NO781938L - Fremgangsmaate til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten. - Google Patents
Fremgangsmaate til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten.Info
- Publication number
- NO781938L NO781938L NO781938A NO781938A NO781938L NO 781938 L NO781938 L NO 781938L NO 781938 A NO781938 A NO 781938A NO 781938 A NO781938 A NO 781938A NO 781938 L NO781938 L NO 781938L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- nickel
- iron
- complexing agent
- cobalt
- dihydroxybenzene
- Prior art date
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 title claims description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 96
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 84
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 29
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 25
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 claims description 10
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical group OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 7
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 7
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 claims description 6
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical class OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- SWVKIBSORKYHFF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydroxycyclohexa-3,5-diene-1,2-disulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)C1(O)C=CC=CC1(O)S(O)(=O)=O SWVKIBSORKYHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- PMVSDNDAUGGCCE-TYYBGVCCSA-L Ferrous fumarate Chemical compound [Fe+2].[O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O PMVSDNDAUGGCCE-TYYBGVCCSA-L 0.000 claims description 2
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 claims description 2
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical group OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzoic acid Chemical group OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 claims 3
- NXEQAZTWIDXTKX-UHFFFAOYSA-N 1,6-dihydroxycyclohexa-2,4-diene-1-sulfonic acid Chemical group OC1C=CC=CC1(O)S(O)(=O)=O NXEQAZTWIDXTKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229940114055 beta-resorcylic acid Drugs 0.000 claims 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical group OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 claims 1
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 claims 1
- -1 iron ions Chemical class 0.000 description 10
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 10
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 10
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 7
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 7
- 229910001447 ferric ion Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 6
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 6
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 4
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 3
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-isoascorbic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 2
- GCSZOVJEWXGPEU-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-diol;sodium Chemical compound [Na].[Na].OC1=CC=CC=C1O GCSZOVJEWXGPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQMUXQPCUBYTEB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-diol;sodium Chemical compound [Na].OC1=CC=CC=C1O OQMUXQPCUBYTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 2
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 description 2
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 2
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 2
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- IXAWTPMDMPUGLV-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxyethoxy)but-2-ynoxy]ethanol Chemical compound OCCOCC#CCOCCO IXAWTPMDMPUGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M D-gluconate Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical class [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical class O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010067482 No adverse event Diseases 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003064 anti-oxidating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N azane;7-fluoro-2,1,3-benzoxadiazole-4-sulfonic acid Chemical compound N.OS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C2=NON=C12 JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229960004106 citric acid Drugs 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- 238000004512 die casting Methods 0.000 description 1
- 125000005028 dihydroxyaryl group Chemical group 0.000 description 1
- SMVRDGHCVNAOIN-UHFFFAOYSA-L disodium;1-dodecoxydodecane;sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O.CCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCC SMVRDGHCVNAOIN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229940050410 gluconate Drugs 0.000 description 1
- 229950006191 gluconic acid Drugs 0.000 description 1
- 229960004275 glycolic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxymethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCS([O-])(=O)=O UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
Fremgangsmåte til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsoppløsning til utførelse av fremgangsmåten.
Den foreliggende oppfinnelse angår en fremgangsmåte til galvanisk plettering med jernholdige legeringer av nikkel og/eller kobolt samt et pletteringsbad til utførelse av fremgangsmåten. Ved fremgangsmåten blir strøm ført fra en anode til en katode gjennom en sur, vandig pletteringsoppløsning som inneholder minst én jernforbindelse og nikkel- og/eller koboltforbindelser for å skaffe nikkel-, kobolt- og jernioner for elektroplettering av nikkel/jern-, kobolt/jern- eller nikkel/kobolt/jern-legeringer. Slike legeringer er sammenlignbare med 100%'s nikkelpletteringer når det gjelder glans, utjevning og korrosjonsegenskaper og gir et tilfredsstillende underlag for kromplettering.
Det er kjent i nikkel/jern-elektropletteringsfaget at nærvær av for store mengder av treverdig jern, som lett dannes særlig i bad med luftomrøring, er tilbøyelig til å gi pletteringsbelegg med lite tiltalende, uheldige egenskaper ved at der utfelles basiske jernsalter i katodefilmen såvel som i mesteparten av oppløsningen. For å redusere aktiviteten av det treverdige jern i pletteringsoppløsningen og for å forebygge slike problemer har derfor nikkel/jern-pletteringsoppløsninger hittil inneholdt et jern-kompleksdannende middel i form av hydroksysubstituerte lavere alifatiske karboksylsyrer med 2-8 karbonatomer, f.eks. sitronsyre som beskrevet i US-PS 2.800.440 og 3.806.429, mens glukonsyre, glukoheptanat, glykolsyre o-.l. er omtalt i US-PS 3.795.591. Andre har forsøkt å redusere det treverdige jern til toverdig. Til dette formål anvendes det i US-PS 3.9 74.044 et reduserende sakkarid og i US-PS 3.354.059 askorbin- eller isoaskorbinsyre. Disse forbindelser kan imidlertid redusere utjevningen og gjennomgå nedbrytning som fører til dannelse av uoppløselige nedbrytningssalter sammen med nikkelioner. Disse produkter felles ut fra pletteringsoppløsningen og samler seg på anodeposene og på filteret, hvor de bevirker tilstopping, og dette fører til problemer med anodepolarisasjon og filterdriftstans. Da disse kompleksdannende og reduserende midler motvirker utjevningen, trengs det mer metall på underlagsmetaller som har gjennomgått dårlig eller ingen polering, hvilket resulterer i lengre plette-ringstid og økte kostnader. Mindre mengder av de kompleksdannende midler ville kunne benyttes dersom en kunne drive pletteringen under forhold som begunstiger dannelsen av færre treverdige jernioner, f.eks. en lavere pH-verdi i pletteringsbadet. Lavere pH-verdier reduserer imidlertid utjevningen ytterligere i disse bad, noe som bare gjør dilemmaet enda større.
Det er derfor en hensikt med oppfinnelsen å skaffe en fremgangsmåte og et bad til galvanisk plettering med blanke nikkel/ jern-legeringer og kobolt/jem-legeringer som har høyt jerninnhold, vanligvis i området 15-70% jern, og større utjevning ved lavere £H-verdi, og som ikke danner uoppløselige nedbrytningssalter med nikkelioner og utfeller basiske jernsalter.
Slike utfellinger er egnede underlag for galvanisk plettering med krom for dekorative eller funksjonelle formål, samtidig som korrosjonsmotstanden av underlagsmetallet, f.eks. stål med eller uten et første belegg av halvblankt nikkel, kobber eller lignende, økes.
De vandige pletteringsoppløsninger ifølge oppfinnelsen inneholder oppløselige jernforbindelser som skaffer jernioner, oppløselige nikkelforbindelser som skaffer nikkelioner og/eller oppløselige koboltforbindelser som skaffer koboltioner. Skjønt den høyeste prosentandel av det totale jern i badet foreligger som
det foretrukne toverdige jern, inneholder oppløsningen også en del treverdig jern pga. atmosfærisk og/eller anodisk oksydasjon av toverdig jern. Elektrolytten inneholder også en aromatisk forbindelse av den nedenfor beskrevne type som tjener som antioksydasjons-middel, reduksjonsmiddel eller kompleksdannende middel. Badet kan også inneholde egnede nikkel- eller nikkel/jern-tilsetninger av klasse I såsom sulfooksygenforbindelser, herunder aromatiske sulfonater, alifatiske alken- eller acetylenumettede sulfonater, sulfonamider eller sulfonimider. Nikkel-glanstilsater av klasse II,
f.eks. acetyleniske, heterocykliske nitrogene og nitrile tilsatser, fargestoffer etc. kan også brukes i samband med sulfooksygenforbindelser.
Det kompleksdannende middel som anvendes ifølge oppfinnelsen, består av en dihydroksybenzenforbindelse som eventuelt kan inneholde ytterligere grupper som fremmer vannoppløselighet, f.eks. karboksy (-COOH) eller sulfo (-S03H). Typiske kompleksdannende forbindelser ifølge oppfinnelsen har formelen:
hvor hver R er valgt for seg fra hydrogen, sulfo eller karboksy,
n er 0, 1 eller 2 og den aromatiske ring i tillegg kan være poly-cyklisk. Karboksy- eller sulfogruppen kan være i form av den frie syre eller et vannoppløselig salt herav, f.eks. med alkalimetaller etc. Det skal også forstås at der i badet også kan foreligge inerte substituenter såsom halogener, alkoksygrupper etc.
Typiske forbindelser som omfattes av den ovenfor angitte generelle struktur er:
Særlig nyttige forbindelser omfatter o-dihydroksybenzen
og o-dihydroksybenzen-disulfonsyre og salter herav.
For å felle ut jernholdige legeringer av nikkel eller kobolt ifølge oppfinnelsen, blir der fremstilt et pletteringsbad inneholdende nikkelsalter, f.eks. nikkelsulfat og/eller nikkel-klorid, vanligvis i konsentrasjoner på henholdsvis 50-300 g/l og 100-275 g/l. Jernet kan tilføres badet fra den kjemiske eller elektrokjemiske oksydasjon av jernanodene, eller det kan tilføres i form av ferrosulfat eller ferroklorid, og ferrosaltene anvendes normalt i en konsentrasjon på 5-100 g/l. Skjønt den største prosentandel av det totale jern i badet foreligger i den foretrukne toverdige tilstand, foreligger der også treverdig jern som følge av atmosfærisk eller anodisk oksydasjon av toverdig jern. Det treverdige jern kan foreligge i badet i mengder på fra noen få ppm til ca. 5 g/l, men fortrinnsvis mindre enn 1 g/l. Oppfinnelsen kan også omfatte et nikkelbad hvor treverdig jern opptrer som en forurensning.
Antioksydasjons- og kompleksdannende forbindelser som er typiske for dem som er beskrevet i oppfinnelsen, er o-dihydroksybenzen og o-dihydroksybenzen-disulfonsyre som blir brukt i mengder på 1-50 g/l. Det skal forstås at vannoppløselige salter av disse forbindelser, f.eks. ammonium- og alkalimetallsalter, også kan brukes.
Antioksydasjonsmiddelet og det kompleksdannende middel har som funksjon å hindre oksydasjon av toverdige jernioner til ferriioner og/eller å holde ferriionene samordnet i oppløsning. De ferriioner som-har dannet komplekser, kan så reduseres kjemisk ved oksydasjon av dihydroksy-molekyldelen til kinon eller reduseres elektrokjemisk på katodeoverflaten. Komplekset forebygger dannelsen av basiske jernsalter og tillater således transport av oppløselig treverdig jern til katoden, hvor det kan reduseres. Antioksydasjonsmiddelet og det kompleksdannende middel ifølge oppfinnelsen kan brukes alene eller i kombinasjon med andre kompleksdannende midler, f.eks. de hydroksyalifatiske karboksylsyrer såsom glukonsyre, sitronsyre, glykolsyre, askorbinsyre, isoaskorbinsyre etc. Det er også funnet at bisulfitter og formaldehydaddukter herav samt organiske sulfinater er fordelaktige i kombinasjon med dihydroksyarylene ifølge oppfinnelsen når det gjelder å oppnå større toleranse overfor høye konsentrasjoner av antioksydasjonsmiddelet og det kompleksdannende middel. Sulfitter, bisulfitter og sulfinater anvendes vanligvis i en konsentrasjon på 0,1-5 g/l. De nye og uventede sider ved oppfinnelsen er: 1. Antioksydasjonsmiddelet og det kompleksdannende middel motvirker ikke utjevning. 2. Antioksydasjonsmiddelet og det kompleksdannende middel tillater badet å arbeide ved en pH-verdi på under 3,0 (lave pH-verdier hindrer dannelse av ferriioner) uten den reduksjon i utjevning som iakttas ved andre systemer. 3. Komplekset nedbrytes ikke av elektrolyseprosessen til uoppløselige produkter som utfelles og tilstopper anodeposer og filtere og gir ru utfellinger.
Det kompleksdannende middel og antioksydasjonsmidlene ifølge oppfinnelsen fremmer således galvanisk plettering med en legering som har høyt jerninnhold og øket glans og utjevning. Utfellingene eller pletteringsbeleggene har lave spenninger, utmerket duktilitet og overordentlig god mottagelighet for krom.
Konsentrasjonen av det kompleksdannende middel i badet kan ligge i området 1-50 g/l med en foretrukket konsentrasjon på 2-15 g/l. Nikkel eller nikkel/jern-glanstilsatser kan i tillegg anvendes for ytterligere å fremme glans, duktilitet og utjevning av utfellingene.
Egnede nikkeltilsatser som er funnet å være effektive,
er sulfooksygenforbindelser, herunder aromatiske sulfonater, sulfonamider, sulfonimider, sulfinater samt alifatiske eller aromatisk-alifatiske alken- eller acetylenumettede sulfonater, sulfonamider eller sulfonimider. Slike forbindelser kan brukes alene eller i kombinasjon og kan anvendes i konsentrasjoner på 0,5-10 g/l. Spesielle eksempler på slike tilsatser er:
1. o-benzoesulfimid-natriumsalt
2. natriumbénzenmonosulfonat
3. natriumallylsulfonat
4. natrium-^? -styrensulfonat
For blank, godt utjevnet plettering med legeringer kan der også anvendes acetyleniske nikkel-glanstilsatser i samband med en sulfooksygenforbindelse. Egnede forbindelser er 1,4-di-(-hydroksyetoksy)-2-butyn, natrium-2-butoksy-l,4-dietansulfonat, propargylalkohol, etoksylert propargylalkohol eller de forbindelser som er beskrevet i US-PS 3.922.209.
Der kan også anvendes forskjellige buffere i badet, f.eks. borsyre, natriumacetat, sitronsyre, sorbitol etc. Konsentrasjonen kan ligge i området fra 20 g/l til metningspunktet og er fortrinnsvis ca. 45 g/l.
Fuktemidler kan også tilsettes elektropletteringsbadene ifølge oppfinnelsen for å redusere overflatespenningen av opp-løsningen og redusere gropdannelse. Disse organiske materialer med overflateaktive egenskaper bevirker også at badene blir mer forenlige med forurensninger såsom olje, fett etc. pga. sin emulgerende, dispergerende og oppløsende virkning på slike forurensninger, noe som fremmer oppnåelsen av bedre galvaniske utfellinger. Eksempler på organiske overflateaktive midler som er i vanlig bruk, er: natriumlaurylsulfat, natriumlauryletersulfat og natriumdialkylsulfosuccinat.
pK-verdien av alle de ovennevnte illustrerende vandige jern/nikkel-holdige, kobolt/jern-holdige og nikkel/kobolt/jernholdige oppløsninger kan- holdes på 2,0-5,0 og fortrinnsvis på 2,5-3,0 under pletteringsprosessen. Ved drift av badet vil pH-verdien normalt være tilbøyelig til å stige, og den kan da reguleres med syrer, f.eks. saltsyre eller svovelsyre etc.
Omrøring av de ovennevnte bad under pletteringsprosessen kan være i form av pumping av oppløsningen, bevegelse av katode-staven, luftomrøring eller kombinasjoner derav.
Anoder som brukes i de ovennevnte bad, kan bestå av de spesielle enkelte metaller som felles ut på katoden, f.eks. jern og nikkel for plettering med nikkel/jern-legeringer, kobolt og jern for plettering med kobolt/jern-legeringer eller nikkel, kobolt og jern for plettering med nikkel/kobolt/jern-legeringer. Anodene kan bestå av de enkelte aktuelle metaller passende opp-hengt i badet i form av stenger, strimler eller som små biter i titankurver. I slike tilfelle reguleres forholdet mellom anode-overflaten av de enkelte metaller slik at det tilsvarer den spesielle katodelegeringssammensetning som ønskes. For plettering med binære eller ternære legeringer kan der som anoder også anvendes legeringer av de aktuelle metaller hvor vektforholdet mellom de enkelte metaller'tilsvarer vektforholdet mellom de samme metaller i de ønskede utfellinger av katodelegeringer. Disse to typer anodesystemer vil i alminnelighet resultere i en nokså konstant konsentrasjon av de respektive metallers ioner i badet. Dersom det skulle oppstå en viss ubalanse av metallioner i badet når legeringsanoder med bestemt metallforhold brukes, kan en fra tid til annen foreta reguleringer ved tilsetning av de riktige mengder av de enkelte metallsalter. Alle anoder eller anodekurver er passende dekket med klede eller plastposer av ønsket porøsitet for å redusere til et minimum tilførselen til badet av metall-partikler, anodeslim etc. som kan vandre til katoden enten mekanisk eller elektroforetisk og derved gi ruhet i katodeutfellingene.
De underlag som de galvaniske nikkel/jern-, kobolt/jern-eller nikkel/kobolt/jern-holdige utfellinger ifølge oppfinnelsen kan påføres på, kan være av metall eller metall-legeringer av den art som vanligvis forsynes med galvaniske pletteringsbelegg og benyttes i faget, f.eks. nikkel, kobolt, nikkel/kobolt, kobber, tinn, messing etc. Andre typiske underlagsmaterialer som gjen-stander som skal pletteres, fremstilles fra, omfatter jernholdige metaller, f.eks. stål, kobber, kobberlegeringer som messing, bronse etc. og zink, spesielt i form av kokillestøpestykker på zinkbasis, og alle disse metaller kan bære pletterte skikt av andre metaller, f.eks. av kobber etc. Grunnmetallunderlagene kan være gitt en rekke overflatebehandlinger avhengig av det endelige utseende som ønskes, og som i sin tur er avhengig av slike faktorer som glans, skinn, utjevning, tykkelse etc. av den galvaniske utfelling av nikkel/jern, kobolt/jern eller nikkel/kobolt/jern som påføres underlagene.
Driftstemperaturen av badet kan ligge i området 30-70°C, fortrinnsvis 50-60°C.
Den gjennomsnittlige strømtetthet på katoden kan ligge
i området 50-2000A/m 2 , fortrinnsvis 400A/m 2.
De følgende eksempler er angitt for å fremme forståelsen av oppfinnelsens utførelse og tjener således ikke til definisjon av beskyttelsesområdet.
Eksempel I
Et vandig galvanisk nikkel/jern-pletteringsbad ble fremstilt med følgende sammensetning:
Der ble brukt prøveplater av både messing og stål, og disse ble oppskrapt ved en eneste passasje av smergelpapir med 4/0 korn. Platene ble plettert i en 267 ml's Hull-celle med en cellestrøm på 2A i 10 min. De resulterende utfellinger fra denne oppløsning var blanke, men hadde dårlig duktilitet og var mørke i området med lav strømtetthet. Utjevningen, som var noenlunde bra ved en pH-verdi på 3,5, opphørte nesten helt når forsøket ble gjentatt ved en pH-verdi på 2,8. Jerninnholdet av utfellingen ble ved analyse funnet å være 44%.
Eksempel TI
Lignende forsøk som de som er beskrevet i eksempel I,
ble gjentatt, men med 2 g/l o-dihydroksybenzen i stedet for natriumglukonat. De resulterende utfellinger var fullstendig blanke, hadde utmerket duktilitet og oppviste usedvanlig god utjevning selv ved en pH-verdi på 2,5. Utfellingene var blanke og klare i området med lav strømtetthet og oppviste meget god dekning av platen. Ved analyse viste utfellingen seg å innholde 50% jern.
Eksempel III
Der ble fremstilt et 4 l's nikkel/jern-bad med følgende sammensetning:
Langvarig elektrolyse av denne oppløsning over flere hundre Ah/l bevirket dannelse av uoppløselige nedbrytningsprodukter som ble felt ut som et nikkelsalt, hvorav en stor del samlet seg på veggene av pletteringskaret og på anodeposene. Dette førte til problemer i form av anodepolarisasjon, noe som bare aksele-rerte nedbrytningen og førte til uheldige virkninger på pletteringen pga. frie ferriioner. Tilsetning av mer glukonat for å danne komplekser av ferriionene reduserte utjevningen og bidrog til dannelsen av ytterligere nedbrytningsprodukter i oppløsningen og på anodeposene. Disse nedbrytningsprodukter kan under pletteringen legge seg på horisontale partier (shelf areas) av katoden og derved skape ruhet.
Eksempel IV
Lignende forsøk som de som er beskrevet i eksempel III, ble gjentatt ved en pH-verdi på 2,8 og bruk av 5 g/l o-dihydroksybenzen-natriumdisulfonat og 1 g/l natriumformaldehydbisulfitt i stedet for natriumglukonat. Ved langvarig elektrolyse over flere hundre Ah/l var der ingen uheldige virkninger fra ferriioner på pletterings-belegget, der var ingen utfelling av basiske jernsalter i badet, der var ingen dannelse av uoppløselige nedbrytningsprodukter, og der var intet tap av utjevning som følge av det kompleksdannende middel eller den lave pH-verdi som badet ar-beidet ved. Forsøket viser således at o-dihydroksybenzen-natrium-disulfonat effektivt motvirker uønskede bivirkninger.
Eksempel V
En nikkel/jern-pletteringsoppløsning ble fremstilt og analysert med følgende resultat:
Etter at oppløsningen var blitt elektrolysert i en Hull-celle i 30 min. ved en cellestrøm på 2A, ble den uklar pga. dannelse av basiske ferrisalter, selv ved denne lave pH-verdi.
Eksempel VI
Et forsøk svarende til det i eksempel V ble utført, men med den forskjell at der i tillegg ble anvendt 3 g/l o-dihydroksybenzen-dinatriumsulfonat. Etter at oppløsningen var blitt elektrolysert i en Hull-celle i 60 min. ved en cellestrøm på 2A, var oppløsningen fortsatt klar og fullstendig fri for basisk ferrisaltutfelling. Dette viser at o-dihydroksybenzen-dinatriumsulfonat er virkningsfullt når det gjelder å forhindre at basiske jernsalter felles ut.
Claims (18)
1. Fremgangsmåte til fremstilling av en galvanisk utfelling som inneholder jern og minst-ett metall valgt fra gruppen nikkel og kobolt, omfattende å føre strøm fra en anode til en katode gjennom en vandig pletteringsoppløsning som inneholder en jernforbindelse og minst en komponent valgt fra koboltforbindelser og nikkelforbindelser for å skaffe kobolt- eller nikkelioner for galvanisk utfelling av legeringer av jern med kobolt og/eller nikkel, karakterisert ved at der anvendes en oppløsning som inneholder minst en kompleksdannende forbindelse bestående av et substituert eller usubstituert'dihydroksybenzen.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er et dihydroksybenzen med formelen:
hvor hver R er valgt for seg fra hydrogen, sulfo eller karboksy, n er 0, 1 eller 2 og den aromatiske ring i tillegg kan være poly-cyklisk, samtidig som karboksy- eller sulfogruppen kan være i form av den frie syre eller et vannoppløselig salt herav og der i badet også kan foreligge andre inerte substituenter såsom halogener, alkoksygrupper etc.
3. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er o-dihydroksybenzen.
4. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er m-dihydroksybenzen.
5. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er p-dihydroksybenzen.
6. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er O-dihydroksybenzen-disulfonsyre.
7. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er o-dihydroksybenzen-sulfonsyre.
8. Fremgangsmåte ifølge krav 2, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er 2,4-dihydroksybenzoesyre.
9. Fremgangsmåte til fremstilling av en galvanisk utfelling av en jernlegering som inneholder nikkel og/eller kobolt, omfattende å føre strøm fra en anode til en katode gjennom en vandig sur pletteringsoppløsning som inneholder minst en jernforbindelse, minst en nikkelforbindelse og minst en koboltforbindelse eller en kombinasjon av slike forbindelser for å skaffe ioner for galvanisk utfelling av legeringer av jern med kobolt og/eller nikkel, karakterisert ved at der i oppløsningen foreligger minst en kompleksdannende forbindelse bestående av et substituert eller usubstituert dihydroksybenzen i kombinasjon med minst en komponent valgt fra gruppen bestående av sulfooksygenforbindelser, acetyleniske glanstilsatser, sulfitter, bisulfitter, sulfinater og hydroksyalifatiske karboksylsyrer.
10. Pletteringsoppløsning til fremstilling av en galvanisk utfelling ved en fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er dihydroksybenzen.
11. Pletteringsoppløsning ifølge krav 10, karakterisert ved at det kompleksdannende middel har formelen:
hvor hver R er valgt for seg fra hydrogen, sulfo eller karboksy, n er 0, 1 eller 2 og den aromatiske ring i tillegg kan være poly-cyklisk, samtidig som karboksy- eller sulfogruppen er i form av den fire syre eller et vannoppløselig salt herav og der i badet også kan foreligge andre inserte substituenter såsom halogener, alkoksygrupper etc.
12. Pletteringsoppløsning ifølge krav 11, karakterisert vdd at det kompleksdannende middel er o-dihydroksybenzen.
13. Pletteringsoppløsning ifølge krav 11, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er m-dihydroksybenzen.
14. Pletteringsoppløsning ifølge krav 11, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er p-dihydroksybenzen.
15. Pletteringsoppløsning ifølge krav 11, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er o-dihydroksybenzen-disulfonsyre.
16. Pletteringsoppløsning ifølge krav 11, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er o-dihydroksybenzen-sulfonsyre.
17. Pletteringsoppløsning ifølge krav 11, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er 2,4-dihydroksybenzoesyre.
18. Vandig pletteringsoppløsning inneholdende ferrosulfat eller ferroklorid og nikkelforbindelser eller nikkel- og koboltforbindelser for å skaffe nikkelioner eller nikkel- og koboltioner for galvanisk utfelling av nikkel/jern, kobolt/jern eller nikkel/ kobolt/jern, karakterisert ved at der i oppløsningen foreligger minst en kompleksdannende forbindelse bestående av et substituert eller usubstituert dihydroksybenzen i kombinasjon med minst en komponent valgt fra gruppen bestående av sulfooksygenforbindelser, acetyleniske glanstilsatser, sulfitter, bisulfitter, sulfinater og hydroksyalifatiske karboksylsyrer.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/805,410 US4104137A (en) | 1977-06-10 | 1977-06-10 | Alloy plating |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO781938L true NO781938L (no) | 1978-12-12 |
Family
ID=25191502
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO781938A NO781938L (no) | 1977-06-10 | 1978-06-02 | Fremgangsmaate til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten. |
Country Status (22)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4104137A (no) |
JP (1) | JPS544831A (no) |
AR (1) | AR218920A1 (no) |
AT (1) | ATA413278A (no) |
AU (1) | AU517043B2 (no) |
BE (1) | BE868015A (no) |
BR (1) | BR7803684A (no) |
CA (1) | CA1114326A (no) |
CH (1) | CH640888A5 (no) |
DE (1) | DE2825469A1 (no) |
DK (1) | DK223178A (no) |
ES (1) | ES470683A1 (no) |
FR (1) | FR2393858A1 (no) |
GB (1) | GB1569250A (no) |
IT (1) | IT1161398B (no) |
NL (1) | NL7806289A (no) |
NO (1) | NO781938L (no) |
NZ (1) | NZ187411A (no) |
PL (1) | PL110465B1 (no) |
PT (1) | PT68139A (no) |
SE (1) | SE7806618L (no) |
ZA (1) | ZA782750B (no) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3422327A1 (de) * | 1984-06-15 | 1985-12-19 | Fürstlich Hohenzollernsche Hüttenverwaltung Laucherthal, 7480 Sigmaringen | Verfahren zur erzeugung einer gleitschicht aus weissmetall auf bleibronzeoberflaechen von stahl/bleibronze-verbundlagern |
US6143160A (en) * | 1998-09-18 | 2000-11-07 | Pavco, Inc. | Method for improving the macro throwing power for chloride zinc electroplating baths |
US6974767B1 (en) * | 2002-02-21 | 2005-12-13 | Advanced Micro Devices, Inc. | Chemical solution for electroplating a copper-zinc alloy thin film |
DE20203794U1 (de) * | 2002-03-08 | 2003-07-31 | Hanning Elektro-Werke GmbH & Co. KG, Oerlinghausen, 33813 Oerlinghausen | Bremse, insbesondere für Windkraftanlagen |
JP2007123473A (ja) * | 2005-10-27 | 2007-05-17 | Alps Electric Co Ltd | 軟磁性膜及びその製造方法、ならびに前記軟磁性膜を用いた薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
EP2639335B1 (en) * | 2012-03-14 | 2015-09-16 | Atotech Deutschland GmbH | Alkaline plating bath for electroless deposition of cobalt alloys |
US11377749B1 (en) * | 2017-10-17 | 2022-07-05 | Seagate Technology Llc | Electrodeposition of high damping magnetic alloys |
US11152020B1 (en) | 2018-05-14 | 2021-10-19 | Seagate Technology Llc | Electrodeposition of thermally stable alloys |
DE102019107416A1 (de) * | 2019-03-22 | 2020-09-24 | RIAG Oberflächentechnik AG | Zusammensetzung zur elektrolytischen Vernickelung und Verfahren zur elektrolytischen Vernickelung mit einer solchen Zusammensetzung |
CN114150343B (zh) * | 2022-01-19 | 2024-02-06 | 西南石油大学 | 一种纳米茸状NiMoCu催化剂及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3354059A (en) * | 1964-08-12 | 1967-11-21 | Ibm | Electrodeposition of nickel-iron magnetic alloy films |
US4036709A (en) * | 1975-09-22 | 1977-07-19 | M & T Chemicals Inc. | Electroplating nickel, cobalt, nickel-cobalt alloys and binary or ternary alloys of nickel, cobalt and iron |
-
1977
- 1977-06-10 US US05/805,410 patent/US4104137A/en not_active Expired - Lifetime
-
1978
- 1978-05-15 ZA ZA00782750A patent/ZA782750B/xx unknown
- 1978-05-19 DK DK223178A patent/DK223178A/da not_active Application Discontinuation
- 1978-05-25 GB GB22611/78A patent/GB1569250A/en not_active Expired
- 1978-05-29 JP JP6420878A patent/JPS544831A/ja active Pending
- 1978-05-30 NZ NZ187411A patent/NZ187411A/xx unknown
- 1978-06-01 AU AU36757/78A patent/AU517043B2/en not_active Expired
- 1978-06-02 NO NO781938A patent/NO781938L/no unknown
- 1978-06-05 PT PT68139A patent/PT68139A/pt unknown
- 1978-06-06 CA CA304,863A patent/CA1114326A/en not_active Expired
- 1978-06-06 SE SE7806618A patent/SE7806618L/xx unknown
- 1978-06-07 AT AT413278A patent/ATA413278A/de not_active IP Right Cessation
- 1978-06-08 FR FR787817162A patent/FR2393858A1/fr not_active Withdrawn
- 1978-06-08 BR BR787803684A patent/BR7803684A/pt unknown
- 1978-06-08 IT IT09496/78A patent/IT1161398B/it active
- 1978-06-09 CH CH634978A patent/CH640888A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-06-09 DE DE19782825469 patent/DE2825469A1/de not_active Withdrawn
- 1978-06-09 AR AR272515A patent/AR218920A1/es active
- 1978-06-09 PL PL1978207513A patent/PL110465B1/pl unknown
- 1978-06-09 BE BE188490A patent/BE868015A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-06-09 NL NL7806289A patent/NL7806289A/xx not_active Application Discontinuation
- 1978-06-09 ES ES470683A patent/ES470683A1/es not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PT68139A (en) | 1978-07-01 |
FR2393858A1 (fr) | 1979-01-05 |
ES470683A1 (es) | 1979-02-01 |
ZA782750B (en) | 1979-05-30 |
IT1161398B (it) | 1987-03-18 |
AR218920A1 (es) | 1980-07-15 |
DK223178A (da) | 1978-12-11 |
JPS544831A (en) | 1979-01-13 |
DE2825469A1 (de) | 1978-12-21 |
IT7809496A0 (it) | 1978-06-08 |
ATA413278A (de) | 1979-10-15 |
SE7806618L (sv) | 1978-12-11 |
NZ187411A (en) | 1979-08-31 |
BR7803684A (pt) | 1979-02-20 |
PL110465B1 (en) | 1980-07-31 |
PL207513A1 (pl) | 1979-03-12 |
BE868015A (fr) | 1978-10-02 |
US4104137A (en) | 1978-08-01 |
CA1114326A (en) | 1981-12-15 |
NL7806289A (nl) | 1978-12-12 |
AU517043B2 (en) | 1981-07-02 |
AU3675778A (en) | 1979-12-06 |
GB1569250A (en) | 1980-06-11 |
CH640888A5 (de) | 1984-01-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2525942A (en) | Electrodepositing bath and process | |
US3804726A (en) | Electroplating processes and compositions | |
US4036709A (en) | Electroplating nickel, cobalt, nickel-cobalt alloys and binary or ternary alloys of nickel, cobalt and iron | |
NO781938L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten. | |
US3697391A (en) | Electroplating processes and compositions | |
NO782166L (no) | Fremgangsmaate til galvanisk plettering og pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
CA1083078A (en) | Alloy plating | |
CA1058553A (en) | Electrodeposition of alloys of nickel, cobalt, or nickel and cobalt with iron | |
US4046647A (en) | Additive for improved electroplating process | |
CA1134775A (en) | Acid zinc electroplating process and composition | |
US4014761A (en) | Bright acid zinc plating | |
JP2002241986A (ja) | Ni−W−P合金めっき液及びその連続めっき方法 | |
US4673471A (en) | Method of electrodepositing a chromium alloy deposit | |
NO137760B (no) | Fremgangsm}te til fremstilling av en galvanisk utfelling av en jernlegering som inneholder nikkel eller nikkel og kobolt, og vandig pletteringsoppl¦sning for utf¦relse av fremgangsm}ten. | |
NO784204L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av blanke elektrolytiske zinkutfellinger og vandig, surt pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
US4101388A (en) | Prevention of anode bag clogging in nickel iron plating | |
US4069112A (en) | Electroplating of nickel, cobalt, mutual alloys thereof or ternary alloys thereof with iron | |
NO147995B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaaten | |
NO150214B (no) | Fremgangsmaate til elektrolytisk utfelling av nikkel, kobolt og/eller binaere eller ternaere legeringer av metaller valgt fra gruppen nikkel, jern og kobolt og pletteringsloesning til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
NO761680L (no) | ||
US3969399A (en) | Electroplating processes and compositions | |
US4183789A (en) | Anode bag benefaction | |
KR820000032B1 (ko) | 산성 도금 수용액 | |
US4764262A (en) | High quality, bright nickel plating | |
Campbell et al. | Some uses of pyrophosphates in metal finishing part II. Cobalt-tungsten alloys to zinc, including pretreatment for magnesium |