NO141848B - Fremgangsmaate til fremstilling av kornet kvartsglass - Google Patents
Fremgangsmaate til fremstilling av kornet kvartsglass Download PDFInfo
- Publication number
- NO141848B NO141848B NO764323A NO764323A NO141848B NO 141848 B NO141848 B NO 141848B NO 764323 A NO764323 A NO 764323A NO 764323 A NO764323 A NO 764323A NO 141848 B NO141848 B NO 141848B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- silicic acid
- temperatures
- gel
- quartz glass
- water
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 240000008042 Zea mays Species 0.000 title 1
- 235000005824 Zea mays ssp. parviglumis Nutrition 0.000 title 1
- 235000002017 Zea mays subsp mays Nutrition 0.000 title 1
- 235000005822 corn Nutrition 0.000 title 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 63
- 239000000499 gel Substances 0.000 claims description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical class O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 19
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 16
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 14
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 14
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 12
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims description 12
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims description 12
- -1 aliphatic alcohols Chemical class 0.000 claims description 9
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical class [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N formic acid Substances OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000011034 rock crystal Substances 0.000 description 3
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical class [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 2
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Chemical class 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical class [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000519 Ferrosilicon Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical class [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical class [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 1
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 125000005624 silicic acid group Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1005—Forming solid beads
- C03B19/106—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
- C03B19/1065—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction by liquid phase reactions, e.g. by means of a gel phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/26—Wet processes, e.g. sol-gel process using alkoxides
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/06—Glass electrode
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/08—Quartz
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S65/00—Glass manufacturing
- Y10S65/901—Liquid phase reaction process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Description
Oppfinnelsens gjenstand er en fremgangsmåte til fremstilling av kornet kvartsglass ved termisk behandling av kiselgeler fremstilt på hydrolytisk måte av ortokiselsyreestere av alifatiske alkoholer.
Der er kjent å fremstille kvartsglass ved smelting
av i naturen forekommende bergkrystall. Da bergkrystallen som naturprodukt inneholder forurensninger, som f.eks. jern-, titan-, aluminium-, kalsium-, magnesium-, alkaliforbindelser må den spesielt når den skal anvendes for optiske formål renses. Selv de såkalte høyrene bergkrystalltyper er ikke uten videre omstendelige rensningsfremgangsmåter anvendbart som utgangsprodukt til fremstilling av smeltet kvartsglass. Selv mindre forurensninger som f.eks. ved jern, titan, og andre metaller i mengder på noen ppm påvirker transparenten for ultrafiolett stråling. Forstyrrende er også hydroksylgruppeinnholdet som bevirker en absorbsjon i infrarød.
Det ble derfor allerede tidlig forsøkt å fremstille
kvartsglass på syntetisk måte.
Det ble forsøkt å smelte kvartsglass av utfelt kiselsyregel. Derved får man imidlertid smelter som er blæret.
For unngåelse av blæredannelse foreslås i tysk patent nr. 1.596.473 å behandle kiselsyre med siliciumtetraklorid ved forhøyet temperatur og således å fjerne restvannet som fører til blæredannelse. Denne kjente fremgangsmåte er omstendelig og kom-plisert. På grunn av anvendelsen av siliciumtetraklorid er det av omgivelses- og korrosjonsgrunner nødvendig med spesielt kon-struerte innretninger. Spesielt uheldig er det også at de utfelte kiselsyrer ikke er fremstillbare i de nødvendige store renheter.
Det er også allerede foreslått å fremstille høyrent kiselsyregel av tetraoksysilan, og å omdanne dette ved sintrering ved 650 til 750°C i siliciumdioksyd. (Chem.Ind., UdSSR, 1969,
nr. 6, side 47 (447)-49(449). Et slikt produkt skal kunne smeltes til blærefritt kvartsglass. Ulempen ved denne kjente fremgangsmåte består på den ene side i den omstendelige rensing av esteren og på den annen side det lille utbytte av kiselsyregel ved det store varmeoverskudd, og de lange geleringstider. Da tetraoksysilan fremstilles av siliciumtetraklorid er det forurenset av forskjellige elementer i form av klorider. Det foreslås derfor i denne publi-kasjon å forrense esteren ved kombinert behandling med chelat-dannende reagenser og aktivkull og å rense den deretter ved absorb-sjonsevnen av kiselsyren i sin dannelsestilstand ved partiell hydrolyse av esteren fullstendig. Estere omsettes deretter i surt medium til kiselsyresol, som bringes til géldannelse ved tilsetning av ammoniakkvann. Esterens hydrolyse gjennomføres med et 24
ganger overskudd av vann.
Det er også kjent å omsette siliciumtetraklorid med oksygen ved høyere temperaturer til siliciumdioksyd og å anvende det dannede siliciumdioksyd som utgangsprodukt til fremstilling av smeltet kvartsglass. Denne fremgangsmåte er imidlertid meget omstendelig og teknisk vanskelig å gjennomføre på grunn av dannel-sen av klor.
Til grunn for oppfinnelsen ligger den oppgave å til-veiebringe en fremgangsmåte som muliggjør fremstillingen av blærefritt, høyrent kvartsglass og som samtidig ikke mer har ulempene ved de hittil kjente fremgangsmåter.
Oppfinnelsen vedrører en fremgangsmåte til fremstilling av kornet kvartsglass ved hydrolysering av kiselsyreestere og etterfølgende sintring av de derved dannede kiselsyregeler, karakterisert ved at man blander høyrene klorionefrie ortokisel-syréestere av alifatiske alkoholer med 105 til 500 vekt% av den støkiometrisk nødvendige mengde av surgjort vann under omrøring bringer den dannede sol til géldannelse ved forhøyede temperaturer, fortrinnsvis = 100°C og tørker den derved dannede gel ved temperaturer inntil 300°C, deretter knuser og derpå sintrer ved trinnvis økede temperaturer inntil 14 00°C.
Fortrinnsvis anvendes ortokiselsyreestere av alifatiske alkoholer med 1 eller 2 C-atomer, eller tilsvarende polyalkylsilikater, fortrinnsvis tetrametylsilikat. Det anvendes fortrinnsvis 200 til 300 vekt% av den støkiometrisk nødvendige mengde surgjort vann. I den tørkede gel knuses fortrinnsvis til en korn-størrelse på 7 0-800 ym.
Ifølge oppfinnelsen anvender man porøse, kornede kiselgeler med alkoksygruppeinnhold på under 1 vekt%, fortrinnsvis 0,5 til 0,1 vekt%, og samlede forurensninger, spesielt klor-ioneinnhold på under 1 ppm, som sintres ved temperaturer stigende inntil 1400°C til kornet kvartsglass.
Ved gjennomføringen av fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen sintres fortrinnsvis slike porøse kiselgeler til korn-formet siliciumdioksydglass som er fremstilt således at man hydrolyserer ortokiselsyreestere av alifatiske alkoholer med 1 eller 2 C-atomer eller tilsvarende polyalkylsilikater, fortrinnsvis tetrametylsilikat ved hjelp av surgjort vann. Likeledes kan hydrolysen gjennomføres i nærvær av lettkokende alkoholer, hensiktsmessig slike alkoholer som ble frigjort ved hydrolysen, f.eks. for fremstilling av en lengere bestandig sol. Fortrinnsvis gjennom-føres hydrolysen imidlertid uten alkoholtilsetning.
For oppnåelse av en mest mulig fullstendig hydrolyse anvendes vannet (tilsvarende formel Si(OR)4 + 21^0 > s^-°2 + *R0H) i overskudd, fortrinnsvis i mengder på 105 til 500 vekt%, spesielt 200 til 300 vekt% av de støkiometrisk nødvendige mengder.
Hydrolyseblandingen omrøres til soldannelse. Deretter bringes den dannede sol til géldannelse ved forhøyede temperaturer, fortrinnsvis lik eller mindre enn 100°C, f.eks. 70 til 100°C og den dannede kiselsyregel tørkes ved temperaturer mellom 100 til ca. 300°C ved normaltrykk og knuses deretter. Den dannede kiselgel inneholder etter avsluttet tørking lik eller mindre enn 1 vekt% alkoksygruppe, fortrinnsvis mindre enn 0,5 til 0,1 vekt%. Kiselgelen som skal sintres bør hensiktsmessig foreligge i korn-størrelser fra 0 til 10.000 ym, fortrinnsvis fra 70 til 800 ym.
Ved geldannelsen og fortrinnsvis også ved den etter-følgende tørking av kiselgelen er det hensiktsmessig å anordne en beskyttelsesgass-sløring med en rekke inerte oksygenfrie gasser, fortrinnsvis rent nitrogen for å unngå Økologiske skader og eks-plosjonsfare .
Så snart det ved sammenføring av komponentene (orto-kiselsyreester + surgjort vann) har dannet seg en homogen oppløs-ning, gjennomføres geldannelsen og etterfølgende tørking uten videre omrøring.
Det har vist seg at det for formålet ifølge oppfinnelsen som utgangsstoffer spesielt egner seg slike ortokisel-syretetraalkylestere, som ikke ble fremstilt ved omsetning av siliciumtetraklorid med de tilsvarende alkoholer. En slik fremgangsmåte omtales i tysk patent nr. 1.793.222. Derved går man ut fra silicium eller ferrosilicium eller lignende, som omsettes i nærvær av et tilsvarende alkoholat med alkoholer ved forhøyede temperaturer. Det er hensiktsmessig å rense esteren ved destil-lering. Man får deretter en ester med et ioneinnhold mindre enn 1 ppm. Ved fremgangsmåten: ifølge oppfinnelsen gåes det fortrinnsvis ut fra disse høyrene estere, spesielt fra ortokiselsyre-tetrametylesteren.
Prinsippielt er det også mulig til hydrolysen å anvende ortokiselsyre-tetraalkylester, hvor alkylgruppene har 2 til 8 karbonatomer, eventuelt kan karbonkjeden være avbrutt ved ett eller flere oksygenatomer.
Eventuelt kan også de tilsvarende polyalkylsilikater
og av disse foretrukket polymetylsilikatet anvendes som utgangsprodukt for fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen. Fremstillingen av slike polyalkylsilikater kan f.eks. foregå således at man ved tilsetning av en understøkiometrisk vannmengde hydrolyserer partielt, hensiktsmessig avdestillerer den frigjorte alkohol (normaltrykk eller vakuum) og gå videre ifølge oppfinnelsen.
Ved fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen gjennomføres hydrolysen i surt medium. Det for hydrolysen anvendte surgjorte vann bør ha en pH-verdi mellom 2 og 5, fortrinnsvis ca. 3 og å være renest mulig. (Samlede forurensninger av ioner under 1 ppm).
Som syrer anvendes fortrinnsvis flyktige organiske syrer, fortrinnsvis maur- og eddiksyre eller deres blandinger.
De på ovennevnte måte fremstilte tørkede, kornede kiselgeler, som underkastes den termiske behandling inntil 1200°C, eventuelt inntil 1400°C er porøse og har spesifikke overflater,
målt ifølge BET, på ca. 400 - ca. 800, fortrinnsvis på 500 til 700 m<2>/g.
Det har vist seg hensiktsmessig å la solen gel-danne, f.eks. i en flat skål ved temperaturer som er høyere enn den av-spaltede alkohol, f.eks. 70 til 100°C, imidlertid ved temperaturer, hvor det avdamper minst mulig hydrolysevann under geleringspro-sessen. Dessuten bør temperaturen holdes så lav at det unngås en koking av reaksjonsblandingen. Deretter foregår tørkingen av gelen. Tørkingen foregår hensiktsmessig forsiktig, fortrinnsvis ved langsomt økende temperaturer, mellom 100 til ca. 300°C. Tørkingen gjennomføres så lenge inntil kiselgelen har oppnådd en risledyktig tilstand.
Under tørking og géldannelse føres hensiktsmessig
en ren, tørr beskyttelsesgass, fortrinnsvis en oksygenfri beskyttelsesgass, spesielt nitrogen, over kiselgelen som skal tørkes.
Det er hensiktsmessig å oppvarme beskyttelsesgassen før overføringen.
Den etter tørkingen foreliggende gel kan før sintringen knuses til ønsket kornstørrelse. Prinsippielt kan knusingen foregå på mekanisk måte, f.eks. ved maling eller lignende. Herved består imidlertid den fare at malegodset forurenses. Det ble funnet at man kan nedsette disse vanskeligheter når man behandler de tørkede geler med vann (værelsestemperatur, normaltrykk, samlede forurensninger av ioner under 1 ppm). De grovkornede geler springer ved behandling méd vann. Bare det gjenblivende for grove korn behøver deretter mekanisk å bringes til den ønskede kornstørrelse. Ved denne fremgangsmåte nedsettes faren for forurensning.
På grunn av deres store renhet og deres lille alkoksygruppeinnhold har slike geler vist seg spesielt egnet til fremstilling av kvartsglasskorninger, som kan oppsmeltes til blærefritt kvartsglass.
Alt etter vannmengden som anvendes for hydrolysen er det 1 mange tilfeller hensiktsmessig å behandle det ved temperaturer inntil ca. 200°C tørkede kiselgel i kort tid termisk, fortrinnsvis ved temperaturer mellom 200 til 400°C, spesielt ved ca. 300°C.
Ved den termiske behandling som følger tørkingen må
det påses at temperaturøkningen ikke foregår for hurtig til den egentlige sintertemperatur (ca. 1000 til 1400°C).
I en foretrukket utførelsesform av fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen foreslås derfor å gjennomføre den termiske behandling ved trinnvis økende temperaturer. Derved går man eksempelvis frem således at man bringer den ved temperaturer inntil 200°C tørkede kiselgel resp. den eventuelt ved temperaturer fra 200 til 400°C ettertørkede kiselgel langsomt, f.eks. innen et
tidsrom fra 2 til 5 timer, til en temperatur mellom 500 til 800°C
og forsintret det ved denne temperatur så lenge at den etter-følgende sintring mellom 1100 til 1400°C oppstår en klar SiOj-glasskorning. Forsintringstiden er i det vesentlige avhengig av den anvendte kiselgels kornstørrelse. De optimale forsintrings-tider fastslås hensiktsmessig ved hjelp av forsøk. Etter avsluttet forsintring økes temperaturen til ca. 1000 til 1400°C, fortrinnsvis 12 00°C og godset hensettes ved denne temperatur så lenge inntil sintringen er avsluttet og de dannede kvartsglasskorninger lar seg oppsmelte til blærefritt kvartsglass.
Ved denne trinnvise gjennomførte termiske behandling, idet temperaturøkningen bør foregå langsomt til oppnåelse av eventuelle trinn, unngås at porene for tidlig lukker seg ved forsintringsprosessen, dvs. før de resterende ved den etterfølgende oppsmeltning til kvartsglass forstyrrende alkoksygrupper og hydrok-sylgrupper er fjernet mest mulig fra porene.
En knusing av de etter avsluttet sintring foreliggende kvartglasskorninger er vanligvis ikke nødvendig, før de oppsmeltes til kvartsglass. Eventuelt kan overflatesintrede partikler ad-skilles fra hverandre ved lett sammentrykning.
Sintringen foregår i elektriske eller gassoppvarmede ovner. Derved kan gelen som skal sintres befinne seg i ildfaste beholdere, fortrinnsvis i skåler eller kapsler av kvartsglass eller kvartsgods.
Sintringen kan prinsippielt også foregå ved store produksjoner i et indirekte oppvarmet eller ved brenngass stadig eller pulserende drevet flyte- eller virvelsjikt. Likeledes kan ettertørking og sintring gjennomføres i indirekte eller direkte oppvarmede dreietrommelovner. Også en kombinasjon av de nevnte fremgangsmåtetrinn fører til klart oppsmeltbare kvartsglasskorninger.
Også hydrolysen samt den etterfølgende géldannelse
og tørking til kiselsyregelen som skal sintres gjennomføres hensiktsmessig i kvartsglass- eller kvartsgodskar for at det skal unngås forurensninger ved fremmedmetaller og lignende.
Etter avsluttet sintring har kvartsglass-korningene hydroksylgruppeinnhold vanligvis på under 100 ppm og alkoksygruppeinnhold under den analytiske påvisningsgrense, dvs. er fri for alkoksygrupper.
På grunn av deres høye renhet for fremmedioner og på grunn av deres lille OH-ioneinnhold kan de ved fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen fremstilte kvartsglasskorninger smeltes til blærefritt kvartsglass. De resulterende kvartsglass kan anvendes for optiske anvendelser. De egner seg dessuten også for alle anvendelsesformål, hvor det forlanges høy renhet for fremmedioner, OH-ioner samt blærefritt, eksempelvis til fremstilling av smelte-digler eller rør, som anvendes til fremstilling av halvleder-monokrystaller etc.
Eksempel 1
Til 1 mol tetrametylsilikat (ca. 98 vekt%-ig, resten metanol) tilsettes under omrøring 108 ml vann (6 mol, 300% av den støkiometrisk nødvendige vannmengde, samlet ioneinnhold under 1 ppm). Vannet var på forhånd ved tilsetning av 0,02 ml 99-%-ig maursyre bragt til en pH-verdi på 3. Blandingen omrøres. Etter noen minutter oppvarmet blandingen seg og man fikk en homogen oppløsning. Denne oppløsning bringes i tørkeskap i en flat kvartsglasskål
under overføring av ren nitrogen til géldannelse ved 100°C. Geldannelsen er avsluttet etter 30 minutter. Gelen tørkes ca. 4 timer ved 180 til 200°C. Varmetilførselen reguleres således at etter 3\ time er temperaturen på 180°C oppnådd.
Den dannede gel overhelles med vann og befries deretter igjen ved 180 til 200°C for vedhengende vann. Den spesifikke overflate utgjorde 650 m 2/g, målt ifølge BET-metoden. Alkoksygruppeinnholdet er 0,2 vekt%. (Samlede forurensninger under 0,1 ppm).
Denne gel oppvarmes nå iløpet av 4 timer til 750°C
og hensettes deretter 8 timer ved denne temperatur. Deretter økes temperaturen iløpet av et tidsrom på ca. 2 timer til 1100°C. Ved denne temperatur hensettes gelen 8 timer. De dannede korninger lar seg oppsmelte til blærefritt kvartsglass.
Eksempel 2
Ved fremstilling av kiselsyregelen gåes det frem som angitt i Eks. 1. Den etter to timers tørking ved 3 00°C dannede gel oppvarmes i en elektrisk ovn langsomt til 1000°C. Varmetil-førselen reguleres således at ved kontinuerlig temperaturøkning er temperaturen på 1000°C nådd iløpet av ca. 12 timer. Gelen hensettes 12 timer ved denne temperatur. Deretter bringes den iløpet av et tidsrom på 1 time til temperaturer på 1100°C og holdes 8 timer ved denne temperatur. Det fåes en blærefri kvartsglasskorning som lar seg oppsmelte blærefritt.
Claims (8)
1. Fremgangsmåte til fremstilling av kornet kvartsglass ved hydrolyséring av kiselsyreestere og etterfølgende sintring av de derved dannede kiselsyregeler, karakterisert ved at man blander høyrene klorionefrie ortokiselsyreestere av alifatiske alkoholer med 105 til 500 vekt% av den støkiometrisk nødvendige mengde surgjort vann under omrøring, bringer den dannede sol til géldannelse ved forhøyede temperaturer, fortrinnsvis = 100°C og tørker den derved dannede gel ved temperaturer inntil 300°C, deretter knuser og deretter sintrer ved trinnvis økende temperaturer inntil 1400°C.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det benyttes ortokiselsyreestere av alifatiske alkoholer med 1 eller 2 C-atomer, eller tilsvarende polyalkylsilikater, fortrinnsvis tetrametylsilikat.
3. Fremgangsmåte ifølge krav 1 og 2, karakterisert ved at det anvendes 200-300 vekt% av den støkiome-trisk nødvendige mengde surgjort vann.
4. Fremgangsmåte ifølge krav 1-3, karakterisert ved at den tørkede kiselsyregel knuses,
til kornstørrelse på 70 til 800 /xov.
5. Fremgangsmåte ifølge krav 4, karakterisert ved at det til hydrolysen anvendte surgjorte vann har en pH-verdi mellom 2 og 5, fortrinnsvis 3.
6. Fremgangsmåte ifølge ett av kravene 4 til 5, karakterisert ved at kiselsyregelen etter tørkingen for bppnåelse av ytterligere finfordeling behandles med rent vann ved normaltrykk og deretter befris for vedhengende vann.
7. Fremgangsmåte ifølge ett av kravene 1-6, karakterisert ved at den termiske behandling av kiselsyregelen foretas ved trinnvis økende temperaturer inntil 1200°C.
8. Fremgangsmåte ifølge krav 7, karakterisert ved at den termiske behandling av kiselgelen foregår trinnvis således at det til ettertørkingen slutter seg en forsintring ved en temperatur fra 5 00 til 80 0°C.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19752557932 DE2557932A1 (de) | 1975-12-22 | 1975-12-22 | Verfahren zur herstellung von koernigem quarzglas |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO764323L NO764323L (no) | 1977-06-23 |
| NO141848B true NO141848B (no) | 1980-02-11 |
| NO141848C NO141848C (no) | 1980-05-21 |
Family
ID=5965242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO764323A NO141848C (no) | 1975-12-22 | 1976-12-21 | Fremgangsmaate til fremstilling av kornet kvartsglass |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4098595A (no) |
| JP (1) | JPS5281315A (no) |
| BE (1) | BE849720A (no) |
| DE (1) | DE2557932A1 (no) |
| FR (1) | FR2336355A1 (no) |
| GB (1) | GB1538179A (no) |
| IT (1) | IT1066707B (no) |
| NL (1) | NL7614204A (no) |
| NO (1) | NO141848C (no) |
| SE (1) | SE7614365L (no) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2557932A1 (de) * | 1975-12-22 | 1977-06-30 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur herstellung von koernigem quarzglas |
| JPS55100231A (en) * | 1979-01-19 | 1980-07-31 | Hitachi Ltd | Production of optical fiber base material |
| DE3067197D1 (en) * | 1979-11-21 | 1984-04-26 | Hitachi Ltd | Method for producing optical glass |
| JPS5858292B2 (ja) * | 1980-01-21 | 1983-12-24 | 株式会社日立製作所 | シリカガラスの製造方法 |
| JPS5742547A (en) * | 1980-08-25 | 1982-03-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of optical glass part |
| US4430257A (en) | 1981-06-12 | 1984-02-07 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Alcohol-free alkoxide process for containing nuclear waste |
| US4419115A (en) * | 1981-07-31 | 1983-12-06 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Fabrication of sintered high-silica glasses |
| JPS58151318A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 合成シリカおよびこれを含有してなる電子部品封止用樹脂組成物 |
| JPS59102833A (ja) * | 1982-11-30 | 1984-06-14 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造法 |
| JPS59107937A (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-22 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造法 |
| JPH0686288B2 (ja) * | 1985-09-09 | 1994-11-02 | 多摩化学工業株式会社 | シリカの製造方法 |
| US4810415A (en) * | 1985-09-24 | 1989-03-07 | Dresser Industries, Inc. | Process for manufacturing ultra pure silica and resulting encapsulated products |
| GB8627735D0 (en) * | 1986-11-20 | 1986-12-17 | Tsl Group Plc | Vitreous silica |
| US4789389A (en) * | 1987-05-20 | 1988-12-06 | Corning Glass Works | Method for producing ultra-high purity, optical quality, glass articles |
| US4816299A (en) * | 1987-05-20 | 1989-03-28 | Corning Glass Works | Encapsulating compositions containing ultra-pure, fused-silica fillers |
| EP0369091A1 (en) * | 1988-11-15 | 1990-05-23 | Battelle Memorial Institute | Method for manufacturing amorphous silica objects |
| US5141786A (en) * | 1989-02-28 | 1992-08-25 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Synthetic silica glass articles and a method for manufacturing them |
| US5236651A (en) * | 1991-12-02 | 1993-08-17 | Akzo N.V. | Extrusion, collection, and drying of ceramic precursor gel to form dried gel particles |
| US6528441B1 (en) * | 1992-10-28 | 2003-03-04 | Westinghouse Savannah River Company, L.L.C. | Hydrogen storage composition and method |
| US5455215A (en) * | 1994-10-17 | 1995-10-03 | Arco Chemical Technology, L.P. | Epoxide isomerization catalysts |
| JPH0967138A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-03-11 | Toshiba Corp | 半導体製造用石英及びその製造装置並びに製造方法 |
| US6375735B1 (en) * | 1996-05-06 | 2002-04-23 | Agritec, Inc. | Precipitated silicas, silica gels with and free of deposited carbon from caustic biomass ash solutions and processes |
| DE19937861C2 (de) * | 1999-08-13 | 2003-03-20 | Heraeus Quarzglas | Verfahren für die Herstellung dichter Quarzglas-Körnung |
| DE19962451C1 (de) * | 1999-12-22 | 2001-08-30 | Heraeus Quarzglas | Verfahren für die Herstellung von opakem Quarzglas und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Si0¶2¶-Granulat |
| JP2006219309A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Asahi Glass Co Ltd | 多孔質石英ガラス母材の製造方法及び装置 |
| US20060252636A1 (en) * | 2005-05-05 | 2006-11-09 | Fina Technology, Inc. | Silica supported ziegler-natta catalysts useful for preparing polyolefins |
| DE102006018711B4 (de) * | 2006-04-20 | 2008-09-25 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Werkstoff, insbesondere für ein optisches Bauteil zum Einsatz in der Mikrolithographie und Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus dem Werkstoff |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1119784A (en) * | 1965-10-26 | 1968-07-10 | Brockway Glass Co Inc | Process for treating glass surfaces |
| FR1524490A (fr) * | 1966-05-07 | 1968-05-10 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Procédé de fabrication de verres nouveaux |
| DE1596839B1 (de) * | 1966-05-07 | 1970-11-26 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Verfahren zur Herstellung von Formkoerpern aus Glaesern bei einer Temperatur unterhalb der ueblichen Schmelztemperatur |
| DE1596473B1 (de) * | 1967-04-27 | 1970-07-02 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Verfahren zum Erschmelzen wasserfreier,glasiger Kieselsaeure oder von hochkieselsaeurehaltigen Glaesern |
| DE1793222A1 (de) * | 1968-08-17 | 1971-04-15 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur Herstellung von Orthokieselsaeuretetraalkylestern |
| US3640093A (en) * | 1969-03-10 | 1972-02-08 | Owens Illinois Inc | Process of converting metalorganic compounds and high purity products obtained therefrom |
| US3847583A (en) * | 1969-08-13 | 1974-11-12 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Process for the manufacture of multi-component substances |
| JPS4920734B1 (no) * | 1969-11-24 | 1974-05-27 | ||
| US3958073A (en) * | 1970-01-29 | 1976-05-18 | Fidenza S.A. Vetraria S.P.A. | Properties of glass surfaces |
| US3827893A (en) * | 1970-06-12 | 1974-08-06 | Corning Glass Works | Silicate bodies |
| US3811918A (en) * | 1971-12-20 | 1974-05-21 | Owens Illinois Inc | Process for producing protective glass coatings |
| US3782915A (en) * | 1971-12-27 | 1974-01-01 | Corning Glass Works | Surface-deactivated porous glass |
| JPS5140572B2 (no) * | 1972-02-21 | 1976-11-04 | ||
| US3799754A (en) * | 1972-11-27 | 1974-03-26 | Owens Illinois Inc | Method for producing glass precursor compositions and glass compositions therefrom |
| US3853673A (en) * | 1973-04-30 | 1974-12-10 | Owens Illinois Inc | Strengthened glass articles and methods using glass precursor ion exchange medium |
| US3948629A (en) * | 1974-04-29 | 1976-04-06 | Corning Glass Works | Hydration of silicate glasses in aqueous solutions |
| US3929439A (en) * | 1974-07-08 | 1975-12-30 | Philadelphia Quartz Co | Method for preparing a highly siliceous alkali metal silicate glass and hydrated powder |
| DE2557932A1 (de) * | 1975-12-22 | 1977-06-30 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur herstellung von koernigem quarzglas |
| US4028085A (en) * | 1976-02-03 | 1977-06-07 | Owens-Illinois, Inc. | Method for manufacturing silicate glasses from alkoxides |
| US4030938A (en) * | 1976-02-03 | 1977-06-21 | Owens-Illinois, Inc. | Method for the manufacture of borosilicate glasses |
| US4042361A (en) * | 1976-04-26 | 1977-08-16 | Corning Glass Works | Method of densifying metal oxides |
-
1975
- 1975-12-22 DE DE19752557932 patent/DE2557932A1/de not_active Withdrawn
-
1976
- 1976-12-20 US US05/752,715 patent/US4098595A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-12-20 GB GB53164/76A patent/GB1538179A/en not_active Expired
- 1976-12-20 IT IT52703/76A patent/IT1066707B/it active
- 1976-12-21 FR FR7638609A patent/FR2336355A1/fr not_active Withdrawn
- 1976-12-21 NO NO764323A patent/NO141848C/no unknown
- 1976-12-21 SE SE7614365A patent/SE7614365L/xx not_active Application Discontinuation
- 1976-12-21 NL NL7614204A patent/NL7614204A/xx not_active Application Discontinuation
- 1976-12-22 JP JP51154830A patent/JPS5281315A/ja active Pending
- 1976-12-22 BE BE173520A patent/BE849720A/xx unknown
-
1977
- 1977-12-14 US US05/860,523 patent/US4243422A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1538179A (en) | 1979-01-10 |
| NO764323L (no) | 1977-06-23 |
| FR2336355A1 (fr) | 1977-07-22 |
| US4098595A (en) | 1978-07-04 |
| NL7614204A (nl) | 1977-06-24 |
| DE2557932A1 (de) | 1977-06-30 |
| BE849720A (fr) | 1977-06-22 |
| JPS5281315A (en) | 1977-07-07 |
| NO141848C (no) | 1980-05-21 |
| SE7614365L (sv) | 1977-06-23 |
| IT1066707B (it) | 1985-03-12 |
| US4243422A (en) | 1981-01-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NO141848B (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av kornet kvartsglass | |
| EP0963949B1 (en) | Method of producing artificial zeolite | |
| DE59003875D1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Natriumsilikaten. | |
| JPH072513A (ja) | 合成石英ガラス粉の製造方法 | |
| US3000703A (en) | Manufacture of zirconium oxide | |
| US6036733A (en) | Process for the preparation of crystalline sodium silicates | |
| JP2000016820A (ja) | シリカガラス粉粒体及びその製造法 | |
| US6099595A (en) | Process for the preparation of crystalline sodium silicates | |
| SU592798A1 (ru) | Способ получени шихты дл оптической керамики | |
| US2805130A (en) | Process of producing boron halides | |
| JPH0647451B2 (ja) | 高純度珪酸水和物の製造方法 | |
| JPS5969434A (ja) | 石英ガラスの製造法 | |
| JPH08208217A (ja) | 合成石英ガラス粉及び石英ガラス成形体の製造法 | |
| JP3859303B2 (ja) | 合成石英ガラス粉末の製造方法及び石英ガラス成形体 | |
| JPH05246708A (ja) | 粉状乾燥ゲル、シリカガラス粉末及びシリカガラス溶融成形品の製造方法 | |
| JPH07149515A (ja) | クリストバル石、鱗珪石に関する脱色方法 | |
| JPH0986919A (ja) | 合成石英ガラス粉の製造方法 | |
| JPH09295826A (ja) | 高純度透明シリカガラスの製造方法 | |
| RU2186744C1 (ru) | Способ получения стекол gex s1-x (x=0,1-0,5) | |
| JPH0616413A (ja) | 高純度結晶質シリカの製造方法 | |
| SU600094A1 (ru) | Способ получени порошкообразного кристобалита | |
| JP3806956B2 (ja) | 合成石英ガラス粉の製造方法 | |
| SU1528730A1 (ru) | Способ получени мелкокристаллического @ -кварца | |
| JPH11349337A (ja) | 合成石英ガラス粉末の製造方法及び石英ガラス成形体の製造方法 | |
| JPH04238832A (ja) | 石英ガラス粉末とその製造方法 |