NO148300B - Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og vandig pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaaten - Google Patents
Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og vandig pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaatenInfo
- Publication number
- NO148300B NO148300B NO762379A NO762379A NO148300B NO 148300 B NO148300 B NO 148300B NO 762379 A NO762379 A NO 762379A NO 762379 A NO762379 A NO 762379A NO 148300 B NO148300 B NO 148300B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- nickel
- cobalt
- iron
- acid
- iron alloy
- Prior art date
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 74
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 49
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 34
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 claims description 30
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 30
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 27
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 claims description 15
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-isoascorbic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 claims description 12
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 claims description 12
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 claims description 12
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 11
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 claims description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 7
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 claims description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 7
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- DOUHZFSGSXMPIE-UHFFFAOYSA-N hydroxidooxidosulfur(.) Chemical class [O]SO DOUHZFSGSXMPIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000004318 erythorbic acid Substances 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 claims description 4
- PMVSDNDAUGGCCE-TYYBGVCCSA-L Ferrous fumarate Chemical compound [Fe+2].[O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O PMVSDNDAUGGCCE-TYYBGVCCSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical class 0.000 claims description 3
- JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-M benzenesulfinate Chemical compound [O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 claims description 2
- 239000002211 L-ascorbic acid Substances 0.000 claims 2
- 235000000069 L-ascorbic acid Nutrition 0.000 claims 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 2
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 claims 2
- NVSONFIVLCXXDH-UHFFFAOYSA-N benzylsulfinic acid Chemical compound O[S@@](=O)CC1=CC=CC=C1 NVSONFIVLCXXDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 55
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 27
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical class OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 6
- -1 iron ions Chemical class 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- NIAGBSSWEZDNMT-UHFFFAOYSA-N hydroxidotrioxidosulfur(.) Chemical compound [O]S(O)(=O)=O NIAGBSSWEZDNMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 2
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 2
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AGBXYHCHUYARJY-VOTSOKGWSA-N (e)-2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- JIRWUMDGRLCQIT-UHFFFAOYSA-M 1-(1,2-dichloroprop-1-enyl)pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CC(Cl)=C(Cl)[N+]1=CC=CC=C1 JIRWUMDGRLCQIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SPKKUSPQPHBCEZ-UHFFFAOYSA-M 2,4,6-trimethyl-1-prop-2-ynylpyridin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].CC1=CC(C)=[N+](CC#C)C(C)=C1 SPKKUSPQPHBCEZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDMJHPRLSACEJC-UHFFFAOYSA-M 2-methyl-1-prop-2-enylquinolin-1-ium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC2=[N+](CC=C)C(C)=CC=C21 GDMJHPRLSACEJC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-(4-imino-3-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]aniline;hydron;chloride Chemical compound Cl.C1=CC(=N)C(C)=CC1=C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXJVNINSOKCNJP-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfinate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])=O)C=C1 FXJVNINSOKCNJP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVYYOKWPCQYKEY-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co] Chemical compound [Fe].[Co] QVYYOKWPCQYKEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N copper(i) cyanide Chemical compound [Cu+].N#[C-] DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMVRDGHCVNAOIN-UHFFFAOYSA-L disodium;1-dodecoxydodecane;sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O.CCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCC SMVRDGHCVNAOIN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 description 1
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 1
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SQZYOZWYVFYNFV-UHFFFAOYSA-L iron(2+);disulfamate Chemical compound [Fe+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O SQZYOZWYVFYNFV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- OVQABVAKPIYHIG-UHFFFAOYSA-N n-(benzenesulfonyl)benzenesulfonamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 OVQABVAKPIYHIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICYDASAGOZFWIC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfinic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)O)=CC=CC2=C1 ICYDASAGOZFWIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- UNYWISZSMFIKJI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)CC=C UNYWISZSMFIKJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- SOUHUMACVWVDME-UHFFFAOYSA-N safranin O Chemical compound [Cl-].C12=CC(N)=CC=C2N=C2C=CC(N)=CC2=[N+]1C1=CC=CC=C1 SOUHUMACVWVDME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- DGSDBJMBHCQYGN-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylhexyl sulfate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COS([O-])(=O)=O DGSDBJMBHCQYGN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YSJZWXFVNXMVCR-UHFFFAOYSA-M sodium;3-chlorobut-2-ene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CC(Cl)=CCS([O-])(=O)=O YSJZWXFVNXMVCR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfinate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LDHXNOAOCJXPAH-UHFFFAOYSA-M sodium;prop-2-yne-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC#C LDHXNOAOCJXPAH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M toluene-4-sulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K trisodium;naphthalene-1,3,6-trisulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C21 NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
Den foreliggende oppfinnelse går ut på forbedrede frem-gangsmåter og bad til fremstilling av elektrolytiske halv-
blanke eller blanke utfellinger av jernlegeringer som inne-
holder nikkel og/eller kobolt. Nærmere bestemt går oppfinnel-
sen ut på bruken av en ny tilsetningskombinasjon til forbed-
ring av elektrolytisk plettering med jernholdige legeringer av nikkel og/eller kobolt.
Som følge av at jern og jernsalter er meget billigere
enn nikkel og kobolt og disse salter, vil det være meget øn-
skelig elektrolytisk å kunne utfelle legeringer av nikkel og/eller kobolt med et betydelig jerninnhold for på denne måte å redusere materialkostnadene.
Ved fremgangsmåten blir strøm ført fra en anode til en
katode gjennom en vandig sur pletteringsoppløsning som inne-
holder minst en jernforbindelse og nikkel- og/eller koboltforbindelser, i tilstrekkelig lang tid til at der dannes en elektrolytisk metallutfelling på katodeoverflaten, idet badet eller pletteringsoppløsningen eventuelt også inneholder askorbinsyre eller isoaskorbinsyre.
Ifølge oppfinnelsen inneholder pletteringsoppløsningen
1) 1-15 g/l askorbinsyre, isoaskorbinsyre og/eller erytorbinsyre som samvirkende tilsetning og 2) 0,01-10,0 g/l av et reaksjonsprodukt av et aromatisk sulfinat og et aldehyd eller aldehydderivat, idet reaksjonsproduktet har formelen R^SC^CHOHR, hvor R'' er R'C6H4 eller naftalen og R og R' er valgt hver
for seg blant hydrogen, alkyl, aralkyl, aryl, alkaryl og alkalimetallderivater herav, idet R' når det er et cykloalkyl, er bundet til C^H^-ringen.
De foretrukne sulfinater for bruk i pletteringsoppløs-
ningen eller badet er benzensulfinat og toluensulfinat. Andre arylsulfinater som kan benyttes, er xylensulfinater og naf-talensulfinater. Erytorbinsyre (askorbinsyre og isoaskorbin-
syre) og reaksjonsproduktet av et aldehyd og et aromatisk sulfinat samvirker synergistisk for å redusere og beherske dannelsen av jern og således tillate oppnåelse av et blankt,
jevnt plettéringsbelegg ved høye pH-verdier. Det er ønskelig
å la et jernlegeringsbad arbeide ved høyere pH-verdier for å redusere pletteringsoppløsningens angrep på jernanoden i stillstandsperioder og dermed få en mere stabil badsammenset-r> ing.
Et foretrukket reaksjonsprodukt er reaksjonsproduktet av p-toluensulfinat og formaldehyd.
Askorbinsyre har formelen
Erytorbinsyre og isoaskorbinsyre er optiske iscmerer av askorbinsyre .
Med pletteringsoppløsningen ifølge den foreliggende oppfinnelse hindres oksydasjon og utfelling av jernioner i et pH-område på 4,0-5,5, så der fås en blank utfelling med et bredt strømtetthetsområde. Drift av pletteringsbadet i dette pH-område gir en høyere blankhetsgrad, større speilvirkning, bedre utjevning og bedre spredningsevne enn lavere områder for pH-verdien.
Badet kan også inneholde en primær glanstilsats, en sekundær glanstilsats, en sekundær hjelpeglanstilsats og/eller et antigropdannende middel.
For oppnåelse av blanke, godt utjevnede legeringsutfel-linger kan der således anvendes primære glanstilsatser som f.eks. dietoksylert 2-butyn-l,4-diol eller dipropoksylert 2-butyn-l,4-diol sammen med en sulfo-oksygenforbindelse, fortrinnsvis sakkarin, som sekundær glanstilsats, en sekundær hjelpeglanstilsats og et antigropdannende middel. Hvis høy-glans og full utjevning ikke er ønskelig, kan der fås en nokså glansfull utfelling med rimelig utjevning ved at der som primær glanstilsats anvendes en heterocyklisk nitrogenforbin-delse, f.eks. N-allylkinoliniumbromid, ved en konsentrasjon på ca. 5-20 mg/l sammen med en sulfo-oksygenforbindelse som sekundær glanstilsats, en sekundær hjelpeglanstilsats og et antigropdannende middel.
De underlag som de nikkel- og/eller kobolt- og jernholdige elektrolytiske utfellinger kan påføres på ifølge den foreliggende oppfinnelse, kan være av metall eller metall-legeringer av den art som vanligvis forsynes med elektroly-
tiske utfellinger og benyttes i faget, f.eks. nikkel, kobolt, nikkelkobolt, kobber, tinn, messing etc. Andre typiske under-lagsmaterialer som gjenstander som skal pletteres, fremstilles fra, omfatter jernholdige metaller, f.eks. stål, kobber, kob-berlegeringer, f.eks. messing, bronse etc, og zink, spesielt i form av kokillestøpestykker på zinkbasis, og alle disse metaller kan bære- pletterte skikt av andre metaller, f.eks.
av kobber. Grunnmetallunderlagene kan være gitt en rekke over-flatebehandlinger avhengig av det endelige utseende som øn-
skes, som i sin tur er avhengig av slike faktorer som glans, skinn, utjevning, tykkelse etc. av den elektrolytiske utfel-
ling av nikkel og jern, kobolt og jern eller nikkel, kobolt og jern som påføres underlagene.
Uttrykket "primær glanstilsats" slik det anvendes i denne fremstilling er ment å skulle innbefatte slike pletteringstilsatser som f.eks. reaksjonsproduktene av epoksyder med a-hydroksy-acetylen-ilkoholer, f.eks. dietoksylert 2-butyn-l,4-diol eller dipropoksylert 2-butyn-l,4-diol, andre acetylenforbindelser, N-heterocykliske for-aindelser, aktive svovelforbindelser, fargestoffer etc. Spesielle sksempler på slike pletteringstilsetninger er: 1,4-di-(B-hydroksyetoksy)-2-butyn (eller dietoksylert
2-butyn-l,4-diol)
1,4-di-(B-hydroksy-y-klorpropoksy)-2-butyn
1,4-di- ((3- -epoksypropoksy) -2-butyn
1,4-di-(B-hydroksy-y-butenoksy)-2-butyn
1,4-di-(2'-hydroksy-4<1->oksa-6•-heptenoksy)-2-butyn N-l,2-diklorpropenyl-pyridiniumklorid
2,4,6-trimetyl-N-propargyl-pyridiniumbromid N-allyl-kinaldiniumbromid
N-allyl-kinoliniumbromid
2-butyn-l,4-diol
propargylalkohol
2-metyl-3-butyn-2-ol
tiodiproprionitril
tiourea
fenosafranin
fuksin
Når den anvendes' alene eller i kombinasjon, kan en primær glanstilsats gi ingen synlig virkning på den elektrolytiske utfelling el.ler den kan gi finkornede utfellinger med halvglans. De beste resultater oppnås imidlertid når primære glanstilsatser anvendes sammen med enten en sekundær glanstilsats, en sekundær hjelpeglanstilsats eller begge deler for å skaffe optimal utfellingsglans, blankhetsgrad, utjevning, strømtetthetsområde for blankplettering, dekning ved lav strømtetthet etc.
Uttrykket "sekundær glanstilsats" slik det anvendes i den foreliggende fremstilling menes å skulle innbefatte aromatiske sulfonater, sulfonamider, sulfonimider, sulfinater etc. Spesielle eksempler på slike pletteringstilsetninger er:
1) sakkarin
2) trinatrium-l,3,6-naftalen-trisulfonat
3) natriumbenzen-monosulfonat
4) dibenzen-sulfonimid
5) natriumbenzen-monosulfinat
Slike pletteringstilsatser, som kan anvendes alene eller i egnede kombinasjoner, har en eller flere av de følgende funksjoner: 1. Å skaffe halvblanke utfellinger eller gi en vesentlig kornforfining i forhold til de vanligvis glansløse, matte, korn-formede, ikke-reflekterende utfellinger som fås fra tilsetningsfrie bad.
2. Å tjene som duktiliseringsmidler når de anvendes sammen
med andre tilsetninger som f.eks. primære glanstilsatser.
3. Å beherske indre spenninger i utfellingene, stort sett ved at spenningene gjøres til ønskede trykkspenninger. 4. Å innføre regulerte svovelmengder i de elektrolytiske utfellinger for i ønsket grad å påvirke den kjemiske reaktivitet, potensialforskjeller i sammensatte belegningssysterner etc. for på denne måte å redusere korrosjonen og bedre beskytte grunnmetallet mot korrosjon etc.
Uttrykket "sekundær hjelpeglanstilsats" slik det anvendes i fremstillingen, er ment å skulle innbefatte alifatiske eller aromatisk-alifatiske alken- eller acetylen-umettede sulfonater, sulfonamider eller sulfonimider etc. Spesielle eksempler på slike pletteringstilsetninger er:
1) natriumallyl-sulfonat
2) natrium-3-klor-2-buten-l-sulfonat
3) natrium-e-styren-sulfonat
4) natrium-propargylsulfonat
5) monoallyl-Bulfonamid (H2N-S02-NH-CH2-CH=CH )
6) diallyl-sulfamid
7) allyl-sulfonamid
Slike forbindelser, som kan anvendes alene (vanligvis) eller
i kombinasjon, har alle de virkninger som er angitt for de sekundære glanstilsatser, og kan dessuten ha en eller flere av de følgende funksjoner: 1. De kan tjene til å hindre eller redusere gropdannelse (sannsynligvis ved å virke som hydrogenakseptorer). 2. De kan samvirke med en eller flere sekundære glanstilsatsei og en eller flere primære glanstilsatser for å gi meget bedre glans-nivå og utjevning enn hva som ville kunne oppnås med en og en eller to og to av hvilke som helst forbindelser valgt fra følgende tre klasser:
1) primære glanstilsatser
2) sekundære glanstilsatser og
3) sekundære hjelpeglanstilsatser
3. De kan påvirke katodeoverflaten ved katalytisk forgiftning etc, slik at forbrukshastigheten av samvirkende tilsetninger (vanligvis av primær glanstilsats) kan reduseres vesentlig slik at drifte blir mere økonomisk og bedre kan beherskes.
Blant de sekundære hjelpeglanstilsatser kan man også regne ioner eller forbindelser av visse metaller og halvmetaller som f.eks, zink, kadmium, selen etc, som skjønt de for tiden vanligvis ikke anvendes, tidligere har vært benyttet for å øke glansen etc. av utfellingen.
Uttrykket "antigropdannende middel" slik det anvendes i den foreliggende fremstilling, betegner et organisk materiale (som er forskjellig fra og kommer i tillegg til den sekundære hjelpeglanstilsats) som har overflateaktive egenskaper og tjener til å hindre eller redusere gassgropdannelse. Et antigropdannende middel kan også tjene til å gjøre badene mer forenlige med forurensninger som
f.sks. olje, fett etc. ved en emulgerende, dispergerende eller opp-løsende virkning på slike forurensninger og derved fremme oppnåelsen
av gode elektrolytiske utfellinger. Antigropdannende midler er valgfrie tilsetninger som eventuelt kan anvendes i kombinasjon med en primær glanstilsats, en sekundær glanstilsats og/eller en sekundær hjelpeglanstilsats. Av de fire klasser av organiske overflateaktive midler, dvs. anioniske, kationiske, ikke-ioniske og amfotere, er det først og fremst den anioniske klasse som vanligvis anvendes for elektrolytisk utfelling av legeringer av nikkel, kobolt og jern for å tjene som antigropdannende middel. Eksempler på stoffer i den anioniske klasse som vanligvis anvendes, er:
natriumlaurylsulfat
natriumlauryletersulfat
natrium-di-alkylsulfosuksinater
natrium-2-etylheksylsulfat
Typiske nikkel/jern-holdige, kobolt/jern-holdige og nikkel/kobolt/jern-holdige badsammensetninger som kan anvendes i kombinasjon med effektive mengder på ca. 0,005-0,2 g/l primær glanstilsats, ca. 1,0-30 g/l sekundær glanstilsats, ca. 0,5-10 g/l sekundær hjelpeglanstilsats og ca. 0,05-1 g/l antigropdannende middel av den i beskrivelsen angitte art er angitt i det etterfølgende. Kombinasjoner av primære glanstilsatser og sekundære glanstilsatser kan også anvendes når den samlede konsentrasjon av stoffene fra hver klasse ligger innenfor de angitte typiske konsentrasjonsgrenser.
Typiske nikkelholdige, koboltholdige og nikkel/kobolt-holdige badsammensetninger som også inneholder jern, og som kan anvendes i kombinasjon med virksomme mengder på ca. 0,005-0,2 g/l primær glanstilsats, ca. 1,0-30 g/l sekundær glanstilsats, ca. 0,5-10 g/l sekundær hjelpeglanstilsats og ca. 0,05-1 g/l antigropdannende middel av den i beskrivelsen angitte art, er angitt i det etterfølgende. Borsyre bør foreligge i en mengde på 15-60 g/l.
Typiske vandige nikkelholdige elektrolytiske pletteringsbad
(som kan anvendes i kombinasjon med virksomme mengder samvirkende tilsetninger) innbefatter følgende bad hvor alle konsentrasjoner er
i g/l, med mindre noe annet er angitt.
De salter som benyttes til fremstilling av badene, er av den art som vanligvis benyttes ved plettering av nikkel og kobolt, dvs. sulfatene og kloridene og vanligvis kombinasjoner herav. Ferrojern kan tilsettes som ferrosulfat eller ferroklorid eller ferrosulfamat. Sulfatet foretrekkes idet det er lett tilgjengelig til en lav pris og med høy renhet (som FeS04'7H20).
Et typisk nikkelpletteringsbad av sulfamattypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler:
Et typisk kloridfr.ttt nikkelpletteringsbad av suifattypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler:
Et typisk kloridfritt nikkelpletteringsbad av sulfamattypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler:
Det vil være klart at de ovennevnte bad kan inneholde forbindelser i mengder som ligger utenfor det område som defineres av de angitte foretrukne minimums- og maksimumsverdier, men at den mest tilfredsstillende og økonomiske drift vanligvis oppnås når forbind-elsene er tilstede i badene i de angitte mengder. En spesiell fordel ved de kloridfrie bad ifølge de ovennevnte tabeller III og IV er at de elektrolytiske utfellinger som oppnås, kan være hovedsakelig frie for strekkspenninger og kan tillate meget hurtig plettering under anvendelse av hurtigvirkende anoder.
I det følgende er der angitt et vandig kobolt/nikkel/jern-holdig galvanisk pletteringsbad hvor kombinasjonen av virksomme mengder av en eller flere samvirkende tilsetninger i henhold til den foreliggende oppfinnelse vil gi gunstige virkninger.
Typiske kobolt/jern-hoIdige pletteringsbad er de følgende bad:
pH-verdien av elle de foregående belysende, vandige sammen-setninger som inneholder henholdsvis jern og nikkel, kobolt og jern og nikkel, kobolt og jern, kan under pletteringen vedlikeholdes på 2,0-7,0 og fortrinnsvis mellom 3,0 og 6,0. Under driften av badet kan pH-verdien reguleres ved hjelp av syrer som f.eks. saltsyre, svovelsyre etc.
Arbeidstemperaturene for de ovennevnte bad kan ligge på mellom 30 og 70°C med foretrukne temperaturer i området fra 45-65°C.
Omrøring av de ovennevnte bad under pletteringen kan oppnås ved pumping av oppløsningen, bevegelse av katodestenger, luftomrøring eller kombinasjoner av disse metoder.
Anoder som anvendes i de ovennevnte bad, kan bestå av de bestemte, enkle metaller som pletteres ved katoden, f.eks. jern og nikkel ved plettering med en nikkel/jern-legering, kobolt og jern ved plettering med en kobolt/jern-legering eller nikkel, kobolt og jern ved plettering med en nikkel/kobolt/jern-legering. Anodene kan bestå av de respektive separate metaller opphengt på egnet måte i badet som stenger, strimler eller små biter i titankurver. I slike til-feller innstilles forholdet mellom de forskjellige metaller i over-ensstemmelse med den spesielle legeringssammensetning som ønskes ved katoden. For plettering med binære eller ternære legeringer kan der også som anoder anvendes legeringer av de respektive metaller i et vektforhold mellom metallene svarende til det prosentvise vektforhold mellom de samme metaller i den ønskede galvanisk utfelte legering på katoden. Disse to typer av anodesystemer vil vanligvis gi en stort sett konstant ionekonsentrasjon av de respektive metaller i badet. Hvis der med anoder a<y> legeringer med fast metallforhold skulle forekomme en viss ubalanse mellom metallionene i badet, kan der fra tid til annen utføres justeringer ved tilsetning av egnede korriger-ende konsentrasjoner av de individuelle metallsalter. Alle anoder eller anodekurver er vanligvis dekket på egnet måte med stoff- eller plastposer av ønsket porøsitet for å redusere til et minimum til-førselen til badet av metallpartikler, anodeslim etc. som kan vandre til katoden enten mekanisk eller elektroforetisk og gi ruhet i den elektrolytiske utfelling på katoden.
De følgende eksempler er angitt til belysning av oppfinnelsen og ikke til definisjon av beskyttelsesområdet.
Eksempel 1
Formaldehydadduktet av sulfinatet ble fremstilt som følger: (1) 223 g rått 34%'s CH-^SC^Na ble blandet med 110 cm 3 av en 37%'s CH20-oppløsning og omrørt på en varm plate. Materialet oppløste seg ikke uten videre, og omtrent 100-200 ml destillert vann ble derfor tilsatt av hensyn til bearbeidingen. En rimelig grad av
oppiøselighet ble oppnådd ved ca. 50°C.
(2) Oppløsningen ble nøytralisert med 25% svovelsyre, og en uklar, mørk oppløsning som inneholdt spormengder av uoppløste salter, ble oppnådd. pH-verdien var til slutt 6,0. (3) De uoppløselige stoffer ble filtrert fra og undersøkt for å fast-legge om de var organiske. Materialet hverken brant- eller for-kullet, noe som anga at materialet var enten NaCl eller N^SO^. (4) Det oppnådde filtrat ble overført til en plastmugge med et volum på 3,785 liter, og 204,3 g dietoksylert 2-butyn-l,4-diol ble tilsatt. (5) Blandingen ble fortynnet til ca. 1*1 ganger sitt volum, og 23,4 g paratoluensulfonat ble tilsatt. (6) Volumet av oppløsningen ble innstilt og oppløsningen fylt på flasker. ;Den endelige sammensetning av dette materiale var som følger: ;E ksempel 2 ;Et elektrolytisk pletteringsbad for nikkel, kobolt og jern ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner: ;En polert messingplate ble oppskrapt ved en eneste horisontal passasje av smergelpapir ned 2/0-korn for å gi et ca. 1 cm bredt bånd i en avstand på ca. 2, 5 cm fra den nedre kant av platen. Etter rensing av platen, herunder bruk av et tynt cyanidkobberstrøk for å sikre fremragende fysisk og kjemisk renhet, ble platen plettert i en 267 ml<*>s Hull-celle med en cellestrøm på 2 A i 10 min og en tempera-tur på 50°C under anvendelse av magnetisk omrøring. Den resulterende utfelling var jevnt finkornet, glansfull, skinnende, godt utjevnet og duktil med små strekkspenninger og hadde fremragende dekning i lavstrømtetthetsområdet. En plate plettert i det ovennevnte bad hadde en meget godt utjevnet, blank utfelling som ved analyse viste seg å inneholde 20% kobolt, 40% jern og 40% nikkel.
Eksempel 3
Et elektrolytisk pletteringsbad av nikkel og jern ble fremstill som i eksempel 2 med følgende bestanddeler:
Eksempel 4
Et elektrolytisk pletteringsbad av kobolt og jern ble fremstilt som i eksempel 2 med følgende bestanddeler:
En plate som ble plettert i det ovennevnte bad, fikk en meget godt utjevnet, blank utfelling.
Eksempel 5
Et elektrolytisk pletteringsbad av nikkel og jern ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
En godt utjevnet, duktil utfelling med god dekning i lavstrøm-tetthetsområdet og inneholdende 31,4% jern og 68,6% nikkel ble oppnådd.
Eksempel 6
Formaldehydadduktet av paratoluensulfinat for bruk ved plettering av nikkel og jern ble fremstilt som følger: 334 g rått 34%'s paratoluensulfinat ble omsatt under omrøring på en varm plate med 152,2 g 37%'s formaldehyd ved 50°C. Ca. 200 ml vann ble tilsatt for å gi gode bearbeidingsegenskaper, og pH-verdien av den resulterende oppløsning ble innstilt på 5,5. Spor av uoppløselige salter ble filtrert fra. Filtratet ble helt i en plastmugge med et volum på 3,785 liter, og 114 g toluensulfonsyre (natriumsalt) ble tilsatt. Volumet av oppløsningen ble innstilt.
Den endelige sammensetning av dette materiale var som følger:
Claims (4)
1. Fremgangsmåte til fremstilling av en elektrolytisk utfelling av en jernlegering som inneholder nikkel og/eller kobolt, omfattende å føre strøm fra en anode til en katode gjennom en vandig sur pletteringsoppløsning som inneholder minst en jernforbindelse og minst en nikkelforbindelse eller koboltforbindelse eller en kombinasjon av nikkel- og koboltforbindelser,
for elektrolytisk utfelling av en nikkel/jern-legering, kobolt/jern-legering eller nikkel/kobolt/jern-legering,
i tilstrekkelig langt tid til at der dannes en elektrolytisk metallutfelling på katodeoverflaten, idet pletteringsoppløsningen eventuelt også inneholder askorbinsyre eller isoaskorbinsyre, karakterisert ved at der benyttes en plet-teringsoppløsning som inneholder følgende stoffer i kombinasjon: 1) 1-15 g/l askorbinsyre, isoaskorbinsyre og/eller erytorbinsyre som samvirkende tilsetning og 2) 0,01-10,0 g/l av et reaksjonsprodukt av et aromatisk sulfinat og et aldehyd eller aldehydderivat, idet reaksjonsproduktet har formelen R" S02CHOHR, hvor R" er R'C6H4 eller naftalen og R og R<1> er valgt hver for seg blandt hydrogen, alkyl, aralkyl, aryl, alkaryl og alkalimetallderivater herav, idet R<1> når det er et cykloalkyl, er bundet til CgH^-ringen.
2. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der anvendes en oppløsning som inneholder reaksjonsproduktet av et aldehyd med benzensulfinat eller toluensulfinat.
3. Vandig pletteringsoppløsning til fremstilling av en elektrolytisk utfelling av en jernlegering som inneholder nikkel og/eller kobolt, hvor oppløsningen inneholder minst en jernforbindelse og minst en nikkelforbindelse eller koboltforbindelse eller en kombinasjon av nikkel- og koboltforbindelser og skaffer ioner for elektrolytisk utfelling av en nikkel/jern-legering, kobolt/jern-legering eller nikkel/kobolt/jern-legering, idet oppløsningen eventuelt inneholder askorbinsyre eller isoaskorbinsyre, karakterisert ved at den inneholder følgende stoffer i kombinasjon: 1) 1-15 g/l askorbinsyre, isoaskorbinsyre og eller erytorbinsyre som samvirkende tilsetning og 2) 0,01-10,0 g/l av et reaksjoirsprodukt av et aromatisk sulfinat og et aldehyd eller aidehydderivat, idet reaksjonsproduktet har formelen R''302CHOHR, hvor R1 ' er R'CgH4 eller naftalen og R og R' er valgt hver for seg blant hydrogen, alkyl, aralkyl, aryl, alkaryl og alkalimetallderivater herav, idet R' når det er et cykloalkyl, er bundet til CgH^-ringen.
4. Pletteringsoppløsning som angitt i krav 3, karakterisert ved at det aromatiske sulfinat er benzensulfinat eller toluensulfinat.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/594,214 US4014759A (en) | 1975-07-09 | 1975-07-09 | Electroplating iron alloys containing nickel, cobalt or nickel and cobalt |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO762379L NO762379L (no) | 1977-01-11 |
NO148300B true NO148300B (no) | 1983-06-06 |
NO148300C NO148300C (no) | 1983-09-14 |
Family
ID=24377999
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO762379A NO148300C (no) | 1975-07-09 | 1976-07-07 | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og vandig pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaaten |
Country Status (19)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4014759A (no) |
JP (1) | JPS5932554B2 (no) |
AU (1) | AU498023B2 (no) |
BE (1) | BE844014A (no) |
BR (1) | BR7604491A (no) |
CA (1) | CA1083078A (no) |
CH (1) | CH629541A5 (no) |
CS (1) | CS189015B2 (no) |
DE (1) | DE2630980A1 (no) |
ES (1) | ES449678A1 (no) |
FR (1) | FR2317382A1 (no) |
GB (1) | GB1504078A (no) |
IT (1) | IT1125272B (no) |
MX (1) | MX4426E (no) |
NL (1) | NL7607655A (no) |
NO (1) | NO148300C (no) |
NZ (1) | NZ181422A (no) |
SE (1) | SE422222B (no) |
ZA (1) | ZA764048B (no) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4767508A (en) * | 1986-02-27 | 1988-08-30 | Nippon Mining Co., Ltd. | Strike plating solution useful in applying primer plating to electronic parts |
US4661216A (en) * | 1986-04-21 | 1987-04-28 | International Business Machines Corporation | Electrodepositing CoNiFe alloys for thin film heads |
US4756816A (en) * | 1987-05-29 | 1988-07-12 | Magnetic Peripherals, Inc. | Electrodeposition of high moment cobalt iron |
US5011581A (en) * | 1988-09-28 | 1991-04-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Process for producing a thin alloy film having high saturation magnetic flux density |
US6855240B2 (en) * | 2000-08-09 | 2005-02-15 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | CoFe alloy film and process of making same |
KR100505004B1 (ko) * | 2003-02-20 | 2005-08-01 | 주식회사 나노인바 | 저열팽창특성을 갖는 나노결정질 철-니켈 합금 제조를 위한 전해(도금, 성형)액 |
KR100505002B1 (ko) * | 2003-04-24 | 2005-08-01 | 주식회사 나노인바 | 나노 인바합금 및 이의 제조방법 |
US20060283715A1 (en) * | 2005-06-20 | 2006-12-21 | Pavco, Inc. | Zinc-nickel alloy electroplating system |
US8118990B2 (en) * | 2006-05-10 | 2012-02-21 | Headway Technologies, Inc. | Electroplated magnetic film for read-write applications |
JP2008045206A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-28 | Think Laboratory Co Ltd | ニッケル合金メッキ方法、ニッケル合金、グラビア製版ロール及びその製造方法 |
US20080197021A1 (en) * | 2007-02-16 | 2008-08-21 | Headway Technologies, Inc. | Method to make superior soft (low Hk), high moment magnetic film and its application in writer heads |
KR101665617B1 (ko) * | 2014-07-31 | 2016-10-14 | 주식회사 필머티리얼즈 | 저열팽창 철-니켈-코발트 3원계 합금의 전주도금 조성물 및 이를 이용하여 전주도금된 저열팽창 철-니켈-코발트 3원계 합금 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2654703A (en) * | 1950-09-09 | 1953-10-06 | Udylite Corp | Electrodeposition of bright nickel, cobalt, and alloys thereof |
US3354059A (en) * | 1964-08-12 | 1967-11-21 | Ibm | Electrodeposition of nickel-iron magnetic alloy films |
US3878067A (en) * | 1972-07-03 | 1975-04-15 | Oxy Metal Finishing Corp | Electrolyte and method for electrodepositing of bright nickel-iron alloy deposits |
US3804726A (en) * | 1973-04-23 | 1974-04-16 | M & T Chemicals Inc | Electroplating processes and compositions |
AR224853A1 (es) * | 1973-11-08 | 1982-01-29 | Oxy Metal Industries Corp | Un bano acuoso adecuado para la electrodeposicion de una aleacion de hierro-niquel brillante sobre un substrato susceptible a la corrosion y procedimiento de electrodeposicion a partir de dicho bano |
US3922209A (en) * | 1974-08-20 | 1975-11-25 | M & T Chemicals Inc | Electrode position of alloys of nickel, cobalt or nickel and cobalt with iron and electrolytes therefor |
ZA755497B (en) * | 1974-09-16 | 1976-08-25 | M & T Chemicals Inc | Alloy plating |
-
1975
- 1975-07-09 US US05/594,214 patent/US4014759A/en not_active Expired - Lifetime
-
1976
- 1976-07-07 ZA ZA764048A patent/ZA764048B/xx unknown
- 1976-07-07 NO NO762379A patent/NO148300C/no unknown
- 1976-07-08 SE SE7607834A patent/SE422222B/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-07-08 AU AU15721/76A patent/AU498023B2/en not_active Expired
- 1976-07-08 CA CA256,600A patent/CA1083078A/en not_active Expired
- 1976-07-08 ES ES449678A patent/ES449678A1/es not_active Expired
- 1976-07-08 FR FR7620853A patent/FR2317382A1/fr active Granted
- 1976-07-08 BR BR7604491A patent/BR7604491A/pt unknown
- 1976-07-09 GB GB28613/76A patent/GB1504078A/en not_active Expired
- 1976-07-09 JP JP51081837A patent/JPS5932554B2/ja not_active Expired
- 1976-07-09 CH CH886076A patent/CH629541A5/de not_active IP Right Cessation
- 1976-07-09 IT IT09513/76A patent/IT1125272B/it active
- 1976-07-09 DE DE19762630980 patent/DE2630980A1/de active Granted
- 1976-07-09 BE BE168818A patent/BE844014A/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-07-09 CS CS764578A patent/CS189015B2/cs unknown
- 1976-07-09 NZ NZ181422A patent/NZ181422A/xx unknown
- 1976-07-09 MX MX76100541U patent/MX4426E/es unknown
- 1976-07-09 NL NL7607655A patent/NL7607655A/xx not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7607655A (nl) | 1977-01-11 |
NO762379L (no) | 1977-01-11 |
JPS5220937A (en) | 1977-02-17 |
BE844014A (fr) | 1976-11-03 |
NZ181422A (en) | 1978-06-20 |
AU498023B2 (en) | 1979-02-01 |
SE7607834L (sv) | 1977-01-10 |
FR2317382B1 (no) | 1980-07-18 |
FR2317382A1 (fr) | 1977-02-04 |
CH629541A5 (de) | 1982-04-30 |
ZA764048B (en) | 1977-05-25 |
DE2630980C2 (no) | 1989-05-03 |
MX4426E (es) | 1982-04-29 |
US4014759A (en) | 1977-03-29 |
CA1083078A (en) | 1980-08-05 |
IT1125272B (it) | 1986-05-14 |
CS189015B2 (en) | 1979-03-30 |
AU1572176A (en) | 1978-01-12 |
NO148300C (no) | 1983-09-14 |
DE2630980A1 (de) | 1977-02-03 |
ES449678A1 (es) | 1977-12-16 |
JPS5932554B2 (ja) | 1984-08-09 |
SE422222B (sv) | 1982-02-22 |
BR7604491A (pt) | 1977-08-02 |
GB1504078A (en) | 1978-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3580820A (en) | Palladium-nickel alloy plating bath | |
NO148300B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og vandig pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaaten | |
US3804726A (en) | Electroplating processes and compositions | |
IE41858B1 (en) | Improvements in or relating to the electrodeposition of nole metal alloys | |
US3697391A (en) | Electroplating processes and compositions | |
US3878067A (en) | Electrolyte and method for electrodepositing of bright nickel-iron alloy deposits | |
US3922209A (en) | Electrode position of alloys of nickel, cobalt or nickel and cobalt with iron and electrolytes therefor | |
CA1132088A (en) | Electrodepositing iron alloy composition with aryl complexing compound present | |
NO147994B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
US3881919A (en) | Ternary alloys | |
NO137760B (no) | Fremgangsm}te til fremstilling av en galvanisk utfelling av en jernlegering som inneholder nikkel eller nikkel og kobolt, og vandig pletteringsoppl¦sning for utf¦relse av fremgangsm}ten. | |
NO781938L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten. | |
CA1134775A (en) | Acid zinc electroplating process and composition | |
US3703448A (en) | Method of making composite nickel electroplate and electrolytes therefor | |
NO784204L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av blanke elektrolytiske zinkutfellinger og vandig, surt pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
CN103806036A (zh) | 一种宽电流密度无氰型铜锡合金电镀工艺 | |
JPS5921394B2 (ja) | 鉄合金めっき水溶液 | |
NO147995B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaaten | |
NO761680L (no) | ||
US4101388A (en) | Prevention of anode bag clogging in nickel iron plating | |
US3969399A (en) | Electroplating processes and compositions | |
CA1081650A (en) | Additive for improved electroplating process | |
NO150214B (no) | Fremgangsmaate til elektrolytisk utfelling av nikkel, kobolt og/eller binaere eller ternaere legeringer av metaller valgt fra gruppen nikkel, jern og kobolt og pletteringsloesning til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
US4435254A (en) | Bright nickel electroplating | |
EP0025694B1 (en) | Bright nickel plating bath and process and composition therefor |