に設け、上記1対のリング状
永久磁石の対向面の夫々に整磁板を設け、対向した整磁
板の間の空間に磁場を発生させる磁場発生装置に於い
て、(a) 上記リング状永久磁石の透孔の内壁および/
または上記透孔に面する上記整磁板上に少なくとも1個
の磁性体片を配置しその位置を変えて磁場の均一度を調
整し、(b) 調整完了後に上記磁性体片を固定すること
を特徴とする磁場均一度調整方法である。
(a) 継鉄と、(b) 中心部に透孔を有し且つ厚み方向に
磁化され、上記継鉄の内部に設けられた1対のリング状
永久磁石と、(c) 上記1対のリング状永久磁石の対向
面の夫々に設けた整磁板と、(d) 上記リング状永久磁
石の透孔の内壁および/または上記透孔に面する上記整
磁板上に配置した少なくとも1個の磁性体片とを有する
磁場発生装置であり、本発明の第2実施例は、中心部に
透孔を有し、厚み方向に磁化された1対のリング状永久
磁石を対向させて継鉄内部に設け、上記1対のリング状
永久磁石の対向面の夫々に整磁板を設け、対向した整磁
板の間の空間に磁場を発生させる磁場発生装置に於い
て、(a) 上記リング状永久磁石の透孔の内壁および/
または上記透孔に面する上記整磁板上に少なくとも1個
の磁性体片を配置しその位置を変えて磁場の均一度を調
整し、(b) 調整完了後に上記磁性体片を固定すること
を特徴とする磁場均一度調整方法である。
【0012】
【実施例】本発明に係る磁場発生装置を図1に示す。中
心部に透孔を有したリング状永久磁石26a、26bの
直径は例えば約1.0〜1.2m、上記透孔の直径は例
えば約10〜20cmである。
心部に透孔を有したリング状永久磁石26a、26bの
直径は例えば約1.0〜1.2m、上記透孔の直径は例
えば約10〜20cmである。
【0013】図1に示すように、リング状永久磁石の透
孔の内壁および/または上記透孔に面する整磁板上に磁
性体片32を配置する。発生磁場の均一度を測定しなが
ら、磁性体片32の数量、位置などを調節し、最も高い
磁場均一度の得られる位置を決定する。補助磁性体片3
2は、数mm立方から5cm立方程度と小さく、種々の
大きさの組み合わせが可能なので、磁束の微調整により
高い磁場均一度が得られる。可能な限りの高い磁場均一
度を上記の方法で得、補助磁性体片32を接着剤で固着
する。
孔の内壁および/または上記透孔に面する整磁板上に磁
性体片32を配置する。発生磁場の均一度を測定しなが
ら、磁性体片32の数量、位置などを調節し、最も高い
磁場均一度の得られる位置を決定する。補助磁性体片3
2は、数mm立方から5cm立方程度と小さく、種々の
大きさの組み合わせが可能なので、磁束の微調整により
高い磁場均一度が得られる。可能な限りの高い磁場均一
度を上記の方法で得、補助磁性体片32を接着剤で固着
する。
【0014】対向磁石間に約2000ガウスの磁場を発
生させた際、図3乃至図5の従来例では磁場均一度の上
限は約50ppmであったが、本発明の方法では約10
ppmまで向上させることができた。
生させた際、図3乃至図5の従来例では磁場均一度の上
限は約50ppmであったが、本発明の方法では約10
ppmまで向上させることができた。
【0015】上述の実施例では複数の補助磁性体片を用
いたが、場合によっては1個の補助磁性体片により所望
の磁場均一度を得ることができる。
いたが、場合によっては1個の補助磁性体片により所望
の磁場均一度を得ることができる。
【0016】
【発明の効果】本発明の磁場発生装置及び磁場均一度調
整方法では、 (1) 1個或いは複数個の補助磁性体片を透孔内に配置す
る際に、従来の如き補助磁性体の上下移動機構を必要と
しないため、磁場発生装置が小型になる。 (2) 磁場均一度調整方法は、小さな補助磁性体片を組み
合わせて配置することにより行なうので、磁束量の微調
整が極めて容易であり、磁場均一度を向上させることが
できる。
整方法では、 (1) 1個或いは複数個の補助磁性体片を透孔内に配置す
る際に、従来の如き補助磁性体の上下移動機構を必要と
しないため、磁場発生装置が小型になる。 (2) 磁場均一度調整方法は、小さな補助磁性体片を組み
合わせて配置することにより行なうので、磁束量の微調
整が極めて容易であり、磁場均一度を向上させることが
できる。
【図1】本発明の磁場発生装置の図。
【図2】永久磁石対向型の磁場発生装置の概略断面図。
【図3】従来の磁場均一度調整方法の一例を説明する
図。
図。
【図4】従来の磁場均一度調整方法の一例を説明する
図。
図。
【図5】従来の磁場均一度調整方法の一例を説明する
図。
図。
Claims (2)
- 【請求項1】(a) 継鉄と、 (b) 中心部に透孔を有し且つ厚み方向に磁化され、上
記継鉄の内部に設けられた1対のリング状永久磁石と、 (c) 上記1対のリング状永久磁石の対向面の夫々に設
けた整磁板と、 (d) 上記リング状永久磁石の透孔の内壁および/また
は上記透孔に面する上記整磁板上に配置した少なくとも
1個の磁性体片とを 有する磁場発生装置。 - 【請求項2】中心部に透孔を有し、厚み方向に磁化され
た1対のリング状永久磁石を対向させて継鉄内部に設
け、上記1対のリング状永久磁石の対向面の夫々に整磁
板を設け、対向した整磁板の間の空間に磁場を発生させ
る磁場発生装置に於いて、 (a) 上記リング状永久磁石の透孔の内壁および/また
は上記透孔に面する上記整磁板上に少なくとも1個の磁
性体片を配置しその位置を変えて磁場の均一度を調整
し、 (b) 調整完了後に上記磁性体片を固定する ことを特徴とする磁場均一度調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3339980A JPH05152120A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 磁場発生装置及び磁場均一度調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3339980A JPH05152120A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 磁場発生装置及び磁場均一度調整方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05152120A true JPH05152120A (ja) | 1993-06-18 |
Family
ID=18332593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3339980A Pending JPH05152120A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 磁場発生装置及び磁場均一度調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05152120A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1214906A1 (en) * | 1999-09-16 | 2002-06-19 | Hitachi Medical Corporation | Open-type magnet device for mri |
JP2004305744A (ja) * | 2003-04-04 | 2004-11-04 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | Mri用磁場生成器の中心磁場を調節するための方法及び装置 |
-
1991
- 1991-11-29 JP JP3339980A patent/JPH05152120A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1214906A1 (en) * | 1999-09-16 | 2002-06-19 | Hitachi Medical Corporation | Open-type magnet device for mri |
EP1214906A4 (en) * | 1999-09-16 | 2006-02-22 | Hitachi Medical Corp | OPEN MAGNET FOR MRI |
JP2004305744A (ja) * | 2003-04-04 | 2004-11-04 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | Mri用磁場生成器の中心磁場を調節するための方法及び装置 |
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