NO782166L - Fremgangsmaate til galvanisk plettering og pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten - Google Patents
Fremgangsmaate til galvanisk plettering og pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaatenInfo
- Publication number
- NO782166L NO782166L NO782166A NO782166A NO782166L NO 782166 L NO782166 L NO 782166L NO 782166 A NO782166 A NO 782166A NO 782166 A NO782166 A NO 782166A NO 782166 L NO782166 L NO 782166L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- iron
- nickel
- cobalt
- complexing agent
- alloys
- Prior art date
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 116
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 99
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 58
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 43
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 31
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims description 24
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- -1 iron ions Chemical class 0.000 claims description 14
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 12
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 5
- SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 3-sulfophthalic acid Chemical group OC(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1C(O)=O SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 4
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical group OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 3
- 125000004964 sulfoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- ZNPFTBFMCCMMJJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,5-disulfobenzoic acid Chemical group OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC(S(O)(=O)=O)=C1O ZNPFTBFMCCMMJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- RHLPAVIBWYPLRV-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-4-sulfobenzoic acid Chemical group OC(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1O RHLPAVIBWYPLRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- VKKAMZOUYMSOLZ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-5-(3-sulfopropyl)benzoic acid Chemical group OC(=O)C1=CC(CCCS(O)(=O)=O)=CC=C1O VKKAMZOUYMSOLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 229910001447 ferric ion Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 4
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 4
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 4
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-isoascorbic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 description 3
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 description 3
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 3
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 description 3
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M D-gluconate Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 2
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical class OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 229940050410 gluconate Drugs 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 2
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 2
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- BKRLZOLTNMRSLY-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3-sulfobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1O BKRLZOLTNMRSLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical class [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical class O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010067482 No adverse event Diseases 0.000 description 1
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical class OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 1
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- CSVUNXDXKHELCR-UHFFFAOYSA-L disodium;3-carboxy-4-oxidobenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC=C1[O-] CSVUNXDXKHELCR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 description 1
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000004698 iron complex Chemical class 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
"Fremgangsmåte til galvanisk plettering og pletteringsbad
til utførelse av fremgangsmåten"
Den foreliggende oppfinnelse angår en fremgangsmåte til galvanisk plettering med jernholdige legeringer av nikkel og/eller kobolt samt et pletteringsbad til utførelse av fremgangsmåten.
Ved fremgangsmåten blir strøm ført fra en anode til en katode gjennom en sur, vandig pletteringsoppløsning som inneholder minst én jemforbindelse og nikkel eller kobolt eller nikkel-
eller koboltforbindelser for å skaffe nikkel-, kobolt- og jernioner for elektroplettering av nikkel/jern-, kobolt/jern- eller nikkel/kobolt/jern-legeringer. Slike legeringer er sammenlignbare med 100%'s nikkelpletteringer når det gjelder glans, utjevning og korrosjonsegenskaper, og er et tilfredsstillende underlag for kromplettering.
Det er kjent i nikkel/jern-elektropletteringsfaget at nærvær
av for store mengder av treverdig jern, som lett dannes særlig i bad med luftomrøring, er tilbøyelig til å gi pletterings-belegg med lite tiltalende, uheldige egenskaper ved at der utfelles basiske jernsalter i katodefilmen såvel som i mesteparten av opp-løsningen. For å redusere aktiviteten av det treverdige jern i pletteringsoppløsningen og for å forebygge slike problemer har derfor nikkel/jern-pletteringsoppløsninger hittil inneholdt et jern-kompleksdannende middel i form av hydroksysybstituerte lavere alifatiske karboksylsyrer med 2-8 karbonatomer, f.eks. sitronsyre som beskrevet i US-PS 2.800.440 og 3.806.429, mens flukonsyre, glukoheptanat, glykolsyre o.l. er omtalt i US-PS 3.795.591. Andre har forsøkt å redusere det treverdige jern til toverdig. Til dette formål anvendes det i US-PS 3.974.044 et reduserende sakkarid og i US-PS 3.354.059 askorbin- eller isoaskorbinsyre. Disse forbindelser kan imidlertid redusere utjevningen og gjennomgå nedbrytning som fører til dannelse av uoppløselige nedbrytningssalter sammen med nikkelioner. Disse produkter felles
ut fra pletteringsoppløsningen og samler seg på anodeposene og på filteret, hvor de bevirker tilstoppning, og dette fører til problemer med anodepolarisasjon og filterdriftstans. Da disse kompleksdannende og reduserende midler motvirker utjevningen, trengs det mer metall på underlagsmetaller som har gjennomgått dårlig eller ingen polering, hvilket resulterer i lengre plette-ringstid og økte kostnader. Mindre mengder av de kompleksdannende midler ville kunne benyttes dersom en kunne drive pletteringen under forhold som begunstiger dannelsen av færre treverdige jernioner, f.eks. en lavere pH-verdi i pletteringsbadet. Lavere pH-verdier reduserer imidlertid utjevningen ytterligere i disse bad, noe som bare gjør dilemmaet enda større.
Det er derfor en hensikt med oppfinnelsen å skaffe en fremgangsmåte og et bad til galvanisk plettering med blanke nikkel/ jern-legeringer og kobolt/jern-legeringer som har høyt jerninnhold, vanligvis i området 15-70% jern og større utjevning ved lavere pH-verdi, og som ikke danner uoppløselige nedbrytningssalter med nikkelioner og utfeller basiske jernsalter.
Slike utfellinger er egnede underlag for galvanisk plettering med krom for dekorative eller funksjonelle formål, samtidig som korrosjonsmotstanden av underlagsmetallet, f.eks. stål med eller uten et første belegg av halvblankt nikkel, kobber eller lignende, økes.
De vandige pletteringsoppløsninger ifølge oppfinnelsen inneholder oppløselige jernforbindelser som skaffer jernioner, opp-løselige nikkelforbindelser som skaffer nikkelioner og/eller opp-løselige koboltforbindelser som skaffer koboltioner. Skjønt den høyeste prosentandel av det totale jern i badet foreligger som det foretrukne toverdige jern, inneholder oppløsningen også en del treverdig jern pga. atmosfærisk og/eller anodisk oksydasjon av toverdig jern. Elektrolytten inneholder også et aromatisk kompleksdannende middel av den nedenfor beskrevne type for å skaffe et vannoppløselig treverdig jernkompleks som eventuelt kan brukes i kombinasjon med forbindelser som virker reduserende på treverdig jern, f.eks. sulfitter eller bisulfitter, askorbin- eller isoaskorbinsyre, reduserende sakkarider, metallisk jern etc. Badet kan også inneholde egnede nikkel- eller nikkel/jern-tilsetninger såsom sulfooksygenforbindelser, herunder aromatiske sulfonater, sulfonamider, sulfonimider og sulfinater, samt alifatiske eller aromatiskalifatiske alken- eller acetylenumettede sulfonater, sulfonamider eller sulfonimider. Acetyleniske, heterosykliske nitrogene, nitrinile og fargestoffglans-tilsatser etc. kan også brukes sammen med sulfo/oksygen-forbindelser.
Det kompleksdannende middel som anvendes ifølge oppfinnelsen, består av en polysubstituert arylforbindelse inneholdende minst én karboksylsyregruppe definert som -COOH, en ytterligere substituent valgt for seg fra hydroksy eller karboksy og en eller flere substituenter valgt for seg fra gruppene sulfo, definert som -S03H, og sulfoalkyl. Typiske kompleksdannende forbindelser ifølge oppfinnelsen har formelen:
hvor R er valgt for seg fra hydroksy eller karboksy, R1 er en alkylgruppe med 1-8 karbonatomer og n- og m er uavhengige av hverandre og lik 0, 1 eller 2, idet summen n + m er større enn null, og hvor den aromatiske ring i tillegg kan være polysyklisk. Karboksy- eller sulfonatgruppen kan være i form av den frie syre eller et vannoppløselig salt herav, f.eks. av jordalkalimetaller etc. Det skal også forstås at der i badet også kan foreligge inerte substituenter såsom halogener, alkoksygrupper etc.
Typiske forbindelser som omfattes av den ovenfor angitte generelle struktur er:
Særlig nyttige forbindelser omfatter 3-sulfosalicylsyre/5-sulfosalicylsyre og sulfoftalsyre.
For å felle ut jernholdige legeringer av nikkel eller kobolt ifølge oppfinnelsen, blir der fremstilt et pletteringsbad inneholdende nikkelsalter, f.eks. nikkelsulfat og/ellér nikkelklorid, vanligvis i konsentrasjoner på henholdsvis 50-300 g/l og 100-275 g/l. Jernet kan tilføres badet fra den kjemiske eller elektro-kjemiske oksydasjon av jernanodene, eller det kan tilføres i form av ferrosulfat eller ferroklorid, og ferrosaltene anvendes normalt i en konsentrasjon på 5-100 g/l. Skjønt den største prosentandel av det totale jern i badet foreligger i den foretrukne toverdig tilstand, foreligger der også treverdig jern som følge av atmosfærisk eller anodisk oksydasjon av toverdig jern. Det treverdige jern kan foreligge i badet i mengder på fra noen få ppm til ca. 5 g/l, men fortrinnsvis mindre enn 1 g/l. Oppfinnelsen kan også omfatte et nikkelbad hvor treverdig jern opptrer som en forurensning.
Kompleksdannende forbindelser som er typiske for dern som er beskrevet i oppfinnelsen, er sulfosalicylsyre og sulfoftalsyre, som blir brukt i mengder på 1-100 g/l. Det skal forstås at vann- oppløselige salter av disse forbindelser, f.eks. ammonium- og jordalkalisalter, også kan brukes.
Det kompleksdannende middels funksjon er å holde de skadelige ferriioner som til stadighet dannes, samordnet i oppløsning slik at de kan uskadeliggjøres ved reduksjon på katodeoverflaten eller ved hjelp av kjemiske reduksjonsmidler såsom bisulfitter eller formaldehydaddukter herav, isoaskorbinsyre, reduserende sakkarider, metallisk jern etc. Komplekset som benyttes ifølge oppfinnelsen, kan brukes alene eller i kombinasjon med langt mindre omtalte reduksjonsmidler og tidligere kjente kompleksdannande midler, f.eks. glukonat, som alle bevirker redusert utjevning. De nye og uventede sider ved oppfinnelsen er: 1. Komplekset motvirker ikke utjevning, men synes i virkelig-heten å være synergistisk med acetyleniske utjevningsmidler. 2. Komplekset tillater badet å arbeide ved en pH-verdi på under 3,0 (lave pH-verdier hindrer dannelse av ferriioner) uten den reduksjon i utjevning som iakttas ved andre systemer. 3. Komplekset nedbrytes ikke av elektrolyseprosessen til uoppløselige produkter som utfelles og stopper til anodeposer og filtere og gir ru utfellinger.
De kompleksdannande midler ifølge oppfinnelsen fremmer således galvanisk; plettering med en legering som har høyt jerninnhold og øket glans og utjevning. Utfellingene eller pletteringsbeleggene har lave spenninger, utmerket duktilitet og overordentlig god mottagelighet for krom.
Konsentrasjonen av det kompleksdannande middel i badet kan ligge i området 1-100 g/l med en foretrukket konsentrasjon på
5-15 g/l. Nikkel eller nikkel/jern-glanstilsatser kan i tillegg anvendes for ytterligere å fremme glans, duktilitet og utjevning av utfellingene.
Egnede nikkeltilsatser som er funnet å være effektive, er sulfooksygenforbindelser omfattende aromatiske sulfonater, sulfonamider, sulfonimider, sulfinater samt alifatiske eller aromatiskalifatiske alken- eller acetylenumettede sulfonater, sulfonamider eller sulfonimider. Slike forbindelser kan brukes alene eller i kombinasjon og kan anvendes i konsentrasjoner på 0,5-10 g/l.
For blank, godt utjevnet legeringsplettering kan der også anvendes acetyleniske nikkel-glanstilsatser i samband med en sulfooksygenforbindelse. Egnede forbindelser er dietoksylert 2-butyn-l,4-diol, dipropoksylert 2-butyn-l,4-diol eller slike som er beskrevet i US-PS 3.922,209.
Der kan også anvendes forskjellige buffere i badet, f.eks. borsyre, natriumacetat, sitronsyre, sorbitol etc. Konsentrasjonen kan ligge i området fra 20 g/l til metningspunktet og er fortrinnsvis ca. 45 g/l.
Fuktemidler kan også tilsettes elektropletteringsbadene ifølge oppfinnelsen for å redusere overflatespenningen av opp-løsningen og redusere gropdannelse. Disse organiske materialer med overflateaktive egenskaper bevirker også at badene blir mer forenlige med forurensninger som olje, fett etc. pga. sin emulgerende, dispergerende og oppløsende virkning på sliJce forurensninger, noe som fremmer oppnåelsen av bedre galvaniske utfellinger. •
pH-verdien av alle de ovennevnte illustrerende vandige jern/ nikkel-holdige, kobolt/jern-holdige og nikkel/kobolt/jern-holdige oppløsninger kan holdes på 2-0-5,0 og fortrinnsvis på 2,5-3,0 under pletteringsprosessen. Ved drift av badet vil pH-verdien normalt være tilbøyelig til å stige, og den kan da reguleres med syrer f.eks. saltsyre eller svovelsyre etc.
Omrøring av de ovennevnte bad under pletteringsprosessen
kan være i form av pumping av oppløsningen, bevegelse av katode-staven, luftomrøring eller kombinasjoner derav.
Anoder som brukes i de ovennevnte bad, kan bestå av de spesielle enkelte metaller som felles ut på katoden, f.eks.
jern og nikkel for plettering med nikkel/jern-legeringer, kobolt og jern for plettering med kobolt/jern-legeringér eller nikkel, kobolt og jern for plettering med nikkel/kobolt/jern-legeringer. Anodene kan bestå av den enkelte aktuelle metaller passende opp-hengt i badet i form av stenger, strimler eller som små biter i titankurver. I slike tilfelle reguleres forholdet mellom anode-overflaten av de enkelte metaller slik at det tilsvarer den spesielle katodelegeringssammensetning som ønskes. For plettering
av binære eller ternære legeringer kan der som anoder også anvendes legeringer av de aktuelle metaller hvor vektforholdet mellom de enkelte metaller tilsvarer vektforholdet mellom de samme metaller i de ønskede utfellinger av katodelegeringer. Disse to typer anodesystemer vil i alminnelighet resultere i
en nokså konstant konsentrasjon av de respektive metallers ioner i badet. Dersom der skulle oppstå en viss ubalanse av metallioner i badet når legeringsnoder med bestemt metallfor-hold brukes, kan en fra tid til annen foreta reguleringer ved tilsetning av de riktige mengder av de enkelte metallsalter.
Alle anoder eller anodekurver er passende dekket med klede
eller plastposer av ønsket porøsitet for å redusere til et minimum tilførselen til badet av metallpartikler, anodeslim etc. som kan vandre til katoden enten mekanisk eller elektroforetisk og derved gi ruhet i katodeutfellingene.
De underlag som de galvaniske nikkel/jern-, kobolt/jern-eller nikkel/kobolt/jern-holdige utfellinger ifølge oppfinnelsen kan påføres på, kan være av metall eller metall-legeringer av den art som vanligvis forsynes med galvaniske pletteringsbelegg og benyttes i faget, f.eks. nikkel, kobolt, nikkel/kobolt, kobber, tinn, messing etc. Andre typiske underlagsmaterialer som gjenstander som skal pletteres, fremstilles fra, omfatter jernholdige metaller, f.eks. stål, kobber, kobberlegeringer som messing, bronse, etc. og zink, spesielt i form av kokillestøpe-stykker på zinkbasis, og alle disse metaller kan bære pletterte skikt av andre metaller, f.eks. av kobber etc. Grunnmetallunder-lagene kan være gitt en rekke overflatebehandlinger avhengig av det endelige utseende som ønskes, og som i sin tur er avhengig av slike faktorer som glans, skinn, utjevning, tykkelse etc. av den galvaniske utfelling av nikkel/jern, kobolt/jern eller nikkel/ kobolt/jern som påføres underlagene.
Driftstemperaturen av badet kan ligge i området 30-70°C, fortrinnsvis 50-60°C.
Den gjennomsnitlige strømtetthet på katoden kan ligge, i
2 2
området 50-2000A/m , fortrinnsvis 400A/m ,
De følgende eksempler er angitt for å fremme forståelsen av oppfinnelsens utførelse og tjener således ikke til definisjon av beskyttelsesområdet.
Eksempel 1
Et vandig galvanisk nikkel/jern-pletteringsbad ble fremstilt med følgende sammensetning:
Der ble brukt prøveplater av både messing og stål, og disse ble oppskrapt ved en eneste passasje av smergelpapir med 4/0 korn. Platene ble plettert i en 267 ml *s Hull-celle med en celle-strøm på 2A i 10 min. De resulterende utfellinger fra denne opp-løsning var blanke, men hadde dårlig duktilitet og var mørke i området med lav strømtetthet. Utjevningen, som var noenlunde bra ved en pH-verdi på 3,5, opphørte nesten helt ved en pH-verdi på 2,8. Jerninnholdet av utfellingen ble ved analyse funnet å være 44% jern.
Eksempel II
Ligende forsøk som de som er beskrevet i eksempel I, ble gjentatt, men med 5 g/l sulfosalicylsyre som det kompleksdannende middel for treverdig jern istedet for natriumglukonat. De resulterende utfellinger var fullstendig blanke, hadde utmerket duktilitet og usedvanlig god utjevning selv ved en pH-verdi på
2,5. Utfellingene var blanke og klare i området med lav strøm-tetthet og oppviste meget god dekning av platen. Ved analyse viste utfellingen seg å inneholde 52% jern.
Eksempel III
Der ble fremstilt et 4 l"s nikkel/jern-bad med følgende sammensetning:
Langvarig elektrolyse av denne oppløsning over flere hundre Ah/l bevirket dannelse av uoppløselige nedbrytningsprodukter
som ble felt ut som nikkelsalter, hvorav en stor del samlet seg på veggene av pletteringskaret og på anodeposene. Dette førte til problemer i form av anodepolarisasjon, noe som bare aksele-rerte nedbrytingen og førte til uheldigevirkninger på pletteringen pga. ferriioner. Tilsetning av mer glukonat for å danne komplekser av ferriionene reduserte utjevningen og bidrog til dannelse av ytterligere nedbrytningsprodukter i oppløsningen og på anodeposene. Disse nedbrytningsprodukter kan under pletteringen legge seg på horisontale partier (shelf areas) av katoden og derved skape ruhet.
Eksempel JV
Lignende forsøk som de som er beskrevet i eksempel III, ble gjentatt ved en pH-verdi på 2,8 og bruk av 10 g/l sulfosalicylsyre istedet for natriumglukonat. Ved langvarig elektrolyse over flere hundre Ah/l var der ingen uheldige virkninger fra ferriioner på pletterings-belegget, der var ingen utfelling av basiske jernsalter i badet, der var ingen dannelse av uoppløselige nedbrytningsprodukter, og der var intet tap av utjevning som følge av det kompleksdannende middel eller den lave pH-verdi som badet arbeidet ved. Forsøkene tyder på at der oppnås lengre levetid og større stabilitet for sulfosalicylsyre i nikkel/jern-pletteringsbadet i forhold til ved bruk av de mer kortvarige kompleksdannende midler som hittil har vært brukt i faget.
Eksempel V
En nikkel/jern-pletteringsoppløsning ble fremstilt og analysert med følgende resultat:
Etter at oppløsningen var blitt elektrolysert i en Hull-celle i 30 min. med en cellestrøm på 2A, ble den uklar pga. dannelse av basiske ferrisalter, selv ved denne lave pH-verdi.
Eksempel VI
Et forsøk svarende til det i eksempel V ble utført, men
med den forskjell at der i tillegg ble anvendt 6 g/l av et sulfosalicylsyre-natriumsalt, og at pH-verdien var 2,7. Etter at oppløsningen var blitt elektrolysert i en Hull-celle i 60 min. med cellestrøm på 2A, var oppløsningen klar og fullstendig fri for basisk ferrisaltutfelling.
De ovennevnte eksempler er gjengitt for å belyse oppfinnelsen og gi fagfolk en bedre forståelse av de forskjellige utførelses-former og sider ved oppfinnelsen. Eksemplene tjener således ikke til definisjon av beskyttelsesområdet.
Claims (14)
1. Fremgangsmåte til fremstilling av en galvanisk utfelling som inneholder jern og minst ett metall valgt fra gruppen nikkel og kobolt eller binære eller ternære legeringer av jern og nikkel og/eller kobolt/ omfattende å føre strøm fra en anode til en katode gjennom en vandig, sur galvanisk pletteringsopp-løsning som inneholder jern og minst én komponent valgt fra nikkelforbindelser. og koboltforbindelser for å skaffe nikkel-, kobolt- og jernioner for galvanisk utfelling av nikkel/jern-legeringer, kobolt/jern-legeringer,og nikkel/jern/kobolt-legeringer, karakterisert ved at der i opp-løsningen foreligger minst en kompleksdannende forbindelse bestående av en polysubstituert arylforbindelse inneholdende minst en karboksylsyregruppe definert som -COOH, en ytterligere substituent valgt for seg fra hydroksy eller karboksy, og en eller flere substituenter valgt for seg fra gruppene sulfo, definert som -SO^ H, eller sulfoalkyl.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er 4-sulfosalicylsyre.
3. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er 5-sufosalicylsyre.
4. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er 3,5-disulfo-2-hydoksybenzoesyre.
5. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert v e d at det kompleksdannende middel er sulfoftalsyre.
6. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er 5-(3-sulfopropyl)-2-hydroksybenzoesyre.
7. Fremgangsmåte til fremstilling av en galvanisk utfelling som inneholder nikkel, kobolt og/eller binære eller ternære legeringer av metaller valgt fra nikkel, jern og kobolt, omfattande å føre strøm fra en anode til en katode gjennom en vandig, sur galvanisk pletteringsoppløsning som inneholder jernforbindelser og minst én komponent valgt fra nikkelforbindelser og koboltforbindelser for å skaffe nikkel-, kobolt- og jernioner for galvanisk utfelling av nikkel/jern- legeringer, kobolt/jern-legeringer eller nikkel/jern/kobolt-legeringer karakterisert ved at der i oppløsningen foreligger et kompleks dannende middel med formelen
hvor R er valgt for seg fra hydroksy eller karboksy, R"^ er en alkylgruppe med 1-8 karbonatomer og n og m er uavhengige av hverandre og lik 0, 1 eller 2, idet summen n+m er større enn null, og hvor den aromatiske ring i tillegg kan være polysyklisk og minst én komponent i gruppen består av sulfooksygen-forbindelser og acetyleniske glanstilsatser.
8. Pletteringsoppløsning til fremstilling av en galvanisk utfelling ved en fremgangsmåte som angitt i krav 1, idet sammensetningen inneholder jern og minst ett metall valgt fra gruppen nikkel og kobolt eller binære eller ternære legeringer av jern og metaller valgt fra gruppen nikkel og kobolt karakterisert ved at der i oppløsningen foreligger minst én kompleksdannende forbindelse bestående av en polysubstituert arylforbindelse inneholdende minst en karboksyl-gruppe definert som -COOH, en ytterligere substituent valgt for seg fra hydroksy eller karboksy og en eller flere substituenter valgt for seg fra gruppene sulfo, definert som
-S03 H/ eller sulfoalkyl.
9. Vandig, sur galvanisk pletteringsoppløsning til utførelse av fremgangsmåten ifølge krav 1, idet oppløsningen inneholder jernforbindelser og minst en komponent valgt fra gruppen nikkelforbindelser og koboltforbindelser for å skaffe nikkel-, kobolt- og jernioner for galvanisk utfelling av nikkel/j;ern-legeringer, kobolt/jern-legeringer eller nikkel/jern/kobolt-legeringer, karakterisert ved at der i opp-løsningen foreligger et kompleksdannende middel med formelen
10. Pletteringsoppløsning ifølge krav 9, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er 4-sulfosalicylsyre.
11. Pletteringsoppløsning ifølge krav 9, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er 5-sulfosalicylsyre.
12. Pletteringsoppløsning ifølge krav 9, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er 3,5-disulfo-2-hydroksybenzoesyre.
13. Pletteringsoppløsning ifølge krav 9, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er sulfoftalsyre.
14. Pletteringsoppløsning ifølge krav 9, karakterisert ved at det kompleksdannende middel er 5-(3-sulfo-propyl)-2-hydroksybenzoesyre.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/809,558 US4129482A (en) | 1977-06-24 | 1977-06-24 | Electroplating iron group metal alloys |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO782166L true NO782166L (no) | 1978-12-28 |
Family
ID=25201614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO782166A NO782166L (no) | 1977-06-24 | 1978-06-21 | Fremgangsmaate til galvanisk plettering og pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4129482A (no) |
| JP (1) | JPS5410238A (no) |
| AU (1) | AU520137B2 (no) |
| BE (1) | BE868254A (no) |
| BR (1) | BR7803921A (no) |
| CA (1) | CA1132088A (no) |
| CH (1) | CH636909A5 (no) |
| DE (1) | DE2826464A1 (no) |
| DK (1) | DK284778A (no) |
| ES (1) | ES470940A1 (no) |
| FR (1) | FR2395335A1 (no) |
| GB (1) | GB1577699A (no) |
| IT (1) | IT1103069B (no) |
| NL (1) | NL7806706A (no) |
| NO (1) | NO782166L (no) |
| NZ (1) | NZ187558A (no) |
| SE (1) | SE438872B (no) |
| ZA (1) | ZA783060B (no) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CS215178B1 (en) * | 1980-03-07 | 1982-07-30 | Vaclav Landa | Electrolyte for catodic separation of the alloys of nickel and iron |
| US4767508A (en) * | 1986-02-27 | 1988-08-30 | Nippon Mining Co., Ltd. | Strike plating solution useful in applying primer plating to electronic parts |
| US5853556A (en) * | 1996-03-14 | 1998-12-29 | Enthone-Omi, Inc. | Use of hydroxy carboxylic acids as ductilizers for electroplating nickel-tungsten alloys |
| US5944975A (en) * | 1996-03-26 | 1999-08-31 | Texas Instruments Incorporated | Method of forming a lift-off layer having controlled adhesion strength |
| US6911068B2 (en) * | 2001-10-02 | 2005-06-28 | Shipley Company, L.L.C. | Plating bath and method for depositing a metal layer on a substrate |
| US7144489B1 (en) | 2001-10-27 | 2006-12-05 | Enpirion, Inc. | Photochemical reduction of Fe(III) for electroless or electrodeposition of iron alloys |
| JP2004152454A (ja) * | 2002-11-01 | 2004-05-27 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US7320832B2 (en) * | 2004-12-17 | 2008-01-22 | Integran Technologies Inc. | Fine-grained metallic coatings having the coefficient of thermal expansion matched to the one of the substrate |
| JP6296491B2 (ja) * | 2013-03-14 | 2018-03-20 | セイコーインスツル株式会社 | 金属構造体、金属構造体の製造方法、ばね部品、時計用発停レバーおよび時計 |
| DE102019107416A1 (de) * | 2019-03-22 | 2020-09-24 | RIAG Oberflächentechnik AG | Zusammensetzung zur elektrolytischen Vernickelung und Verfahren zur elektrolytischen Vernickelung mit einer solchen Zusammensetzung |
| US12006587B2 (en) * | 2020-02-19 | 2024-06-11 | Mark R. Schroeder | Highly magnetically permeable alloy deposition method for magnetic sensors |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2800440A (en) * | 1955-10-04 | 1957-07-23 | Udylite Res Corp | Electrodeposition of nickel |
| US3354059A (en) * | 1964-08-12 | 1967-11-21 | Ibm | Electrodeposition of nickel-iron magnetic alloy films |
| US3795591A (en) * | 1972-07-03 | 1974-03-05 | Oxy Metal Finishing Corp | Electrodeposition of bright nickel iron deposits employing a compound containing a sulfide and a sulfonate |
| US3806429A (en) * | 1972-07-03 | 1974-04-23 | Oxy Metal Finishing Corp | Electrodeposition of bright nickel-iron deposits,electrolytes therefor and coating an article with a composite nickel-iron,chromium coating |
| ZA755497B (en) * | 1974-09-16 | 1976-08-25 | M & T Chemicals Inc | Alloy plating |
| US3969198A (en) * | 1975-01-09 | 1976-07-13 | Permalite Chemicals Ltd. | Ni-Fe electro-plating |
| US3974044A (en) * | 1975-03-31 | 1976-08-10 | Oxy Metal Industries Corporation | Bath and method for the electrodeposition of bright nickel-iron deposits |
| US4036709A (en) * | 1975-09-22 | 1977-07-19 | M & T Chemicals Inc. | Electroplating nickel, cobalt, nickel-cobalt alloys and binary or ternary alloys of nickel, cobalt and iron |
| US4046647A (en) * | 1976-06-17 | 1977-09-06 | M&T Chemicals Inc. | Additive for improved electroplating process |
-
1977
- 1977-06-24 US US05/809,558 patent/US4129482A/en not_active Expired - Lifetime
-
1978
- 1978-05-29 ZA ZA00783060A patent/ZA783060B/xx unknown
- 1978-05-30 GB GB23882/78A patent/GB1577699A/en not_active Expired
- 1978-06-05 JP JP6755578A patent/JPS5410238A/ja active Granted
- 1978-06-14 NZ NZ187558A patent/NZ187558A/xx unknown
- 1978-06-16 DE DE19782826464 patent/DE2826464A1/de active Granted
- 1978-06-16 AU AU37190/78A patent/AU520137B2/en not_active Expired
- 1978-06-19 BE BE188681A patent/BE868254A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-06-19 IT IT09506/78A patent/IT1103069B/it active
- 1978-06-20 BR BR787803921A patent/BR7803921A/pt unknown
- 1978-06-20 FR FR7818431A patent/FR2395335A1/fr active Granted
- 1978-06-20 ES ES470940A patent/ES470940A1/es not_active Expired
- 1978-06-21 CH CH675878A patent/CH636909A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-06-21 NO NO782166A patent/NO782166L/no unknown
- 1978-06-21 NL NL7806706A patent/NL7806706A/xx not_active Application Discontinuation
- 1978-06-22 SE SE7807154A patent/SE438872B/sv not_active IP Right Cessation
- 1978-06-23 DK DK284778A patent/DK284778A/da not_active Application Discontinuation
- 1978-06-23 CA CA306,117A patent/CA1132088A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2395335B1 (no) | 1984-08-24 |
| IT7809506A0 (it) | 1978-06-19 |
| IT1103069B (it) | 1985-10-14 |
| AU3719078A (en) | 1979-12-20 |
| CA1132088A (en) | 1982-09-21 |
| ES470940A1 (es) | 1979-02-01 |
| BE868254A (fr) | 1978-10-16 |
| DE2826464A1 (de) | 1979-01-11 |
| CH636909A5 (de) | 1983-06-30 |
| JPS6141999B2 (no) | 1986-09-18 |
| US4129482A (en) | 1978-12-12 |
| AU520137B2 (en) | 1982-01-14 |
| JPS5410238A (en) | 1979-01-25 |
| BR7803921A (pt) | 1979-01-16 |
| NZ187558A (en) | 1979-10-25 |
| SE7807154L (sv) | 1978-12-25 |
| FR2395335A1 (fr) | 1979-01-19 |
| ZA783060B (en) | 1979-06-27 |
| DE2826464C2 (no) | 1988-12-29 |
| SE438872B (sv) | 1985-05-13 |
| DK284778A (da) | 1978-12-25 |
| NL7806706A (nl) | 1978-12-28 |
| GB1577699A (en) | 1980-10-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| USRE35513E (en) | Cyanide-free plating solutions for monovalent metals | |
| USRE31508E (en) | Electrodeposition of chromium | |
| US3804726A (en) | Electroplating processes and compositions | |
| NO782166L (no) | Fremgangsmaate til galvanisk plettering og pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| US3697391A (en) | Electroplating processes and compositions | |
| US4554219A (en) | Synergistic brightener combination for amorphous nickel phosphorus electroplatings | |
| NO781938L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten. | |
| CA1083078A (en) | Alloy plating | |
| US4014761A (en) | Bright acid zinc plating | |
| US4046647A (en) | Additive for improved electroplating process | |
| US4119502A (en) | Acid zinc electroplating process and composition | |
| US4673471A (en) | Method of electrodepositing a chromium alloy deposit | |
| NO784204L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av blanke elektrolytiske zinkutfellinger og vandig, surt pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| NO137760B (no) | Fremgangsm}te til fremstilling av en galvanisk utfelling av en jernlegering som inneholder nikkel eller nikkel og kobolt, og vandig pletteringsoppl¦sning for utf¦relse av fremgangsm}ten. | |
| US4101388A (en) | Prevention of anode bag clogging in nickel iron plating | |
| US4450051A (en) | Bright nickel-iron alloy electroplating bath and process | |
| US20060054505A1 (en) | Controlling the hardness of electrodeposited copper coatings by variation of current profile | |
| US4069112A (en) | Electroplating of nickel, cobalt, mutual alloys thereof or ternary alloys thereof with iron | |
| NO147995B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| US3969399A (en) | Electroplating processes and compositions | |
| NO150214B (no) | Fremgangsmaate til elektrolytisk utfelling av nikkel, kobolt og/eller binaere eller ternaere legeringer av metaller valgt fra gruppen nikkel, jern og kobolt og pletteringsloesning til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| US3998707A (en) | Cadmium electroplating process and bath therefor | |
| US3972788A (en) | Zinc anode benefaction | |
| GB2094349A (en) | Metal plating compositions and processes | |
| NO761680L (no) |