NO761680L - - Google Patents
Info
- Publication number
- NO761680L NO761680L NO761680A NO761680A NO761680L NO 761680 L NO761680 L NO 761680L NO 761680 A NO761680 A NO 761680A NO 761680 A NO761680 A NO 761680A NO 761680 L NO761680 L NO 761680L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- stated
- nickel
- cobalt
- plating solution
- monosaccharide
- Prior art date
Links
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 113
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 83
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 48
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 44
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 43
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 150000002772 monosaccharides Chemical class 0.000 claims description 21
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 claims description 12
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 claims description 12
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 claims description 12
- -1 nickel compounds chloride Chemical class 0.000 claims description 11
- 229920001542 oligosaccharide Polymers 0.000 claims description 11
- 150000002482 oligosaccharides Chemical class 0.000 claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 9
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 8
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 claims description 7
- 229930091371 Fructose Natural products 0.000 claims description 6
- 239000005715 Fructose Substances 0.000 claims description 6
- PYMYPHUHKUWMLA-UHFFFAOYSA-N arabinose Natural products OCC(O)C(O)C(O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- SRBFZHDQGSBBOR-UHFFFAOYSA-N beta-D-Pyranose-Lyxose Natural products OC1COC(O)C(O)C1O SRBFZHDQGSBBOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000008103 glucose Substances 0.000 claims description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 6
- SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N D-xylopyranose Chemical compound O[C@@H]1COC(O)[C@H](O)[C@H]1O SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N 0.000 claims description 5
- RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N Fructose Chemical compound OC[C@H]1O[C@](O)(CO)[C@@H](O)[C@@H]1O RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N 0.000 claims description 5
- GUBGYTABKSRVRQ-QKKXKWKRSA-N Lactose Natural products OC[C@H]1O[C@@H](O[C@H]2[C@H](O)[C@@H](O)C(O)O[C@@H]2CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-QKKXKWKRSA-N 0.000 claims description 5
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 claims description 5
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000008107 starch Substances 0.000 claims description 5
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000008101 lactose Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- OWEGMIWEEQEYGQ-UHFFFAOYSA-N 100676-05-9 Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC1C(O)C(O)C(O)C(OC2C(OC(O)C(O)C2O)CO)O1 OWEGMIWEEQEYGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- YTBSYETUWUMLBZ-UHFFFAOYSA-N D-Erythrose Natural products OCC(O)C(O)C=O YTBSYETUWUMLBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MNQZXJOMYWMBOU-VKHMYHEASA-N D-glyceraldehyde Chemical compound OC[C@@H](O)C=O MNQZXJOMYWMBOU-VKHMYHEASA-N 0.000 claims description 3
- 206010056474 Erythrosis Diseases 0.000 claims description 3
- GUBGYTABKSRVRQ-PICCSMPSSA-N Maltose Natural products O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)OC(O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-PICCSMPSSA-N 0.000 claims description 3
- AYRXSINWFIIFAE-UHFFFAOYSA-N O6-alpha-D-Galactopyranosyl-D-galactose Natural products OCC1OC(OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O)C(O)C(O)C1O AYRXSINWFIIFAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 3
- GUBGYTABKSRVRQ-CUHNMECISA-N D-Cellobiose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)OC(O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-CUHNMECISA-N 0.000 claims description 2
- YTBSYETUWUMLBZ-IUYQGCFVSA-N D-erythrose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)C=O YTBSYETUWUMLBZ-IUYQGCFVSA-N 0.000 claims description 2
- WQZGKKKJIJFFOK-QTVWNMPRSA-N D-mannopyranose Chemical compound OC[C@H]1OC(O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-QTVWNMPRSA-N 0.000 claims description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 2
- PYMYPHUHKUWMLA-WDCZJNDASA-N arabinose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-WDCZJNDASA-N 0.000 claims description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 2
- DLRVVLDZNNYCBX-CQUJWQHSSA-N gentiobiose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1OC[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)O1 DLRVVLDZNNYCBX-CQUJWQHSSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims 3
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 claims 3
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 3
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 claims 3
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 3
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 claims 2
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- WLQXLCXXAPYDIU-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);disulfamate Chemical compound [Co+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O WLQXLCXXAPYDIU-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 229960002089 ferrous chloride Drugs 0.000 claims 2
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 claims 2
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 claims 2
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 claims 2
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 claims 2
- 125000000089 arabinosyl group Chemical group C1([C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO1)* 0.000 claims 1
- 125000001547 cellobiose group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000770 erythrosyl group Chemical group C1([C@H](O)[C@H](O)CO1)* 0.000 claims 1
- BJHIKXHVCXFQLS-UYFOZJQFSA-N fructose group Chemical group OCC(=O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO BJHIKXHVCXFQLS-UYFOZJQFSA-N 0.000 claims 1
- 125000002423 gentiobiose group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002791 glucosyl group Chemical group C1([C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O1)CO)* 0.000 claims 1
- 125000003071 maltose group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000311 mannosyl group Chemical group C1([C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O1)CO)* 0.000 claims 1
- 125000000969 xylosyl group Chemical group C1([C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO1)* 0.000 claims 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 41
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 21
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 5
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 4
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical class OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 3
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical class OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical group [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 150000002016 disaccharides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 2
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- AGBXYHCHUYARJY-VOTSOKGWSA-N (e)-2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-(4-imino-3-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]aniline;hydron;chloride Chemical compound Cl.C1=CC(=N)C(C)=CC1=C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021580 Cobalt(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-araboascorbic acid Natural products OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-QUYVBRFLSA-N beta-maltose Chemical compound OC[C@H]1O[C@H](O[C@H]2[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)O[C@@H]2CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-QUYVBRFLSA-N 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N copper(i) cyanide Chemical compound [Cu+].N#[C-] DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008121 dextrose Substances 0.000 description 1
- SMVRDGHCVNAOIN-UHFFFAOYSA-L disodium;1-dodecoxydodecane;sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O.CCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCC SMVRDGHCVNAOIN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004318 erythorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- UNYWISZSMFIKJI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)CC=C UNYWISZSMFIKJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- SOUHUMACVWVDME-UHFFFAOYSA-N safranin O Chemical compound [Cl-].C12=CC(N)=CC=C2N=C2C=CC(N)=CC2=[N+]1C1=CC=CC=C1 SOUHUMACVWVDME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- YSJZWXFVNXMVCR-UHFFFAOYSA-M sodium;3-chlorobut-2-ene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CC(Cl)=CCS([O-])(=O)=O YSJZWXFVNXMVCR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfinate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XUIVKWAWICCWIQ-UHFFFAOYSA-M sodium;formaldehyde;hydrogen sulfite Chemical compound [Na+].O=C.OS([O-])=O XUIVKWAWICCWIQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N sulfamide Chemical compound NS(N)(=O)=O NVBFHJWHLNUMCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K trisodium;naphthalene-1,3,6-trisulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C21 NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
- C25D3/14—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Den foreliggende oppfinnelse går ut på forbedrede fremgangsmåter og badsammensetninger til fremstilling av galvaniske utfellinger ay jernlegeringer med nikkel eller nikkel og kobolt. Nærmere bestemt går oppfinnelsen ut på bruk av en ny tilsetning til forbedring av galvanisk plettering med jernholdige legeringer av nikkel eller nikkel og kobolt.
Som følge av at jern og jernsalter er meget billigere enn nikkel og kobolt;og disses salter, vil det være meget ønskelig galvanisk å kunne utfelle legeringer av nikkel eller nikkel og kobolt med jern hvor jerhinhholdet er betydelig, for på denne måte å redusere material-kostnadene. Det er funnet at av de to vanlige former for jern med
2+ 3+
forskjellig verdighet, nærmere bestemt Fe og Fe , er ferroformen (Fe 2+) den beste ved plettering med disse legeringer, skjønt badene i alminnelighet kan tåle lave konsentrasjoner av treverdig jern. Pro-blemet med plettering med disse jernlegeringer har imidlertid vært at Fe^+, som følge av at det foreligger i for høye konsentrasjoner som kan oppstå ved luftoksydasjon eller anodisk oksydasjon av Fe 2+, er tilbøyelig til å utfellés som basiske salter som ikke bare i ønsket stor grad er tilbøyelige til å tilstoppe anodeposer og filtre, men også samutfelles slik at utfellingene blir utilfredsstillende. Slike utfellinger kan oppvise uklarheter eller lokalt matte områder, spesielt på "hylle"-områder, og hvis konsentrasjonen av suspendert basisk ferrisalt er usedvanlig høy, kan der fås en generell dannelse av små forhøyninger (micro-mourid formation) som ofte betegnes som "appelsinskall<0>. Dette problem med utfelling av basiske ferrlsalter har derfor hittil gjort det meget vanskelig å beherske en industriell galvanisk utfelling av legeringer av jern méd nikkel eller med nikkel.og kobolt.
For å overvinne de problemer som er knyttet til dannelsen av basiske ferrisaltutfellinger, kan man gå to veier. Den ene går ut på å anvende et reduserende middel som forsøker å beholde hovedsakelig alt jernet som Fe 2+. Skjønt der foreligger slike reduksjonsmidler, er de fleste tilbøyelige til å være ustabile, danne skadelige reduksjons-produkter eller ugunstig påvirke egenskapene av de galvanisk utfelte belegg eller den generelle styring med og ytelse av badet.
En annen måte ville være å innlemme i pletteringsbadet en tilsetning som vil gjøre Fe 3+ oppløselig ved kompleksdannende eller chelatdannende virkning. For å kunne benyttes i praksis, vil en slik tilsetning måtte ha følgende egenskaper: 1. Den må være relativt stabil mot elektrolyse, dvs. mot reduserende (katode) og oksyderende (anode) betingelser. 2. Den må være forenlig med andre tilsetninger som anvendes hver for seg eller i kombinasjon som kornforfinende tilsats eller
glanstilsats, dvs. at den ikke ugunstig må påvirke ytelsen av disse øvrige tilsetninger. 3. Den må være relativt billig og ikke kritisk med hensyn til tillatte konsentrasjonsgrenser. 4. Den må tåle temmelig store fluktuasjoner i konsentrasjonen av Fe i badet.
Der finnes noen kompleksdannende forbindelser som kan ha enkelte av de ovennevnte egenskaper, men man finner vanligvis at de mangler de øvrige egenskaper.
Det er en hensikt med den foreliggende oppfinnelse å forbedre galvaniske utfellinger av legeringer av nikkel og jern og av nikkel, kobolt og jern. En spesiell hensikt med oppfinnelsen er å skaffe fremgangsmåter og pletteringsbad til fremstilling av skikkelige galvaniske utfellinger som inneholder jern og nikkel eller jern, nikkel og kobolt, i et vidt konsentrasjonsområde for tilsetningene uten vesentlig utfelling av basiske ferrisalter. Samtidig tillater oppfinnelsen plettering av nikkel og/eller kobolt med et meget lavt jerninnhold (stort sett godt under 1 vektprosent, f.eks. 0,025%) i den galvaniske utfelling som følgé av jernforurensninger i badet.
Et foretrukket område for jerninnholdet er 1-70% og et meget foretrukket område er 5-50% jern i utfellingen.
Det er oppdaget at monosakkarider, oligosakkarider og polysakkarider har ønskelige egenskaper, idet de kan oksyderes og har kompleksdannende virkning på treverdig jern.
Den foreliggende oppfinnelse går således ut på en fremgangsmåte til fremstilling av en galvanisk utfelling som inneholder nikkel og/eller kobolt, og som også inneholder jern, omfattende å føre strøm fra en anode til en katode gjennom en vandig, sur pletteringsopp-løsning inneholdende nikkel-, kobolt- og/eller jernforbindelser som skaffer kobolt-, nikkel- og jernioner til galvanisk utfelling av
kobolt, nikkel og legeringer herav og også jernlegeringer av kobolt og/eller nikkel,karakterisert vedat der i oppløsningen foreligger
minst en virksom mengde borsyre og minst en forbindelse fra gruppen monosakkarider, oligosakkarider og vannhydrolyserbare polysakkarider
i en konsentrasjon alene eller i kombinasjon på 2-100 g/l og i en prlode som er tilstrekkelig til dannelse av en skikkelig galvanisk metallutfelling på katodeoverflaten. Sakkaridene reduserer det
uønskede treverdige jern til toverdig jern og hindrer også oksydasjon av toverdig jern til treverdig jern. Denne reduksjonsevne skyldes stort sett nærværet av aldehyd- eller keto-grupper i disse sakkarider.
3+ Videre danner sakkaridene sammen med Fe sterke komplekser som for-blir i oppløsning.
Typiske eksempler på de nevnte sakkarider er:
Monosakkarider;
Glukose, fruktose, xylose, arabinose, mannose, erytrose, glyceraldehyd etc.
Ollgosakkarider:
Maltose, cellobiose, gentiobiose etc.
Polysakkarider;
Laktos©, stivelse, cellulose.
Badene kan inneholde en effektiv mengde av en eller flere av
de følgende tilsetninger:
a) primær glanstilsats
b) sekundær glanstilsats
c) sekundær hjelpeglanstilsats, og"V
d) antigropdannende middel.
De underlag som de nikkel-, kobolt-, nikkel/kobolt-, nikkel/
jern- eller nikkel/kobolt/jern-holdige galvaniske utfellinger ifølge den foreliggende oppfinnelse kan påføres på, kan være av metall eller
metall-legeringer av den art som vanligvis forsynes med galvaniske utfellinger og benyttes i faget, f.eks. nikkel, kobolt, nikkel/kobolt, kobber, tinn, messing etc. Andre typiske underlagsaretaller som gjen-stander som skal pletteres, fremstilles fra, omfatter jernholdige metaller, f.eks. stål, kobber, tinn og tinnlegeringer, f.eks. med bly, legeringer av kobber, f.eks. messing, bronse etc, og zink, spesielt 1 form av støpestykker av zink, og alle disse metaller kan bære pletterté skikt av andre metaller, f.eks. kobber. Gruhnmetall-
, underlagene kan være gitt en rekke overflatebehandlinger avhengig av det endelige Utseende som ønskes, som i sin tur er avhengig av slike faktorer som glans,, skinn, utjevning, tykkelse etc. av den galvaniske kobolt-, nikkel- eller jernholdige utfelling som påføres underlagene. Uttrykket "primær glans tilsats ** slik det anvendes i denne fremstilling, er ment å skulle innbefatte slike pletteringstilsatser som f.eks. reaksjonsproduktene av epoksyder med a-hydroksy-acetylenalko-holer som f.eks. dietoksylert 2-butyn-l,4-diol eller dipropoksylert 2-butyn-l,4-diol, andre acetylenforbindelser, M-heterocykliske forbindelser, aktive svovelforbindelser, fargestoffer etc. Spesielle eksempler på slike pletteringstilsetninger er: 1,4-di-{B-hydroksyetoksy)-2-butyn
1,4-di-(Ø-hydroksy-Y-klorpropoksy)-2-butyn
1,4-di-(B~y-epoksypropoksy)-2-butyn
■ ■ ■ o • •
1,4-di-'( ø-hydroksy-Y-butenoksy) -2-butyn
1,4-di-(2 *-hydroksy-4'-oksa-6 *-heptenoksy)-2-butyn
N-l, 2-diklprpropenyl-pyridiniuxaklor id
2 , 4,6-trimetyl-EJ-propargyl-pyridiniumbromid
N-ally1-kinaldiniumbromid
2-butyn-l,4-diol
propargylalkohol
2^metyl-3-butyn-2~ol
tiodiproprionitril
tiourea fenosafranin
fuksin
Når den anvendes alene eller i kombinasjon, kan en primær glanstilsats gi ingen synlig virkning på den galvaniske utfelling.
eller den kan gl finkornede utfellinger med halvglans. De beste
resultater oppnås imidlertid når primære glanstilsatser anvendes sammen med enten en sekundær glanstilsats, én sekundær njelpeglans-tiisats eller begge deler for å skaffe optimal utfellingsglans, blankhetsgrad, utjevning, strømtetthetsområde for blankpléttering, dekning ved lav strømtetthet etc.
Uttrykket "sekundær glanstilsats" slik det anvendes i den foreliggende 'fremstilling, menes å skulle innbefatte aromatiske sulfonater, sulfonamider, sulfonimider, sulfinater etc. Spesielle eksempler på slike pletteringstilsatser er:
1. Sakkarin
2. Trinatrlum-l,3,6-naftalen-trisulfonat
3. Hatriumbenzén-monosulfonat
4. Dibenzen-sulfonamld
5. Natriumbénzen-monosulfinat.
Slike pletteringstilsatser, som kan anvendes alene eller i egnede kombinasjoner, har en eller flere av de følgende funksjoner: 1. Å skaffe halvblanke utfellinger eller gi en vesentlig korn-forfining i forhold til de vanligvis glansløse, matte, korn-formede, ikke-reflekterende utfellinger som fås fra til-setningsfrie bad. 2. Å tjene som duktiliseringsmidler når de anvendes sammen med andre tilsetninger som f.eks. primære glanstllsatser. 3. Å beherske indre spenninger i utfellingene stort sett ved at spenningene gjøres til ønskede trykkspenninger. 4. Å innføre regulerte svovelmengder i de galvaniske utfellinger for i ønsket grad å påvirke den kjemiske reaktivitet, potensi>-alforskjeller i sammensatte beleggsystemer etc. for på denne måte å redusere korrosjonen og bedre beskytte gruiuimetallet mot korrosjon etc.
Uttrykket "sekundær hjelpeglanstilsats" slik det anvendes i fremstillingen, er ment å skulle innbefatte alifatisk© eller aromatisk-aiifatiské alken- eller acétylenumettede sulfonater, sulfonamider eller sulfonimider etc. Spesielle eksempler på slike plétterings-r ,tilsetninger er:
1. Katriumallylsulfonat
2. Natrium-3-klor-2-buten-l-sulfonat
3. Natrium-e-styren-sulfonat
<,irø—■ arwntstravl — «til fnnaf 5. Monoallyl-sulfamid (H2H-S02-NH-CH2-CH==CH2)
6. Diallylsulfamid
7. Allylsulfonamid.
Slike forbindelser, som kan anvendes alene (vanligvis) eller i kombinasjon, har alle de virkninger som er angitt for de sekundære glanstllsatser, og kan dessuten ha en eller flere av de følgende funksjoner: 1. De kan tjene til å hindre eller redusere gropdannelse (sann-synligvis ved å virke som hydrogenakseptorer). 2. De kan samvirke med en eller flere sekundære glanstllsatser og en eller flere primære glanstllsatser for å gi meget bedre glansnivå og utjevning enn hva som ville kunne oppnås med én og Sh eller to og to av hvilke som helst forbindelser valgt fra følgende tre klasser:
(1) primære glanstllsatser
(2) sekundære glanstllsatser og
(3) sekundære hjelpeglanstilsatser.
3. De kan påvirke katodeoverflaten ved katalytisk forgiftning f.eks. slik at forbrukshastigheten av samvirkende tilsetninger (vanligvis av primær glanstilsats) kan reduseres vesentlig, slik at driften blir mere økonomisk og bedre kan beherskes.
Blant de sekundære hjelpeglanstilsatser kan man også innlemme ioner eller forbindelser av visse metaller og halvmetaller som f.eks. zink, kadmium, selen etc. som, skjønt de for tiden vanligvis ikke anvendes, tidligere har vært benyttet for å øke glansen av utfellingen
etc. Andre samvirkende tilsetninger av organisk art som kan være nyttige, er de hydroksy-sulfonatforbindelser som er beskrevet i
US-PS 3 697 391, dvs. som et typisk eksempel natriumformaldehyd-bisulfitt, hvis funksjon er å gjøre badene bedre istand til å tåle konsentrasjoner av primære glanstllsatser, øke toleransen overfor metalliske forurensninger som f.eks. zink, etc.
Uttrykket "antigropdannende middel" slik det anvendes i den foreliggende fremstilling, er ment å skulle innbefatte et materiale (som er forskjellig fra og kommer i tillegg til den sekundære hjelpeglanstilsats) som tjener til å hindre eller redusere gassgropdahnelse.
£t antigropdannende middel kan også tjene til å gjøre badene mere for-enlige' med forurensninger som f.eks. olje, fett etc. ved en emulger-ende, dispergerende eller oppløsende virkning på slike forurensninger og derved fremme oppnåelsen av gode galvaniske utfellinger. Antigropdannende midler er valgfrie tilsetninger som eventuelt kan anvendes i kombinasjon med en primær glanstilsats, en sekundær glanstilsats og/eller en sekundær hjelpeglanstilsats. Foretrukne antigropdannende midler er natriumlaurylsulfat, natriumlauryletersulfat og natriumalkylsulf osuksinater.
Typiske nikkel-holdige, kobolt-holdige og nikkel/kobolt-holdige badsammensetninger som kan anvendes 1 kombinasjon med effektive mengder på ca. 2-100 g/l av monosakkaridene, oligosakkaridene og poly-sakkaridene, og effektive mengder på ca. 0,005-0,2 g/l primær glanstilsats, ca. 1,0-30 g/l sekundær glanstilsats, ca. 0,5-10 g/l sekundær hjelpeglanstilsats og ca. 0,05-1 g/l antigropdannende midler av den i beskrivelsen angitte art, er angitt i det etterfølgende.
Typiske vandige, nikkelholdige, galvaniske pletteringsbad (som kan anvendes i kombinasjon med effektive mengder samvirkende tilsetninger) innbefatter følgende bad hvor alle konsentrasjoner er i g/l med mindre noe annet er angitt.
' ■ .
Vandige nikkelholdige galvaniske pletteringsbad
Forholdet mellom nikkelioner og jernloner i dette bad ligger i området 1:1 - 50:1.
Et typisk hikkelpletterlngsbad av sul feisa ttypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler: Forholdet mellom nikkelloner og jemioner i dette bad ligger i området 1:1 50:1.
Et typisk kloridfritt nikkelpietteringsbad av sulfattypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler:
Et typisk klpridfritt nikkelpietteringsbad av sulfamattypen som kan anvendes ved utførelse av den foreliggende oppfinnelse, kan inneholde følgende bestanddeler:
Forholdet mellom nikkelloner og jemioner i det foregående bad ligger i området 1:1-50:1.
pet vil vare klart at de ovennevnte bad kan inneholde forbindelser i mengder som ligger utenfor det område som defineres av
de angitte foretrukne minimums- og maksimumsverdier, men at den mest tilfredsstillende og økonomiske drift vanligvis oppnås når forbind-elsene er tilstede i badene i de angitte mengder. En spesiell fordel
ved de kloridfrie bad Ifølge de ovennevnte tabeller III og IV er at de galvaniske utfellinger som oppnås, kan være hovedsakelig frie for strekkspenninger og kan tillate meget hurtig plettering under anvendelse av hurtigvirkende anoder.
I det følgende er der angitt vandige kobolt-holdlge og kobolt/nikkel-holdige galvaniske pletteringsbad, hvor kombinasjonen av effektive, mengder av en eller flere samvirkende tilsetninger i henhold til den foreliggende oppfinnelse vil gi gunstige virkninger.
Vandige koboltholdige og kobolt/nikkel-holdige
galvaniske pletterlngsbad
VIKoboltbad VII Koboltbad med høyt kloridinnhold VI11 Kot>olt/ nikkel- legerlngs- bad IX Koboltbad med bare klorid x Sulfamat/ kobolt- bad
Forholdet mellom nikkelloner og jernioner i de foregående bad ligger i området 1*1 - 50:1.
Foretrukne kobolt-holdige badsammensetninger kan inneholde minst ca. 30 g/l eoC<l>2<*>6H20, og typisk 20-50 g/l CoCl2<*>6<H>2<0.>Andre forbindelser som inneholder et kation som er forenlig med badet (dvs. et kation som ikke forstyrrer driften av badet), og som vil skaffe minst 7,5 g/1 klorioner, Cl" (og fortrinnsvis minst ca. 9 g/l Cl"), kan også anvendes.
pH-verdien av alle de foregående, belysende vandige sammen-setninger som inneholder nikkel, kobolt, nikkel og kobolt, resp. nikkel, kobolt og jern, kan under pletterlngen holdes på 2,5-5,0 og
fortrinnsvis 3,0-4,0. Under driften av badet er pH-verdien vanligvis tilbøyelig til å stige og kan reguleres ved hjelp av syrer som f.eks. saltsyre eller svovelsyre etc.
Arbeidstemperaturene for de ovennevnte bad kan ligge på mellom 30 og 70°C med foretrukne temperaturer i området fra 45 til 65°C. Omrøring av de ovennevnte bad under pletterlngen kan bestå av pumping av oppløsningen, bevegelse av katodestenger, luftomrøring eller kombinasjoner av disse metoder. For anvendelser som innbefatter utfelling av legeringer som inneholder jern, fra bad hvor jernet over-veiende foreligger i toverdig form, foretrekkes det å anvende meget svak omrøring, dvs. ved bevegelse av katodestenger, for å holde luft-oksydasjonen av toverdig jern til treverdig jern så lav som mulig.
For plettering av binære eller ternære legeringer som nikkel/ kobolt, nikkel/jern eller nikkel/kobolt/jern kan anodene bestå av de respektive separate metaller opphengt på egnet måte i badet som stenger, strimler eller små biter i titankurver. I slike tilfeller innstilles forholdet mellom anodeoverflatené av de forskjellige metaller i overensstemmelse med den spesielle legeringssammensetning som ønskes ved katoden. For plettering med binære eller ternære legeringer kan der også som anoder anvendes legeringer av de respektive metaller i et vektforhold mellom metallene svarende til det prosentvise vektforhold mellom de samme metaller i den Ønskede galvanisk utfelte legering på katoden. Disse to typer av anodesystemer vil vanligvis gi en stort sett konstant ionekonsentrasjon av de respektive metaller i badet. Hvis der med anoder av legeringer med fast forhold mellom metallene skulle forekomme en viss ubalanse mellom metallionene i badet, kan der fra tid til annen utføres justeringer ved tilsetning av egnede korrigerende konsentrasjoner av de individuelle metallsalter. Alle anoder eller anodekurver er vanligvis dekket på egnet måte med stoff- eller plastposer av ønsket porøsitet for å redusere til et minimum tilførselen til badet av metallpartikler, anodeslim etc. som kan vandre til katoden enten mekanisk eller elektroforetisk og gi ru-net i den galvaniske utfelling på katoden.
Dé følgende eksempler er angitt til belysning av oppfinnelsen.
Eksempel 1
Et galvanisk pletterlngsbad for nikkel og.jern ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler 1 vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
En polert messingplate ble oppskrapt (scribed) ved en eneste horisontal passasje av smergelpapir med 20/0-korn for å gi et ca. 1 cm bredt bånd i en avstand på ca. 2,5 cm fra den nedre kant av platen. Etter rensing av platen, herunder bruk av et tynt kobbercyanidstrøk for å sikre fremragende fysisk og kjemisk renhet, ble platen plettert i en 267' ml-'s Hull-celle ved en cellestrøm på 2 A i 10 min og en temperatur på 50 C under anvendelse av magnetisk omrøring, ben resulterende utfelling var jevnt finkornet, godt utjevnet, hadde et glans-fullt utseende og oppviste fremragende duktilitet og god dekning i områder med lav strømtetthet.
Eksempel 2
Eksempel 1 ble gjentatt under anvendelse av 40 g/l sukrose, som er et di-sakkarid, istedenfor fruktose, men med de samme resultater.
Eksempel 3
Eksempel 1 ble gjentatt under anvendelse av 40 g/l glukose, som er et monosakkarid, istedenfor fruktose, men med samme resultater.
Eksempel 4
Eksempel 1 ble gjentatt under anvendelse av 20 g/l laktose, som er et di-sakkarid. Istedenfor fruktose, men med de samme resultater.
Eksempel 5
En galvanisk nikkel/jern-badsammensetning ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
Den resulterende utfelling var blank, relativt godt utjevnet og duktil.
Eksempel 6
Et galvanisk pletterlngsbad av nikkel og jern ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
Badet ble filtrert og underkastet en Hull-celleprøve. Utfellingen var blank og jevn, men duktiliteten var dårlig.
Eksempel 7
Et galvanisk pletterlngsbad av nikkel og jern ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
Den resulterende utfelling var blank, duktil og brukbart jevn.
Eksempel 8
En galvanisk badsammensetning inneholdende nikkel og jern ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
Den resulterende utfelling var blank, godt utjevnet<p>g duktil.
Eksempel 9
Eksempel 8 ble gjentatt, men mengden av FeS04*7H20 ble økt til 40 g/l. Den resulterende utfelling var blank og jevn, men hadde dårlig duktilitet.
Eksempel 10
Et galvanisk nikkel/jern-pletteringsbad ble fremstilt ved blanding av følgende bestanddeler i vann for å gi de angitte konsentrasjoner:
Den resulterende utfelling var relativt jevn, blank og duktil.
Eksempel 11
Eksempel 10 ble gjentatt under anvendelse av en blanding av 10 g/l glukose og 10 g/l erytorbinsyre istedenfor stivelse. Den resulterende utfelling var blank, relativt jevn og duktil.
Eksempel 12
Eksempel 10 ble gjentatt under anvendelse av en blanding av 10 g/l dekstrose og 10 g/l natriumglukonat istedenfor stivelse. Den resulterende utfelling var blank, duktil og godt utjevnet.
Eksempel 13
Eksempel 10 ble gjentatt'under anvendelse av én blanding av
10 g/l glukose og 10 g/l natriuiacitrat. Utfellingen var duktil, blank og godt utjevnet.
Claims (38)
1. Fremgangsmåte til fremstilling av en galvanisk utfelling som inneholder nikkel og/eller kobolt, og som også inneholder jern, omfattende å føre strøm fra en anode til en katode gjennom en vandig, sur pletteringsoppløsning som inneholder nikkel-, kobolt- og/eller jernforbindelser som skaffer ioner til utfelling av nikkel, kobolt,
en nikkel/kobolt-legering, en nikkel/jern-legering eller en nikkel/
kobolt/jem-legering, karakterisert ved at der i opp-løsningen foreligger minst Sn forbindelse fra gruppen monosakkarider, oligosakkarider og polysakkarider i en konsentrasjon alene eller i kombinasjon på 2-100 g/l.
2. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som nikkelforbindeIser anvendes nlkkelsulfat og nikkel
klorid.
3. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som nikkelforbindelser anvendes nikkelsulfamat og nikkelklorid.
4. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert v e d at der som koboltforbindelser anvendes koboltsulfat og koboltklorid.
5. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som koboltforbindelser anvendes koboltsulfamat og kobolt
klorid.
6. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som jernforbindelse anvendes férrosulfat eller ferroklorid.
7. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes glukose.
8. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes fruktose.
9. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes xylose.
10. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes arabinose.
11. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes mannose.
12. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes erytrose.
13. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som monosakkarid anvendes glyceraldehyd.
14. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som oligosakkarid anvendes maltose.
15. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som oligosakkarid anvendes cellobiose.
16. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karaktérisert ved at der som oligosakkarid anvendes gentiobiose.
17. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som polysakkarid anvendes laktose.
18. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som polysakkarid anvendes stivelse.
19. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at der som polysakkarid anvendes cellulose.
20. Vandig pletteringsoppløsnlng til utførelse av en fremgangsmåte som angitt i et av de foregående krav, inneholdende nikkel-, kobolt-og/eller jernforbindelser som skaffer ioner til utfelling av nikkel, kobolt, en nikkel/kobolt-legering, en nikkel/jern-legering eller en
nikkel/kobolt/jem-legering, karakterisert ved at oppløsningen inneholder borsyre og minst én forbindelse fra gruppen monosakkarider, oligosakkarider og polysakkarider i en konsentrasjon alene eller i kombinasjon på 10-50 g/l.
21. Plettéringsoppløsning som angitt i krav 20, karakterisert ved at nikkelforbindelsene er nikkelsulfat og nikkelklorid.
22. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at nikkelforbindelsene er nikkelsulfamat og nikkelklorid.
23. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at koboltforbindelsene er koboltsulfat og koboltklorid.
24. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at koboltforbindelsene er koboltsulfamat og koboltklorid.
25. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at jernforbindelsen er ferrosulfat eller ferroklorid.
26. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, k a rak te r 1 - sert ved at monosakkaridet er glukose.
27. Pletteringsoppløsnlng som angitt 1 krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er fruktose.
28. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er xylose.
29. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er arabinose.
30. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er mannose.
31. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er erytrose.
32. ; Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at monosakkaridet er glyceraldehyd.
33. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at oligosakkaridet er maltose.
34. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at oligosakkaridet er cellobiose.
35. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at oligosakkaridet er gentiobiose.
36. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at polysakkaridet er laktose.
37. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert ved at polysakkaridet er stivelse.
38. Pletteringsoppløsnlng som angitt i krav 20, karakterisert v ,e d at polysakkaridet er cellulose.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US57811075A | 1975-05-16 | 1975-05-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO761680L true NO761680L (no) | 1976-11-17 |
Family
ID=24311489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO761680A NO761680L (no) | 1975-05-16 | 1976-05-14 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS51140842A (no) |
AU (1) | AU498882B2 (no) |
BE (1) | BE841707A (no) |
BR (1) | BR7603041A (no) |
DE (1) | DE2620963A1 (no) |
ES (1) | ES447771A1 (no) |
FR (1) | FR2311110A1 (no) |
GB (1) | GB1503885A (no) |
IT (1) | IT1069754B (no) |
NL (1) | NL7605210A (no) |
NO (1) | NO761680L (no) |
SE (1) | SE7605289L (no) |
ZA (1) | ZA762380B (no) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54132661A (en) * | 1978-04-07 | 1979-10-15 | Hitachi Ltd | Transfer molding of thermosetting resin |
US4179343A (en) * | 1979-02-12 | 1979-12-18 | Oxy Metal Industries Corporation | Electroplating bath and process for producing bright, high-leveling nickel iron electrodeposits |
JPS5620179A (en) * | 1979-07-26 | 1981-02-25 | Showa Denko Kk | Preparation of cathode for electrolysis of aqueous solution of alkali metal halogenide |
DE3909811A1 (de) * | 1989-03-24 | 1990-09-27 | Lpw Chemie Gmbh | Verwendung von zumindest einer organischen sulfinsaeure und/oder von zumindest einem alkalisalz einer organischen sulfinsaeure als mittel ... |
FR2708002A1 (fr) * | 1993-07-23 | 1995-01-27 | Assoun Christian Daniel | Procédé de préparation de complexes organométalliques et leurs applications en tant que médicament et en catalyse chimique. |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD4525A (no) * | ||||
DE97580C (no) * | ||||
US2406072A (en) * | 1941-02-15 | 1946-08-20 | Univ Ohio State Res Found | Electrodeposition of metals and bath composition therefor |
US2615837A (en) * | 1947-11-20 | 1952-10-28 | Wyandotte Chemicals Corp | Electroplating bath and process |
FR2029120A5 (no) * | 1969-01-10 | 1970-10-16 | Commissariat Energie Atomique | |
US3669853A (en) * | 1969-07-15 | 1972-06-13 | Chemetron Corp | Coumarin-carrier addition agent for nickel baths |
-
1976
- 1976-04-21 ZA ZA762380A patent/ZA762380B/xx unknown
- 1976-05-10 SE SE7605289A patent/SE7605289L/ not_active Application Discontinuation
- 1976-05-11 BE BE166935A patent/BE841707A/xx unknown
- 1976-05-11 ES ES447771A patent/ES447771A1/es not_active Expired
- 1976-05-11 FR FR7614075A patent/FR2311110A1/fr active Granted
- 1976-05-12 DE DE19762620963 patent/DE2620963A1/de not_active Withdrawn
- 1976-05-13 IT IT09447/76A patent/IT1069754B/it active
- 1976-05-13 GB GB19634/76A patent/GB1503885A/en not_active Expired
- 1976-05-14 NL NL7605210A patent/NL7605210A/xx not_active Application Discontinuation
- 1976-05-14 AU AU14038/76A patent/AU498882B2/en not_active Expired
- 1976-05-14 NO NO761680A patent/NO761680L/no unknown
- 1976-05-14 BR BR7603041A patent/BR7603041A/pt unknown
- 1976-05-17 JP JP51056400A patent/JPS51140842A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1503885A (en) | 1978-03-15 |
JPS51140842A (en) | 1976-12-04 |
AU498882B2 (en) | 1979-03-29 |
ZA762380B (en) | 1977-04-27 |
IT1069754B (it) | 1985-03-25 |
ES447771A1 (es) | 1977-06-16 |
BR7603041A (pt) | 1977-06-07 |
FR2311110B1 (no) | 1980-11-07 |
SE7605289L (sv) | 1976-11-17 |
BE841707A (fr) | 1976-09-01 |
FR2311110A1 (fr) | 1976-12-10 |
DE2620963A1 (de) | 1976-11-25 |
NL7605210A (nl) | 1976-11-18 |
AU1403876A (en) | 1977-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0358375B1 (en) | Platinum or platinum alloy plating bath | |
US4033835A (en) | Tin-nickel plating bath | |
US3804726A (en) | Electroplating processes and compositions | |
CA1149323A (en) | Electroplating bath and process for producing bright, high-leveling nickel iron electrodeposits | |
US3697391A (en) | Electroplating processes and compositions | |
US2693444A (en) | Electrodeposition of chromium and alloys thereof | |
US5415763A (en) | Methods and electrolyte compositions for electrodepositing chromium coatings | |
US4014759A (en) | Electroplating iron alloys containing nickel, cobalt or nickel and cobalt | |
CA1058553A (en) | Electrodeposition of alloys of nickel, cobalt, or nickel and cobalt with iron | |
NO781938L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en galvanisk utfelling og pletteringsopploesning til utfoerelse av fremgangsmaaten. | |
US4129482A (en) | Electroplating iron group metal alloys | |
NO761680L (no) | ||
US3892638A (en) | Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys | |
US3881919A (en) | Ternary alloys | |
NO137760B (no) | Fremgangsm}te til fremstilling av en galvanisk utfelling av en jernlegering som inneholder nikkel eller nikkel og kobolt, og vandig pletteringsoppl¦sning for utf¦relse av fremgangsm}ten. | |
US4101388A (en) | Prevention of anode bag clogging in nickel iron plating | |
US4673471A (en) | Method of electrodepositing a chromium alloy deposit | |
NO784204L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av blanke elektrolytiske zinkutfellinger og vandig, surt pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
US3969399A (en) | Electroplating processes and compositions | |
NO147995B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av en elektrolytisk utfelling og pletteringsopploesning for utfoerelse av fremgangsmaaten | |
US4069112A (en) | Electroplating of nickel, cobalt, mutual alloys thereof or ternary alloys thereof with iron | |
WO2005078163A1 (en) | Ternary and quaternary alloys to replace chromium | |
US4183789A (en) | Anode bag benefaction | |
CA1050471A (en) | Electroplating of rhodium-ruthenium alloys | |
US4470886A (en) | Gold alloy electroplating bath and process |