NO761680L - - Google Patents

Info

Publication number
NO761680L
NO761680L NO761680A NO761680A NO761680L NO 761680 L NO761680 L NO 761680L NO 761680 A NO761680 A NO 761680A NO 761680 A NO761680 A NO 761680A NO 761680 L NO761680 L NO 761680L
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
stated
nickel
cobalt
plating solution
monosaccharide
Prior art date
Application number
NO761680A
Other languages
English (en)
Inventor
S P Valayil
Original Assignee
M & T Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by M & T Chemicals Inc filed Critical M & T Chemicals Inc
Publication of NO761680L publication Critical patent/NO761680L/no

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
    • C25D3/14Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/562Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

Den foreliggende oppfinnelse går ut på forbedrede fremgangsmåter og badsammensetninger til fremstilling av galvaniske utfellinger ay jernlegeringer med nikkel eller nikkel og kobolt. Nærmere bestemt går oppfinnelsen ut på bruk av en ny tilsetning til forbedring av galvanisk plettering med jernholdige legeringer av nikkel eller nikkel og kobolt.
Som følge av at jern og jernsalter er meget billigere enn nikkel og kobolt;og disses salter, vil det være meget ønskelig galvanisk å kunne utfelle legeringer av nikkel eller nikkel og kobolt med jern hvor jerhinhholdet er betydelig, for på denne måte å redusere material-kostnadene. Det er funnet at av de to vanlige former for jern med
2+ 3+
forskjellig verdighet, nærmere bestemt Fe og Fe , er ferroformen (Fe 2+) den beste ved plettering med disse legeringer, skjønt badene i alminnelighet kan tåle lave konsentrasjoner av treverdig jern. Pro-blemet med plettering med disse jernlegeringer har imidlertid vært at Fe^+, som følge av at det foreligger i for høye konsentrasjoner som kan oppstå ved luftoksydasjon eller anodisk oksydasjon av Fe 2+, er tilbøyelig til å utfellés som basiske salter som ikke bare i ønsket stor grad er tilbøyelige til å tilstoppe anodeposer og filtre, men også samutfelles slik at utfellingene blir utilfredsstillende. Slike utfellinger kan oppvise uklarheter eller lokalt matte områder, spesielt på "hylle"-områder, og hvis konsentrasjonen av suspendert basisk ferrisalt er usedvanlig høy, kan der fås en generell dannelse av små forhøyninger (micro-mourid formation) som ofte betegnes som "appelsinskall<0>. Dette problem med utfelling av basiske ferrlsalter har derfor hittil gjort det meget vanskelig å beherske en industriell galvanisk utfelling av legeringer av jern méd nikkel eller med nikkel.og kobolt.
For å overvinne de problemer som er knyttet til dannelsen av basiske ferrisaltutfellinger, kan man gå to veier. Den ene går ut på å anvende et reduserende middel som forsøker å beholde hovedsakelig alt jernet som Fe 2+. Skjønt der foreligger slike reduksjonsmidler, er de fleste tilbøyelige til å være ustabile, danne skadelige reduksjons-produkter eller ugunstig påvirke egenskapene av de galvanisk utfelte belegg eller den generelle styring med og ytelse av badet.
En annen måte ville være å innlemme i pletteringsbadet en tilsetning som vil gjøre Fe 3+ oppløselig ved kompleksdannende eller chelatdannende virkning. For å kunne benyttes i praksis, vil en slik tilsetning måtte ha følgende egenskaper: 1. Den må være relativt stabil mot elektrolyse, dvs. mot reduserende (katode) og oksyderende (anode) betingelser. 2. Den må være forenlig med andre tilsetninger som anvendes hver for seg eller i kombinasjon som kornforfinende tilsats eller glanstilsats, dvs. at den ikke ugunstig må påvirke ytelsen av disse øvrige tilsetninger. 3. Den må være relativt billig og ikke kritisk med hensyn til tillatte konsentrasjonsgrenser. 4. Den må tåle temmelig store fluktuasjoner i konsentrasjonen av Fe i badet.
Der finnes noen kompleksdannende forbindelser som kan ha enkelte av de ovennevnte egenskaper, men man finner vanligvis at de mangler de øvrige egenskaper.
Det er en hensikt med den foreliggende oppfinnelse å forbedre galvaniske utfellinger av legeringer av nikkel og jern og av nikkel, kobolt og jern. En spesiell hensikt med oppfinnelsen er å skaffe fremgangsmåter og pletteringsbad til fremstilling av skikkelige galvaniske utfellinger som inneholder jern og nikkel eller jern, nikkel og kobolt, i et vidt konsentrasjonsområde for tilsetningene uten vesentlig utfelling av basiske ferrisalter. Samtidig tillater oppfinnelsen plettering av nikkel og/eller kobolt med et meget lavt jerninnhold (stort sett godt under 1 vektprosent, f.eks. 0,025%) i den galvaniske utfelling som følgé av jernforurensninger i badet.
Et foretrukket område for jerninnholdet er 1-70% og et meget foretrukket område er 5-50% jern i utfellingen.
Det er oppdaget at monosakkarider, oligosakkarider og polysakkarider har ønskelige egenskaper, idet de kan oksyderes og har kompleksdannende virkning på treverdig jern.
Den foreliggende oppfinnelse går således ut på en fremgangsmåte til fremstilling av en galvanisk utfelling som inneholder nikkel og/eller kobolt, og som også inneholder jern, omfattende å føre strøm fra en anode til en katode gjennom en vandig, sur pletteringsopp-løsning inneholdende nikkel-, kobolt- og/eller jernforbindelser som skaffer kobolt-, nikkel- og jernioner til galvanisk utfelling av
kobolt, nikkel og legeringer herav og også jernlegeringer av kobolt og/eller nikkel,karakterisert vedat der i oppløsningen foreligger
minst en virksom mengde borsyre og minst en forbindelse fra gruppen monosakkarider, oligosakkarider og vannhydrolyserbare polysakkarider
i en konsentrasjon alene eller i kombinasjon på 2-100 g/l og i en prlode som er tilstrekkelig til dannelse av en skikkelig galvanisk metallutfelling på katodeoverflaten. Sakkaridene reduserer det
uønskede treverdige jern til toverdig jern og hindrer også oksydasjon av toverdig jern til treverdig jern. Denne reduksjonsevne skyldes stort sett nærværet av aldehyd- eller keto-grupper i disse sakkarider.
3+ Videre danner sakkaridene sammen med Fe sterke komplekser som for-blir i oppløsning.
Typiske eksempler på de nevnte sakkarider er:
Monosakkarider;
Glukose, fruktose, xylose, arabinose, mannose, erytrose, glyceraldehyd etc.
Ollgosakkarider:
Maltose, cellobiose, gentiobiose etc.
Polysakkarider;
Laktos©, stivelse, cellulose.
Badene kan inneholde en effektiv mengde av en eller flere av
de følgende tilsetninger:
a) primær glanstilsats
b) sekundær glanstilsats
c) sekundær hjelpeglanstilsats, og"V
d) antigropdannende middel.
De underlag som de nikkel-, kobolt-, nikkel/kobolt-, nikkel/
jern- eller nikkel/kobolt/jern-holdige galvaniske utfellinger ifølge den foreliggende oppfinnelse kan påføres på, kan være av metall eller
metall-legeringer av den art som vanligvis forsynes med galvaniske utfellinger og benyttes i faget, f.eks. nikkel, kobolt, nikkel/kobolt, kobber, tinn, messing etc. Andre typiske underlagsaretaller som gjen-stander som skal pletteres, fremstilles fra, omfatter jernholdige metaller, f.eks. stål, kobber, tinn og tinnlegeringer, f.eks. med bly, legeringer av kobber, f.eks. messing, bronse etc, og zink, spesielt 1 form av støpestykker av zink, og alle disse metaller kan bære pletterté skikt av andre metaller, f.eks. kobber. Gruhnmetall-
, underlagene kan være gitt en rekke overflatebehandlinger avhengig av det endelige Utseende som ønskes, som i sin tur er avhengig av slike faktorer som glans,, skinn, utjevning, tykkelse etc. av den galvaniske kobolt-, nikkel- eller jernholdige utfelling som påføres underlagene. Uttrykket "primær glans tilsats ** slik det anvendes i denne fremstilling, er ment å skulle innbefatte slike pletteringstilsatser som f.eks. reaksjonsproduktene av epoksyder med a-hydroksy-acetylenalko-holer som f.eks. dietoksylert 2-butyn-l,4-diol eller dipropoksylert 2-butyn-l,4-diol, andre acetylenforbindelser, M-heterocykliske forbindelser, aktive svovelforbindelser, fargestoffer etc. Spesielle eksempler på slike pletteringstilsetninger er: 1,4-di-{B-hydroksyetoksy)-2-butyn
1,4-di-(Ø-hydroksy-Y-klorpropoksy)-2-butyn
1,4-di-(B~y-epoksypropoksy)-2-butyn
■ ■ ■ o • •
1,4-di-'( ø-hydroksy-Y-butenoksy) -2-butyn
1,4-di-(2 *-hydroksy-4'-oksa-6 *-heptenoksy)-2-butyn
N-l, 2-diklprpropenyl-pyridiniuxaklor id
2 , 4,6-trimetyl-EJ-propargyl-pyridiniumbromid
N-ally1-kinaldiniumbromid
2-butyn-l,4-diol
propargylalkohol
2^metyl-3-butyn-2~ol
tiodiproprionitril
tiourea fenosafranin
fuksin
Når den anvendes alene eller i kombinasjon, kan en primær glanstilsats gi ingen synlig virkning på den galvaniske utfelling.
eller den kan gl finkornede utfellinger med halvglans. De beste
resultater oppnås imidlertid når primære glanstilsatser anvendes sammen med enten en sekundær glanstilsats, én sekundær njelpeglans-tiisats eller begge deler for å skaffe optimal utfellingsglans, blankhetsgrad, utjevning, strømtetthetsområde for blankpléttering, dekning ved lav strømtetthet etc.
Uttrykket "sekundær glanstilsats" slik det anvendes i den foreliggende 'fremstilling, menes å skulle innbefatte aromatiske sulfonater, sulfonamider, sulfonimider, sulfinater etc. Spesielle eksempler på slike pletteringstilsatser er:
1. Sakkarin
2. Trinatrlum-l,3,6-naftalen-trisulfonat
3. Hatriumbenzén-monosulfonat
4. Dibenzen-sulfonamld
5. Natriumbénzen-monosulfinat.
Slike pletteringstilsatser, som kan anvendes alene eller i egnede kombinasjoner, har en eller flere av de følgende funksjoner: 1. Å skaffe halvblanke utfellinger eller gi en vesentlig korn-forfining i forhold til de vanligvis glansløse, matte, korn-formede, ikke-reflekterende utfellinger som fås fra til-setningsfrie bad. 2. Å tjene som duktiliseringsmidler når de anvendes sammen med andre tilsetninger som f.eks. primære glanstllsatser. 3. Å beherske indre spenninger i utfellingene stort sett ved at spenningene gjøres til ønskede trykkspenninger. 4. Å innføre regulerte svovelmengder i de galvaniske utfellinger for i ønsket grad å påvirke den kjemiske reaktivitet, potensi>-alforskjeller i sammensatte beleggsystemer etc. for på denne måte å redusere korrosjonen og bedre beskytte gruiuimetallet mot korrosjon etc.
Uttrykket "sekundær hjelpeglanstilsats" slik det anvendes i fremstillingen, er ment å skulle innbefatte alifatisk© eller aromatisk-aiifatiské alken- eller acétylenumettede sulfonater, sulfonamider eller sulfonimider etc. Spesielle eksempler på slike plétterings-r ,tilsetninger er:
1. Katriumallylsulfonat
2. Natrium-3-klor-2-buten-l-sulfonat
3. Natrium-e-styren-sulfonat
<,irø—■ arwntstravl — «til fnnaf 5. Monoallyl-sulfamid (H2H-S02-NH-CH2-CH==CH2)
6. Diallylsulfamid
7. Allylsulfonamid.
Slike forbindelser, som kan anvendes alene (vanligvis) eller i kombinasjon, har alle de virkninger som er angitt for de sekundære glanstllsatser, og kan dessuten ha en eller flere av de følgende funksjoner: 1. De kan tjene til å hindre eller redusere gropdannelse (sann-synligvis ved å virke som hydrogenakseptorer). 2. De kan samvirke med en eller flere sekundære glanstllsatser og en eller flere primære glanstllsatser for å gi meget bedre glansnivå og utjevning enn hva som ville kunne oppnås med én og Sh eller to og to av hvilke som helst forbindelser valgt fra følgende tre klasser:
(1) primære glanstllsatser
(2) sekundære glanstllsatser og
(3) sekundære hjelpeglanstilsatser.
3. De kan påvirke katodeoverflaten ved katalytisk forgiftning f.eks. slik at forbrukshastigheten av samvirkende tilsetninger (vanligvis av primær glanstilsats) kan reduseres vesentlig, slik at driften blir mere økonomisk og bedre kan beherskes.
Blant de sekundære hjelpeglanstilsatser kan man også innlemme ioner eller forbindelser av visse metaller og halvmetaller som f.eks. zink, kadmium, selen etc. som, skjønt de for tiden vanligvis ikke anvendes, tidligere har vært benyttet for å øke glansen av utfellingen
etc. Andre samvirkende tilsetninger av organisk art som kan være nyttige, er de hydroksy-sulfonatforbindelser som er beskrevet i
US-PS 3 697 391, dvs. som et typisk eksempel natriumformaldehyd-bisulfitt, hvis funksjon er å gjøre badene bedre istand til å tåle konsentrasjoner av primære glanstllsatser, øke toleransen overfor metalliske forurensninger som f.eks. zink, etc.
Uttrykket "antigropdannende middel" slik det anvendes i den foreliggende fremstilling, er ment å skulle innbefatte et materiale (som er forskjellig fra og kommer i tillegg til den sekundære hjelpeglanstilsats) som tjener til å hindre eller redusere gassgropdahnelse.
£t antigropdannende middel kan også tjene til å gjøre badene mere for-enlige' med forurensninger som f.eks. olje, fett etc. ved en emulger-ende, dispergerende eller oppløsende virkning på slike forurensninger og derved fremme oppnåelsen av gode galvaniske utfellinger. Antigropdannende midler er valgfrie tilsetninger som eventuelt kan anvendes i kombinasjon med en primær glanstilsats, en sekundær glanstilsats og/eller en sekundær hjelpeglanstilsats. Foretrukne antigropdannende midler er natriumlaurylsulfat, natriumlauryletersulfat og natriumalkylsulf osuksinater.
Typiske nikkel-holdige, kobolt-holdige og nikkel/kobolt-holdige badsammensetninger som kan anvendes 1 kombinasjon med effektive mengder på ca. 2-100 g/l av monosakkaridene, oligosakkaridene og poly-sakkaridene, og effektive mengder på ca. 0,005-0,2 g/l primær glanstilsats, ca. 1,0-30 g/l sekundær glanstilsats, ca. 0,5-10 g/l sekundær hjelpeglanstilsats og ca. 0,05-1 g/l antigropdannende midler av den i beskrivelsen angitte art, er angitt i det etterfølgende.
Typiske vandige, nikkelholdige, galvaniske pletteringsbad (som kan anvendes i kombinasjon med effektive mengder samvirkende tilsetninger) innbefatter følgende bad hvor alle konsentrasjoner er i g/l med mindre noe annet er angitt.
' ■ .
Vandige nikkelholdige galvaniske pletteringsbad
Forholdet mellom nikkelioner og jernloner i dette bad ligger i området 1:1 - 50:1.
Et typisk hikkelpletterlngsbad av sul feisa ttypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler: Forholdet mellom nikkelloner og jemioner i dette bad ligger i området 1:1 50:1.
Et typisk kloridfritt nikkelpietteringsbad av sulfattypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler:
Et typisk klpridfritt nikkelpietteringsbad av sulfamattypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler:
Forholdet mellom nikkelloner og jemioner i det foregående bad ligger i området 1:1-50:1.
pet vil vare klart at de ovennevnte bad kan inneholde forbindelser i mengder som ligger utenfor det område som defineres av
de angitte foretrukne minimums- og maksimumsverdier, men at den mest tilfredsstillende og økonomiske drift vanligvis oppnås når forbind-elsene er tilstede i badene i de angitte mengder. En spesiell fordel
ved de kloridfrie bad Ifølge de ovennevnte tabeller III og IV er at de galvaniske utfellinger som oppnås, kan være hovedsakelig frie for strekkspenninger og kan tillate meget hurtig plettering under anvendelse av hurtigvirkende anoder.
I det følgende er der angitt vandige kobolt-holdlge og kobolt/nikkel-holdige galvaniske pletteringsbad, hvor kombinasjonen av effektive, mengder av en eller flere samvirkende tilsetninger i henhold til den foreliggende oppfinnelse vil gi gunstige virkninger.
Vandige koboltholdige og kobolt/nikkel-holdige
galvaniske pletterlngsbad
VIKoboltbad VII Koboltbad med høyt kloridinnhold VI11 Kot>olt/ nikkel- legerlngs- bad IX Koboltbad med bare klorid x Sulfamat/ kobolt- bad
Forholdet mellom nikkelloner og jernioner i de foregående bad ligger i området 1*1 - 50:1.
Foretrukne kobolt-holdige badsammensetninger kan inneholde minst ca. 30 g/l eoC<l>2<*>6H20, og typisk 20-50 g/l CoCl2<*>6<H>2<0.>Andre forbindelser som inneholder et kation som er forenlig med badet (dvs. et kation som ikke forstyrrer driften av badet), og som vil skaffe minst 7,5 g/1 klorioner, Cl" (og fortrinnsvis minst ca. 9 g/l Cl"), kan også anvendes.
pH-verdien av alle de foregående, belysende vandige sammen-setninger som inneholder nikkel, kobolt, nikkel og kobolt, resp. nikkel, kobolt og jern, kan under pletterlngen holdes på 2,5-5,0 og
fortrinnsvis 3,0-4,0. Under driften av badet er pH-verdien vanligvis tilbøyelig til å stige og kan reguleres ved hjelp av syrer som f.eks. saltsyre eller svovelsyre etc.
Arbeidstemperaturene for de ovennevnte bad kan ligge på mellom 30 og 70°C med foretrukne temperaturer i området fra 45 til 65°C. Omrøring av de ovennevnte bad under pletterlngen kan bestå av pumping av oppløsningen, bevegelse av katodestenger, luftomrøring eller kombinasjoner av disse metoder. For anvendelser som innbefatter utfelling av legeringer som inneholder jern, fra bad hvor jernet over-veiende foreligger i toverdig form, foretrekkes det å anvende meget svak omrøring, dvs. ved bevegelse av katodestenger, for å holde luft-oksydasjonen av toverdig jern til treverdig jern så lav som mulig.
For plettering av binære eller ternære legeringer som nikkel/ kobolt, nikkel/jern eller nikkel/kobolt/jern kan anodene bestå av de respektive separate metaller opphengt på egnet måte i badet som stenger, strimler eller små biter i titankurver. I slike tilfeller innstilles forholdet mellom anodeoverflatené av de forskjellige metaller i overensstemmelse med den spesielle legeringssammensetning som ønskes ved katoden. For plettering med binære eller ternære legeringer kan der også som anoder anvendes legeringer av de respektive metaller i et vektforhold mellom metallene svarende til det prosentvise vektforhold mellom de samme metaller i den Ønskede galvanisk utfelte legering på katoden. Disse to typer av anodesystemer vil vanligvis gi en stort sett konstant ionekonsentrasjon av de respektive metaller i badet. Hvis der med anoder av legeringer med fast forhold mellom metallene skulle forekomme en viss ubalanse mellom metallionene i badet, kan der fra tid til annen utføres justeringer ved tilsetning av egnede korrigerende konsentrasjoner av de individuelle metallsalter. Alle anoder eller anodekurver er vanligvis dekket på egnet måte med stoff- eller plastposer av ønsket porøsitet for å redusere til et minimum tilførselen til badet av metallpartikler, anodeslim etc. som kan vandre til katoden enten mekanisk eller elektroforetisk og gi ru-net i den galvaniske utfelling på katoden.
Dé følgende eksempler er angitt til belysning av oppfinnelsen.
Eksempel 1
Et galvanisk pletterlngsbad for nikkel og.jern ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler 1 vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
En polert messingplate ble oppskrapt (scribed) ved en eneste horisontal passasje av smergelpapir med 20/0-korn for å gi et ca. 1 cm bredt bånd i en avstand på ca. 2,5 cm fra den nedre kant av platen. Etter rensing av platen, herunder bruk av et tynt kobbercyanidstrøk for å sikre fremragende fysisk og kjemisk renhet, ble platen plettert i en 267' ml-'s Hull-celle ved en cellestrøm på 2 A i 10 min og en temperatur på 50 C under anvendelse av magnetisk omrøring, ben resulterende utfelling var jevnt finkornet, godt utjevnet, hadde et glans-fullt utseende og oppviste fremragende duktilitet og god dekning i områder med lav strømtetthet.
Eksempel 2
Eksempel 1 ble gjentatt under anvendelse av 40 g/l sukrose, som er et di-sakkarid, istedenfor fruktose, men med de samme resultater.
Eksempel 3
Eksempel 1 ble gjentatt under anvendelse av 40 g/l glukose, som er et monosakkarid, istedenfor fruktose, men med samme resultater.
Eksempel 4
Eksempel 1 ble gjentatt under anvendelse av 20 g/l laktose, som er et di-sakkarid. Istedenfor fruktose, men med de samme resultater.
Eksempel 5
En galvanisk nikkel/jern-badsammensetning ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
Den resulterende utfelling var blank, relativt godt utjevnet og duktil.
Eksempel 6
Et galvanisk pletterlngsbad av nikkel og jern ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
Badet ble filtrert og underkastet en Hull-celleprøve. Utfellingen var blank og jevn, men duktiliteten var dårlig.
Eksempel 7
Et galvanisk pletterlngsbad av nikkel og jern ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
Den resulterende utfelling var blank, duktil og brukbart jevn.
Eksempel 8
En galvanisk badsammensetning inneholdende nikkel og jern ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
Den resulterende utfelling var blank, godt utjevnet<p>g duktil.
Eksempel 9
Eksempel 8 ble gjentatt, men mengden av FeS04*7H20 ble økt til 40 g/l. Den resulterende utfelling var blank og jevn, men hadde dårlig duktilitet.
Eksempel 10
Et galvanisk nikkel/jern-pletteringsbad ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
Den resulterende utfelling var relativt jevn, blank og duktil.
Eksempel 11
Eksempel 10 ble gjentatt under anvendelse av en blanding av 10 g/l glukose og 10 g/l erytorbinsyre istedenfor stivelse. Den resulterende utfelling var blank, relativt jevn og duktil.
Eksempel 12
Eksempel 10 ble gjentatt under anvendelse av en blanding av 10 g/l dekstrose og 10 g/l natriumglukonat istedenfor stivelse. Den resulterende utfelling var blank, duktil og godt utjevnet.
Eksempel 13
Eksempel 10 ble gjentatt'under anvendelse av én blanding av
10 g/l glukose og 10 g/l natriuiacitrat. Utfellingen var duktil, blank og godt utjevnet.

Claims (38)

1. Fremgangsmåte til fremstilling av en galvanisk utfelling som inneholder nikkel og/eller kobolt, og som også inneholder jern, omfattende å føre strøm fra en anode til en katode gjennom en vandig, sur pletteringsoppløsning som inneholder nikkel-, kobolt- og/eller jernforbindelser som skaffer ioner til utfelling av nikkel, kobolt, en nikkel/kobolt-legering, en nikkel/jern-legering eller en nikkel/ kobolt/jem-legering, karakterisert ved at der i opp-løsningen foreligger minst Sn forbindelse fra gruppen monosakkarider, oligosakkarider og polysakkarider i en konsentrasjon alene eller i kombinasjon på 2-100 g/l.
2. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som nikkelforbindeIser anvendes nlkkelsulfat og nikkel klorid.
3. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som nikkelforbindelser anvendes nikkelsulfamat og nikkelklorid.
4. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert v e d at der som koboltforbindelser anvendes koboltsulfat og koboltklorid.
5. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som koboltforbindelser anvendes koboltsulfamat og kobolt klorid.
6. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som jernforbindelse anvendes férrosulfat eller ferroklorid.
7. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes glukose.
8. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes fruktose.
9. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes xylose.
10. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes arabinose.
11. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes mannose.
12. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes erytrose.
13. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes glyceraldehyd.
14. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som oligosakkarid anvendes maltose.
15. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som oligosakkarid anvendes cellobiose.
16. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karaktérisert ved at der som oligosakkarid anvendes gentiobiose.
17. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som polysakkarid anvendes laktose.
18. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som polysakkarid anvendes stivelse.
19. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som polysakkarid anvendes cellulose.
20. Vandig pletteringsoppløsnlng til utførelse av en fremgangsmåte som angitt i et av de foregående krav, inneholdende nikkel-, kobolt-og/eller jernforbindelser som skaffer ioner til utfelling av nikkel, kobolt, en nikkel/kobolt-legering, en nikkel/jern-legering eller en nikkel/kobolt/jem-legering, karakterisert ved at oppløsningen inneholder borsyre og minst én forbindelse fra gruppen monosakkarider, oligosakkarider og polysakkarider i en konsentrasjon alene eller i kombinasjon på 10-50 g/l.
21. Plettéringsoppløsning som angitt i krav 20, karakterisert ved at nikkelforbindelsene er nikkelsulfat og nikkelklorid.
22. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at nikkelforbindelsene er nikkelsulfamat og nikkelklorid.
23. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at koboltforbindelsene er koboltsulfat og koboltklorid.
24. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at koboltforbindelsene er koboltsulfamat og koboltklorid.
25. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at jernforbindelsen er ferrosulfat eller ferroklorid.
26. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, k a rak te r 1 - sert ved at monosakkaridet er glukose.
27. Pletteringsoppløsnlng som angitt 1 krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er fruktose.
28. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er xylose.
29. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er arabinose.
30. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er mannose.
31. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er erytrose.
32. ; Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er glyceraldehyd.
33. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at oligosakkaridet er maltose.
34. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at oligosakkaridet er cellobiose.
35. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at oligosakkaridet er gentiobiose.
36. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at polysakkaridet er laktose.
37. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at polysakkaridet er stivelse.
38. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert v ,e d at polysakkaridet er cellulose.
NO761680A 1975-05-16 1976-05-14 NO761680L (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US57811075A 1975-05-16 1975-05-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NO761680L true NO761680L (no) 1976-11-17

Family

ID=24311489

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO761680A NO761680L (no) 1975-05-16 1976-05-14

Country Status (13)

Country Link
JP (1) JPS51140842A (no)
AU (1) AU498882B2 (no)
BE (1) BE841707A (no)
BR (1) BR7603041A (no)
DE (1) DE2620963A1 (no)
ES (1) ES447771A1 (no)
FR (1) FR2311110A1 (no)
GB (1) GB1503885A (no)
IT (1) IT1069754B (no)
NL (1) NL7605210A (no)
NO (1) NO761680L (no)
SE (1) SE7605289L (no)
ZA (1) ZA762380B (no)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54132661A (en) * 1978-04-07 1979-10-15 Hitachi Ltd Transfer molding of thermosetting resin
US4179343A (en) * 1979-02-12 1979-12-18 Oxy Metal Industries Corporation Electroplating bath and process for producing bright, high-leveling nickel iron electrodeposits
JPS5620179A (en) * 1979-07-26 1981-02-25 Showa Denko Kk Preparation of cathode for electrolysis of aqueous solution of alkali metal halogenide
DE3909811A1 (de) * 1989-03-24 1990-09-27 Lpw Chemie Gmbh Verwendung von zumindest einer organischen sulfinsaeure und/oder von zumindest einem alkalisalz einer organischen sulfinsaeure als mittel ...
FR2708002A1 (fr) * 1993-07-23 1995-01-27 Assoun Christian Daniel Procédé de préparation de complexes organométalliques et leurs applications en tant que médicament et en catalyse chimique.

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD4525A (no) *
DE97580C (no) *
US2406072A (en) * 1941-02-15 1946-08-20 Univ Ohio State Res Found Electrodeposition of metals and bath composition therefor
US2615837A (en) * 1947-11-20 1952-10-28 Wyandotte Chemicals Corp Electroplating bath and process
FR2029120A5 (no) * 1969-01-10 1970-10-16 Commissariat Energie Atomique
US3669853A (en) * 1969-07-15 1972-06-13 Chemetron Corp Coumarin-carrier addition agent for nickel baths

Also Published As

Publication number Publication date
GB1503885A (en) 1978-03-15
JPS51140842A (en) 1976-12-04
AU498882B2 (en) 1979-03-29
ZA762380B (en) 1977-04-27
IT1069754B (it) 1985-03-25
ES447771A1 (es) 1977-06-16
BR7603041A (pt) 1977-06-07
FR2311110B1 (no) 1980-11-07
SE7605289L (sv) 1976-11-17
BE841707A (fr) 1976-09-01
FR2311110A1 (fr) 1976-12-10
DE2620963A1 (de) 1976-11-25
NL7605210A (nl) 1976-11-18
AU1403876A (en) 1977-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0358375B1 (en) Platinum or platinum alloy plating bath
US4033835A (en) Tin-nickel plating bath
US3804726A (en) Electroplating processes and compositions
CA1149323A (en) Electroplating bath and process for producing bright, high-leveling nickel iron electrodeposits
US3697391A (en) Electroplating processes and compositions
US2693444A (en) Electrodeposition of chromium and alloys thereof
US5415763A (en) Methods and electrolyte compositions for electrodepositing chromium coatings
US4014759A (en) Electroplating iron alloys containing nickel, cobalt or nickel and cobalt
CA1058553A (en) Electrodeposition of alloys of nickel, cobalt, or nickel and cobalt with iron
NO781938L (no) Fremgangsmaate til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten.
US4129482A (en) Electroplating iron group metal alloys
NO761680L (no)
US3892638A (en) Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys
US3881919A (en) Ternary alloys
NO137760B (no) Fremgangsm}te til fremstilling av en galvanisk utfelling av en jernlegering som inneholder nikkel eller nikkel og kobolt, og vandig pletteringsoppl¦sning for utf¦relse av fremgangsm}ten.
US4101388A (en) Prevention of anode bag clogging in nickel iron plating
US4673471A (en) Method of electrodepositing a chromium alloy deposit
NO784204L (no) Fremgangsmaate til fremstilling av blanke elektrolytiske zinkutfellinger og vandig, surt pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten
US3969399A (en) Electroplating processes and compositions
NO147995B (no) Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaaten
US4069112A (en) Electroplating of nickel, cobalt, mutual alloys thereof or ternary alloys thereof with iron
WO2005078163A1 (en) Ternary and quaternary alloys to replace chromium
US4183789A (en) Anode bag benefaction
CA1050471A (en) Electroplating of rhodium-ruthenium alloys
US4470886A (en) Gold alloy electroplating bath and process