NL7905581A - Glasdeklaag. - Google Patents
Glasdeklaag. Download PDFInfo
- Publication number
- NL7905581A NL7905581A NL7905581A NL7905581A NL7905581A NL 7905581 A NL7905581 A NL 7905581A NL 7905581 A NL7905581 A NL 7905581A NL 7905581 A NL7905581 A NL 7905581A NL 7905581 A NL7905581 A NL 7905581A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- coating
- glass
- gaseous medium
- substrate
- tin oxide
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
, N/29.090-Fa/vdM * ^ .,. - 1 -♦' · BFG Glassgroup te Parijs, Frankrijk.
Glasdeklaag.
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het vormen van een tinoxidebekleding op een vlak van een glassubstraat door een dergelijk vlak, terwijl het op verhoogde temperatuur is, in contact te brengen met een gas-5 vormig medium, dat tintetrachloride bevat, hetwelk een chemische reactie en/of een ontleding ondergaat, onder vorming van de genoemde tinoxidedeklaag.
De dampafzetting van metaaloxidefilms op verschillende substraten is beschreven in de literatuur, zie 10 bijv. het Britse octrooischrift 702.774 en "Mechanism of CVD Thin Film Snt^ Formation" door R.N. Ghoshtagore in Journal of the Electrochemical Society, januari 1978, blz. 110.-Deze publicaties beschrijven de vorming van metaaloxidedeklagen door hydrolyseerbare vluchtige chloridedampen in contact te 15 brengen met het oppervlak, dat bekleed moet worden, bij verhoogde temperatuur en in aanwezigheid van waterdamp. Volgens het Britse octrooischrift 702.774 wordt een oplossing (die een waterige oplossing kan zijn) van een elektrisch geleidende filmvormende verbinding, bijv. stannichloride, ver-20 · sproeid op een glassubstraat bij een temperatuur boven 204°C
terwijl water aanwezig is in de atmosfeer nabij het te bekleden vlak. De beschrijving beweert, dat de aanwezigheid van water in de atmosfeer, waar de vorming van de bekleding optreedt, de snelheid van filmvorming bevordert, doch de be-25 schrijving stipuleert dat het watergehalte van de atmosfeer, waarin het bespuiten plaatsvindt, in alle gevallen minder moet zijn dan 0,01 g/g lucht. Het artikel van R.N. Ghoshtagore in J. Electrochem. Soc. jan. 1978 beschrijft de damp-fase-afzetting van dunne stanni-oxidefilms op verwarmde 30 amorfe siliciumdioxidesubstraten uit een contactmengsel van stannichloridedamp en waterdamp in een dragergas.
7905581 «. · — * - 2 - . ^ v .... .-5 , -
Voor verscheidene doeleinden is het noodzakelijk dunne tinoxidelagen te vormen met zeer goede optische eigenschappen en in het bijzonder een uniform vermogen licht door te laten, hetgeen inhoudt een uniforme structuur van de 5 deklaag. De moeilijkheid bij het verkrijgen van deklagen met hoge optische kwaliteit is zeer aanzienlijk wanneer de deklagen continu moeten worden gevormd op een zich voortbewegend substraat, zoals een glaslint, en zal groter worden des te groter de substraatsnelheden zijn, waarmee men te maken 10 krijgt. In de vlak-glasvervaardigingsindustrie is het vaak van belang optische bekledingen te vormen op het vlakke glas gedurende zijn continue produktie en er bestaat de neiging om de produktiesnelheden te verhogen. Bijv. wordt vlotglas geproduceerd bij lintsnelheden van tenminste verscheidene 15 meters per min. en in sommige fabrieken worden snelheden bereikt tot aan 12 m/min.
De leer, die afleidbaar is van de eerder gepubliceerde publicaties over de technieken van chemische dampafzetting, is niet in staat om betrouwbaar tinoxidedek-20 lagen van hoge optische kwaliteit te vormen bij hoge afzet-tingssnelheden op een glassubstraat. De vorming van opper-vlaktedeklagen door een chemische dampafzettingstechniek wordt beïnvloed door verscheidene factoren, die nog eens komen boven de meer voor de hand liggende factoren, n.l. de 25 samenstelling van de damp en de aard van de dampafzettings-reacties. Dergelijke andere factoren omvatten de tempera-tuursomstandigheden op de bekledingsplaats en de samenstelling van het substraatvlak zelf. Hoewel de afzettingssnel-heid van tinoxide op een zich voortbewegend substraat van 30 glas kan worden vergroot door de bekledingsbewerking uit te voeren in een vochtige atmosfeer, moet het vochtgehalte zeer beperkt blijven wanneer de leer wordt gevolgd van de tot nog toe bekende publicaties, omdat anders de resultaten onbevredigend zijn. De deklagen vertonen een bezwaarlijke inwendige 35 troebeling en dit moest inderdaad verwacht worden vanuit het 790 55 81 3 _
Britse octrooischrift 702.774, omdat het optreden van een troebelheid daarin wordt beschreven als een reden, waarom de hoeveelheid waterdamp zeer sterk beperkt moet blijven.
Het is een doel van de onderhavige uitvinding 5 een werkwijze te verschaffen, waarmee de tinoxidedeklagen van goede optische kwaliteit betrouwbaar kunnen worden gevormd op glassubstraten door chemische dampafzetting en waarbij deze resultaten kunnen worden bereikt bij relatief hoge afzettingssnelheden.
10 Volgens de onderhavige uitvinding wordt een werkwijze verschaft voor het vormen van een tinoxidedeklaag op een vlak van een glassubstraat of op een tevoren hierop gevormde deklaag, door een dergelijk vlak terwijl het zich op verhoogde temperatuur bevindt, in contact te brengen met 15 een gasvormig medium, dat tintetrachloride bevat, dat chemische reactie en/of ontleding ondergaat onder vorming van deze tinoxidedeklaag, met het kenmerk, dat het gasvormige medium tintetrachloride bevat in een concentratie, overeen- ·. -3 komende met een partiele druk van tenminste 2,5 x 10 atm.
20 en waterdamp bevat in een concentratie, die overeenkomende is -3 met een partiele druk van tenminste 10 x 10 atm. en die in contact wordt gebracht met dat vlak, terwijl de temperatuur van het gasvormige medium tenminste 300°C is en de temperatuur van het glas daar waar het contact optreedt, boven 25 550°C is.
Door middel van een dergelijke werkwijze is het mogelijk hoge tinoxideafzettingssnelheden te bereiken, terwijl tegelijkertijd een tinoxidedeklaag wordt gevormd met een goede optische kwaliteit met betrekking tot vrijheid van 30 inwendige troebeling. Het bestaan van de aangegeven partiële minimumdrukken aan tintetrachloride en waterdamp is van doorslaggevende betekenis voor dit resultaat. Zoals erkend in de tevoren gepubliceerde literatuur, waarnaar hierboven is verwezen, beïnvloedt de aanwezigheid van waterdamp de 35 tinoxideafzettingssnelheid. Onder de werkwijze-omstandighe- 790 5 5 81 . - {;r,; , v;.·; _ 4~ V; V ; . . ,. . ?' ' -.-. - den, die aangeraden werden voorafgaande aan de onderhavige uitvinding, heeft de waterdamp echter de neiging om de dek-laagkwaliteit nadelig te beïnvloeden, tenzij het wordt gebruikt in zeer beperkte concentraties. De onderhavige uit-5 vinding is gebaseerd op de ontdekking, dat deze strikte beperking op de concentratie van de waterdamp niet noodzakelijk is, onder voorwaarde dat er een voldoende concentratie aan tintetrachloride in het gasvormige medium is, van waaruit de afzetting van tinoxide optreedt. In het algemeen 10 gesproken zal, wanneer andere dingen gelijk blijven, een stijging in de concentratie van de tintetrachloridedamp over een bepaald concentratiebereik op zichzelf de snelheid van tinoxideafzetting vergroten. Doch de doelmatigheid van de werkwijze in termen van een verhouding van tintetrachloride 15 dat wordt omgezet in tinoxide, op het glassubstraat en de deklaagkwaliteit daalt merkbaar wanneer de concentratie aan tintetrachloride een bepaalde hoeveelheid overschrijdt. Door de partiële druk van de waterdamp te handhaven op een waarde -3 van tenminste 10,x 10 atm. als boven aangegeven, kunnen 20 hoge bekledingssnelheden worden bereikt, zonder zijn toevlucht te nemen tot dergelijke hoge concentraties aan tintetrachloride, dat adequate werkwijze-opbrengsten en bekle-dingskwaliteiten niet kunnen worden bereikt. Het zal uit deze beschouwingen duidelijk zijn, dat er een belangrijk 25 functioneel verband bestaat tussen de tintetrachloride- en de waterdampconcentraties. Door het aanhouden van de aangegeven minimumwaarden voor beide concentraties kunnen deklagen met goede optische kwaliteit worden gevormd bij hogere afzettingssnelheden dan mogelijk is bij toepassing van de 30 leer van de voorafgaande publicaties op dit terrein. De af-zettingssnelheid van tinoxide als aangegeven in deze beschrijving, is de groeisnelheid van de dikte van de deklaag aan tinoxide op het substraat en kan worden uitgedrukt in termen van Angstroms per seconde. Door middel van de onder-35 havige uitvinding kunnen deklagen met goede optische kwali- 7905581 ' . · .-5
Jr « % teit gemakkelijk worden gevormd bij afzettingssnelheden van verscheidene duizenden Sngstroms per seconde.
In voorkeurswerkwijzen volgens de uitvinding laat men het gasvormige medium langs het te bekleden sub-5 straatvlak stromen. Dit kenmerk is verantwoordelijk voor een nog verdere verbetering in de bekledingskwaliteit, die verkregen kan worden.
In de uitvoeringsvormen van de uitvinding, waaraan de meeste voorkeur wordt gegeven, doet men het gas-10 vormige medium stromen langs het substraatoppervlak, dat bekleed moet worden, als een praktisch turbulentievrije laag langs een stromingsdoorgang, die ten dele gedefinieerd is door het vlak van het glas en die voert naar een afzuiglei-ding, via welke het resterende medium wordt afgezogen van 15 het vlak.
De stroming van het gasvomige medium langs het stromingskanaal wordt praktisch als turbulentievrij beschouwd wanneer het praktisch vrij is van locale circulerende stromingen of wervelingen, die aanleiding geven tot een 20 aanzienlijke toename van de stromingsweerstand. M.a.w. de stroming is bij voorkeur laminair, doch golvingen van de vloeiende massa of kleine wervelstromen kunnen worden getolereerd, onder voorwaarde dat de vereiste metaaloxidedeklaag in hoofdzaak slechts wordt gevormd aan de grenslaag, die in 25 contact staat met het hete substraatoppervlak en niet in enige belangrijke mate wordt gevormd als neerslag binnen de vloeiende stroom.
<
Het vermijden van onechte afzettingen op het te bekleden vlak is gemakkelijker mogelijk wanneer de stromings-30 doorgang, binnen welke de bekleding wordt gevormd, ondiep is.
Bij voorkeur is de hoogte van de stromingsdoorgang, gemeten loodrecht op het substraatvlak, op geen enkel punt groter dan 40 mm.
De stromingsdoorgang kan een uniforme hoogte 35 hebben of de doorgang kan in hoogte stijgen of dalen langs 7905581 • ·.. /. · ; · . .. .'· — 6 - . · ;.
. ... · ,- r de lengte in de richting waarin de gasstroming plaatsvindt.
Het is van voordeel wanneer de hoogte van het stromingskanaal afneemt in de richting van de gasstroming er doorheen, tenminste over een eindgedeelte van zijn lengte 5 die leidt tot aan de afzuigleidingen. Door töepassing van een stromingskanaal, dat taps uitloopt op deze wijze, is het gemakkelijker om bezwaarlijke turbulentie binnen de stromende gaslaag te vermijden. Bij voorkeur loopt het stromingskanaal taps toe over tenminste het grootste gedeelte van 10 zijn lengte. Een tapse hoek van 10° of minder is gewoonlijk bevredigend. De voorgaande kenmerken worden aangeraden voor het verkrijgen van deklagen van optimale kwaliteit, gezien als vrijheid van inwendige structurele onvolmaaktheden, die lichtdiffusie veroorzaken, ofwel de z.g. "inwendige troebe-15 ling". Voor het bevorderen van ditzelfde doel is het van voordeel wanneer het gasvormige· medium dat stroomt langs het _ substraatvlak, wordt afgeleid van tenminste gedeeltelijk een gasstroom, die deze vlakken nadert langs een baan (bijv. een baan leidend naar het genoemde stromingskanaal), die zich 20 onder een hoek van 45° of minder ten opzichte van het substraatvlak bevindt. De aflevering van de of een gasstroom onder een hoek van 45° of minder aan het te bekleden vlak bevordert de vereiste niet turbulente stroming van het gasvormige medium langs het stromingskanaal.
25 Bij voorkeur is de partiële druk van het tin- tetrachloride in het gasvormige medium, dat in contact staat -3 ”2 met het te bekleden vlak, tussen 2,5 x 10 tot 10 atm.
Door te werken binnen dit concentratiegebied van tintetra-chloride kunnen hoge tinoxideafzettingssnelheden van tenmins-30 te 800 2/sec., zelfs snelheden tussen 2000 en 3000 S/sec., worden bereikt met een hoog nuttig effect van de werkwijze.
De minimumconcentratie aan tintetrachloride, binnen dit traject, die vereist is voor het bereiken van deze resultaten en derhalve het nuttige effect van de werkwijze, is afhanke-35 lijk van de waterdampconcentratie. Zeer hoge afzettingssnel- 7905581 * s - 7 - heden van tenminste 800 &/sec., zelfs bijv. tussen 2000 en 3000 £/sec., als boven aangeduid, kunnen worden bereikt terwijl men werkt binnen het boven aangegeven traject van tetrachlorideconcentratie door een waterdampconcentratie te 5 handhaven, overeenkomende met een partiële druk tussen 50 x 10 ^ en 200 x 10 ^ atm.
Bij voorkeur worden de tintetrachloridedamp en de,waterdamp naar de bekledingszone gevoerd in afzonderlijke gasstromen, zodat ze eerst met elkaar in contact komen in de 10 nabijheid van het te bekleden substraatvlak. Door deze werkwijze wordt voortijdige reactie van het tinzout, waardoor vaste afzettingen worden veroorzaakt in het inwendige van een damptoevoerdoorgang, vermeden.
De tintetrachloridedamp wordt bij voorkeur af-15 geleverd aan het substraat in een stikstofstroom als drager-gas. In bepaalde zeer voordelige werkwijzen volgens de uitvinding laat men een stroom stikstofgas, die tintetrachloridedamp bevat, stromen langs het te bekleden vlak en wordt een luchtstroom, die waterdamp bevat, in deze stroom afgele-20 verd op een plaats, waar deze stroom reeds vloeit langs dit vlak. Een dopeermiddel, bijv. waterstoffluoride, kan in het gasvormige medium aanwezig zijn, van waaruit de tinoxide-afzetting plaatsvindt, teneinde de reflectiviteit van de deklaag in het verre IR te vergroten. Een dergelijk dopeer-25 middel kan bijv. aan het te bekleden substraatoppervlak worden toegevoegd gemengd met vochtige lucht, of het kan afzonderlijk worden toegevoerd.
De temperatuur van het glas in de bekledingszone kan aanzienlijk boven de aangegeven benedengrens van 30 550°C zijn, doch overeenkomstig de gebruikelijke praktijk bij het bekleden van glas met chemische dampafzettingstechnieken moet de temperatuur van het glas op de plaats waar de afzetting optreedt, niet zo hoog zijn dat het glas in weke toestand is.
35 De potentiële voordelen van de uitvinding wor- 790 55 81 den het best gerealiseerd wanneer deze wordt gebruikt voor het vormen van deklagen met hoge afzettingssnelheden. Zeer belangrijke werkwijzen volgens de uitvinding zijn die, waarin de concentraties aan tintetrachloride en waterdamp in de 5 bekledingszone zodanig zijn, dat een tinoxidedeklaag wordt gevormd met een snelheid van tenminste 800 R/sec. Tengevolge van de hoge afzettingssnelheden, die bereikbaar zijn, kan de uitvinding worden gebruikt met veel voordeel voor het vormen van een tinoxidebekleding op een lint vlotglas, wanneer dit 10 uit de vlottank komt. In bepaalde toepassingen volgens de uitvinding wordt een lint vlotglas bekleed met tinoxide door het lint in aanraking te brengen met een gasvormig medium als hiervoor aangegeven, op een plaats langs de baan van het glaslint, waar de temperatuur van het glas ligt tussen 550 15 en 650°C, terwijl het glaslint een snelheid heeft van tenminste 6 m/min. en de onmiddellijke hoeveelheden en concentraties aan tintetrachloride en waterdamp in het gasvormige medium waaruit de tinoxideafzetting plaatsvindt, zodanig zijn, dat de bekleding zich vormt op het substraat met een 20 snelheid van tenminste 800 R/sec.
Wanneer een lint vlotglas wordt bekleed of in elke andere toepassing van de onderhavige uitvinding, kan de bekleding, gevormd door de werkwijze volgens de uitvinding, direct op het glas worden gevormd of. op een voorafgaand ge-25 vormde bekleding. Bijv. kan een tinoxidebekleding worden gevormd met een werkwijze volgens de uitvinding op een relatief dunne onderbekleding van een ander materiaal, dat nuttig kan zijn bij het vermijden van troebeling tengevolge van structurele verschijnselen aan een tussenvlak.
30 Een werkwijze volgens de uitvinding kan natuur lijk herhaalde malen worden uitgevoerd voor het vormen van een tinoxidebekleding op een andere.
Bepaalde werkwijzen volgens de uitvinding worden thans beschreven, bij wijze van voorbeeld. In deze voor-35 beelden wordt verwezen naar de apparatuur, die is aangegeven \ 7905581 9 in de begeleidende schematische tekening, die een aanzicht in dwarsdoorsnede is van een bekledingsstation langs de baan van een glaslint, dat gevormd is volgens de vlotwerkwijze.
VOORBEELD I
5 Het geïllustreerde bekledingsapparaat werd ge bruikt voor het bekleden van een glaslint 1, dat zich voortbeweegt in de door de pijl 2 aangegeven richting van een vlottank (niet aangegeven), waarin het glaslint werd gevormd door een vlotwerkwijze op een bad gesmolten tin. Het glas-10 lint had een snelheid van 12 m/min. en werd aan het bekle-dingsstation ondersteund door rollen 3.
Het bekledingsstation is geplaatst in een compartiment 4 van een horizontale galerij met een vuurvast dak 5, een vuurvaste bodemwand 6 en vuurvaste zijwanden, waarvan 15 er slechts één, aangegeven met 7, in de tekening verschijnt. De einden van het compartiment worden gevormd door verplaatsbare vuurvaste schermen 8, 9. Het bekledingsapparaat is opgesteld op een plaats tussen de vlottank en de afkoel-galerij. Als alternatief kan een dergelijk bekledingsappa-20 raat ook zijn opgesteld binnen een deel van de bekledings-galerij.
Het bekledingsapparaat omvat drie aanvoerlei-dingen 10, 11, 12, via welke gasstromen kunnen worden afgeleverd aan het bekledingscompartiment. De lagere eindgedeel-25 ten van deze leidingen zijn omlaag en voorwaarts hellend opgesteld in de richting van de voortbeweging van het glaslint onder een hoek van 45° met de horizontaal. De aflever-einden van de leidingen openen in een ondiepe stromingsdoor-gang 13, ten dele gedefinieerd door een afdekking 14 en ten 30 dele door het bovenvlak van het glaslint.
De afdekking 14 strekt zich praktisch dwars over de volle breedte van het glaslint uit en de leidingen 10, 11, 12 hebben een langgerekte rechthoekige doorsnede in horizontale vlakken, waarbij hun breedte (gemeten loodrecht 35 op het vlak van de tekening) slechts weinig minder is dan de 790 5 5 81 ï ~. · : T ' · - ; · ·· ·..
W-Vl:·· ' - : -10- · ' :V ' '·' ’ ‘ overeenkomstige dimensie van de afdekking. De hellende aflever eindgedeelten van dergelijke leidingen definiëren sleufachtige afleverkanalen, van waaruit de gasstromen uittreden in de vorm van lagen, die zich uitstrekken over prak-5 tisch de volle inwendige breedte van het stromingskanaal 13.
De bovenkant van de afdekking 14 helt een weinig naar beneden in de gasstroomrichting, zodat het gasstroomkanaal 13 een weinig in hoogte daalt naar de uittreed-opening van het gas, waar deze is verbonden met een schoor-10 steen 15. De lengte van de reactor, van het gasafvoereinde van de leiding 12 tot de schoorsteen 15 is ca. 2 m en zijn hoogte varieert van 40 mm aan het intreedeinde tot 10 mm aan gasuittreedeinde. De schoorsteen 15 is inwendig onderverdeeld door scheidingswanden, zoals 16, in een aantal afzuig-15 ' kanalen, die zij' aan zij verdeeld zijn over praktisch de gehele breedte van de gasafvoerbaan.
De temperatuur van het glaslint in het gebied onder het intreedeinde van het stromingskanaal 13 was ongeveer 580°C.
20 Stikstof, voorverhit tot 500°C, werd toegevoerd vanuit een bron (niet aangegeven) door de leiding 10, ten— i einde te dienen als een soort pneumatische afscherming, die het kanaal 13 isoleert van de gassen,' die zich bevinden in het compartiment 4 en buiten de afdekking 14.
25 Tintetrachloridedamp, meegesleept door een stroom stikstof bij 450°C, werd continu toegevoerd vanuit de leiding 11, uitmondend als een stroom, die vloeide langs de i doorgang 13. De tintetrachloridedamp werd gevormd door verspuiten van vloeibaar tetrachloride in een voorverwarmde 30 stroom stikstofgas.
De leiding 12 werd continu voorzien van een gasmengsel van 450°C, bestaande uit lucht, waterdamp en fluorwaterstofzuur. Het doel van het fluorwaterstofzuur was het doperen van de deklaag die zich vormde op het glaslint, 35 met fluorionen, teneinde de reflectiviteit van de deklaag in 790 5 5 8 1 -11 ·«* -a het verre IR te verhogen, De aanvoer van gas door de leiding 12 helpt bij het voortbewegen of persen van de reactieve stroom, die tintetrachloride bevat, naar het oppervlak van het glas.
5 Als resultaat van het continu afleveren van gasstromen als boven beschreven aan het kanaal 13, werd er in het stroomafwaartse eindgedeelte van deze doorgang tussen het uitstroomeinde van leiding 12 en de schoorsteen 15 een gasstroom onderhouden, die tintetrachloride en waterdamp 10 (te samen met fluorwaterstofzuur) bevatte. Dit gasmengsel vormt een praktisch turbulentievrije laag. De relatieve hoeveelheden van de verschillende gassen, die toegevoerd worden in het kanaal 13 vanuit de leidingen 10, 11, 12 per tijdseenheid waren zodanig, dat in het kanaal 13 op het niveau 15 van het gas na de sleufachtige uitstroomopening van de leiding 12, een partiële tintetrachloridedruk aanwezig was van -3 3 5 x 10 atm. en een partiële waterdampdruk van 125 x 10 atm. Tinoxide werd afgezet op het zich voortbewegende glaslint vanaf dat stroomafwaartse eindgedeelte van het kanaal 20 13. De overtollige gassen werden continu afgezogen vanaf de bekledingsplaats via de schoorsteen 15.
Op het zich voortbewegende glaslint vormde zich een deklaag van tinoxide van 8000 £ dik. Dit komt overeen met een afzettingssnelheid van 1200 £/sec. Onderzoek van de 25 gevormde deklaag toonde aan, dat ze vrij was van inwendige troebeling, niettegenstaande de hoge snelheid van tinoxide-afzetting.
VOORBEELD II
Met een bekledingsapparaat als beschreven in 30 voorbeeld I werden bekledingen aangebracht, terwijl partiële drukken van SnCl^ en ^0 werden gehandhaafd als aangegeven in de volgende tabel, die ook de overeenkomstige afzettings-snelheden weergeeft van de tinoxidebekleding: 35 790 55 81 ί · *. ·' ' ' " '---= . .
' Γ - - —12— · ' ' " partiële SnCl^- partiële H20- afzettingssnelheid druk (atm.) druk (atm.) (&/sec.)_ 2 x IQ-3 10 x 10"3 400 6 X 10"3 10 x 10“3 560 5 6 x 10"3 55 x 10"3 1100 10 x 10"3 160 x 10~3 2500
Zoals blijkt uit deze tabel zijn de laatste 2 stellen voorwaarden de meest bevredigende voor het verkrijgen van hoge afzettingssnelheden. Het zijn voorbeelden van 10 de voorkeurswerkwijzen volgens de uitvinding.
Bij wijze van modificatie kan een deel van de afdekking 14, die de reactiezone bedekt, tussen het ontla-dingseinde van de leiding 12 en de schoorsteen 15 gevormd zijn door een gesinterde metaalplaat en kan droge lucht door 15 deze plaat worden afgeleverd, zodanig dat zich een luchtkussen vormt, dat de reactieve gasstroom isoleert van de wand van de reactor en daardoor voorkomt dat deze vervuild raakt.
In de voorgaande voorbeelden werd de uitvinding uitgevoerd door het reactieve gasvormige medium te doen 20 stromen langs het substraatvlak, dat bedekt wordt. Deze werkwijze, hoewel er de voorkeur aan wordt gegeven, is niet. essentiëel. Bijv. kunnen tintetrachloridedamp en waterdamp en fluorwaterstofzuur in afzonderlijke stromen worden ingeblazen naar het glaslint, zodat ze mengen in een zone, 25 waarin ze contact maken met glas en vanwaar de overtollige gassen, met inbegrip van reactieprodukten, worden afgevoerd in een richting weg van het glaslint.
30 7005581
Claims (18)
1. Werkwijze voor het vormen van een tinoxide-deklaag op een vlak van een glassubstraat of op een tevoren daarop gevormde deklaag, door een dergelijk vlak, terwijl 5 het zich op verhoogde temperatuur bevindt, in contact te brengen met een gasvormig medium, dat tintetrachloride bevat dat chemische reactie en/of ontleding ondergaat, onder vorming van de tinoxidedeklaag, met het kenmerk , dat het gasvormige medium tintetrachloride 10 bevat in een concentratie, overeenkomend met een partiële _3 druk van tenminste 2,5 x 10 atm. en waterdamp bevat m een concentratie, overeenkomend met een partiële druk van ten- _3 minste 10 x 10 atm. en het gasvormige medium in contact wordt gebracht met het vlak, terwijl de temperatuur van het 15 gasvormige medium tenminste 300°C is en de temperatuur van het glas waar een dergelijk contact optreedt, boven 550°C is.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk , dat het gasvormige medium wordt gevoerd langs het substraatvlak, dat bekleed wordt.
3. Werkwijze volgens conclusie 2, met het kenmerk , dat het gasvormige medium wordt gevoerd langs het substraatvlak, dat bekleed wordt, als een praktisch turbulentievrije laag langs een stromingsdoorgang, die gedefinieerd is ten dele door het vlak van het glas en die 25 leidt naar een afvoerleiding, via welke het restant van het medium wordt afgevoerd van dat vlak.
4. Werkwijze volgens conclusie 3, met het kenmerk , dat de hoogte van het stromingskanaal (gemeten loodrecht op het substraatvlak) op geen enkel punt hoger 30 is dan 40 mm.
5. Werkwijze volgens conclusie 3 of 4, met het kenmerk, dat de hoogte van het stromingskanaal afneemt in de richting van de gasstroming, tenminste over een eindgedeelte van zijn lengte, dat leidt tot aan de 35 afzuigbuis. 790 5 5 81 * :- '· - - 14-- ' : .. ’
6. Werkwijze volgens conclusies 3-5, met het kenmerk, dat tenminste over het grootste deel van zijn lengte het stromingskanaal taps afloopt in de richting van de gasstroming er doorheen, waarbij de tapse 5 hoek 10° of minder is.
7. Werkwijze volgens conclusies 2-6, met het kenmerk, dat het gasvormige medium, dat stroomt langs het substraatvlak, tenminste ten dele is afgeleid van een gasstroom, die het vlak nadert langs een baan, 10 die een hoek van 45° of minder maakt met het substraatopper-vlak.
8. Werkwijze volgens conclusies 1-7, met het kenmerk, dat de partiële druk van tintetra- chloride in het gasvormige medium in contact met het te ' -3 -2 15 bekleden vlak ligt tussen 2,5 x 10 en 10 atm.
9. Werkwijze volgens conclusie 8, m e t het kenmerk, dat de partiële waterdampdruk in -3 - een dergeli^k gasvormig medium ligt tussen 50 x 10 en 200 x 10 ^ atm.
10. Werkwijze volgens conclusies 1-9, met het kenmerk, dat de tintetrachloride en de waterdamp worden toegevoerd aan de bekledingszone in afzonderlijke gasstromen, zodat ze in contact komen in de buurt van het substraatoppervlak, dat bekleed moet worden. 25
.11· Werkwijze volgens conclusies 1-10, met het kenmerk, dat de t’intetrachloridedamp wordt afgeleverd aan het glassubstraat in een stikstofstroom als dragergas.
12. Werkwijze volgens conclusie 11, met 30 het kenmerk, dat een stroom, stikstof, die tin- tetrachloridedamp bevat, wordt gevoerd langs het te bekleden vlak en een stroom lucht, die waterdamp bevat, wordt afgeleverd aan deze stroom op een plaats, waar deze stroomt langs dat vlak.
13. Werkwijze volgens conclusies 1-12, met 790 5 5 81 / . -15- - het kenmerk, dat een dopeermiddel wordt toegevoerd aan het te bekleden substraatvlak, gemengd met vochtige lucht.
14. Werkwijze volgens conclusies 1-13, met 5 het kenmerk, dat de concentratie aan tintetra- chloride en waterdamp in de bekledingszone zodanig is, dat een tinoxidebekleding wordt gevormd met een snelheid van tenminste 800 2/sec.
15. Werkwijze volgens conclusies 1-14, met 10 het kenmerk, dat het glassubstraat een lint vlotglas is, dat zich voortbeweegt vanaf een vlottank.
16. Werkwijze volgens conclusie 15, met het kenmerk, dat het lint vlotglas in contact wordt gebracht met het gasvormige medium op een plaats langs 15 de baan van het glaslint waar de temperatuur van het glas ligt tussen 550 en 650°C, het glaslint een snelheid heeft— — ' van tenminste 6 m/min. en de onmiddellijke hoeveelheden en concentraties van tintetrachloride en waterdamp in het gasvormige medium van waaruit de tinoxideafzetting plaatsvindt, 20 zodanig zijn dat de bekleding op het substraat zich vormt met een snelheid van tenminste 800 2/sec.
17. Werkwijze volgens conclusies 1-16, met het kenmerk, dat de tinoxidedeklaag wordt gevormd op een tevoren gevormde relatief dunne bekleding van 25 een ander materiaal op het glassubstraat.
18. Werkwijze voor het vormen van een tinoxidedeklaag op een vlak van een substraat of op een tevoren daarop gevormde deklaag, in hoofdzaak overeenkomstig een van de bovenstaande voorbeelden. 30 790 5 5 81
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB7830589 | 1978-07-20 | ||
GB7830589 | 1978-07-20 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7905581A true NL7905581A (nl) | 1980-01-22 |
NL189909B NL189909B (nl) | 1993-04-01 |
NL189909C NL189909C (nl) | 1993-09-01 |
Family
ID=10498564
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NLAANVRAGE7905581,A NL189909C (nl) | 1978-07-20 | 1979-07-18 | Werkwijze voor het bekleden van een glassubstraat met een tinoxidelaag. |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4293326A (nl) |
JP (1) | JPS5515995A (nl) |
BE (1) | BE877465A (nl) |
CA (1) | CA1138725A (nl) |
DE (1) | DE2929092A1 (nl) |
DK (1) | DK154823C (nl) |
ES (1) | ES482995A1 (nl) |
FR (1) | FR2456077A1 (nl) |
IT (1) | IT1120990B (nl) |
NL (1) | NL189909C (nl) |
SE (1) | SE440074B (nl) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4371740A (en) * | 1980-07-23 | 1983-02-01 | Eastman Kodak Company | Conductive elements for photovoltaic cells |
GB2187184B (en) * | 1985-12-20 | 1989-10-11 | Glaverbel | Process and apparatus for pyrolytically coating glass |
GB8531424D0 (en) * | 1985-12-20 | 1986-02-05 | Glaverbel | Coating glass |
NO168762C (no) * | 1985-12-20 | 1992-04-01 | Glaverbel | Belagt, flatt glass. |
GB8824102D0 (en) * | 1988-10-14 | 1988-11-23 | Pilkington Plc | Apparatus for coating glass |
US5102691A (en) * | 1989-09-20 | 1992-04-07 | Atochem North America, Inc. | Method of pretreatment for the high-deposition-rate production of fluorine-doped tin-oxide coatings having reduced bulk resistivities and emissivities |
US5393563A (en) * | 1991-10-29 | 1995-02-28 | Ellis, Jr.; Frank B. | Formation of tin oxide films on glass substrates |
GB9300400D0 (en) * | 1993-01-11 | 1993-03-03 | Glaverbel | A device and method for forming a coating by pyrolysis |
TW359943B (en) * | 1994-07-18 | 1999-06-01 | Silicon Valley Group Thermal | Single body injector and method for delivering gases to a surface |
US6022414A (en) * | 1994-07-18 | 2000-02-08 | Semiconductor Equipment Group, Llc | Single body injector and method for delivering gases to a surface |
US6200389B1 (en) | 1994-07-18 | 2001-03-13 | Silicon Valley Group Thermal Systems Llc | Single body injector and deposition chamber |
FR2736632B1 (fr) * | 1995-07-12 | 1997-10-24 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage muni d'une couche conductrice et/ou bas-emissive |
JP4670139B2 (ja) * | 2000-11-22 | 2011-04-13 | 旭硝子株式会社 | コーティング装置および方法 |
JP4124046B2 (ja) * | 2003-07-10 | 2008-07-23 | 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ | 金属酸化物被膜の成膜方法および蒸着装置 |
FI20060288A0 (fi) * | 2006-03-27 | 2006-03-27 | Abr Innova Oy | Pinnoitusmenetelmä |
KR101244674B1 (ko) * | 2006-05-02 | 2013-03-25 | 다우 코닝 아일랜드 리미티드 | 웹 밀봉 장치 |
US8333839B2 (en) * | 2007-12-27 | 2012-12-18 | Synos Technology, Inc. | Vapor deposition reactor |
US8470718B2 (en) * | 2008-08-13 | 2013-06-25 | Synos Technology, Inc. | Vapor deposition reactor for forming thin film |
US8758512B2 (en) | 2009-06-08 | 2014-06-24 | Veeco Ald Inc. | Vapor deposition reactor and method for forming thin film |
US20110076421A1 (en) * | 2009-09-30 | 2011-03-31 | Synos Technology, Inc. | Vapor deposition reactor for forming thin film on curved surface |
US8840958B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-09-23 | Veeco Ald Inc. | Combined injection module for sequentially injecting source precursor and reactant precursor |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2651585A (en) * | 1949-06-25 | 1953-09-08 | Pittsburgh Plate Glass Co | Production of electroconductive articles |
GB702774A (en) | 1951-05-08 | 1954-01-20 | Pittsburgh Plate Glass Co | Electro-conductive products and production thereof |
DE971957C (de) * | 1953-06-07 | 1959-04-23 | Pittsburgh Plate Glass Co | Verfahren zur Herstellung elektrisch leitender Schichten auf Glas oder anderen waermebestaendigen Stoffen |
US2953483A (en) * | 1956-08-13 | 1960-09-20 | Owens Illinois Glass Co | Method and apparatus for applying coatings to selected areas of articles |
BE632267A (nl) * | 1962-05-17 | 1900-01-01 | ||
DE1496590C3 (de) * | 1964-10-16 | 1973-10-31 | N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven (Niederlande) | Verfahren zur Herstellung von warme reflektierenden SnO tief 2 Schichten mit reproduzierbaren optischen und elektrischen Eigenschaften auf Tragern |
US3516811A (en) * | 1966-10-04 | 1970-06-23 | Indian Head Inc | Method of and apparatus for coating glassware retaining its heat of formation |
US3632429A (en) * | 1970-06-30 | 1972-01-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for making metal oxide film resistors |
GB1524326A (en) * | 1976-04-13 | 1978-09-13 | Bfg Glassgroup | Coating of glass |
SU621647A1 (ru) * | 1976-12-30 | 1978-08-30 | Гусевский Филиал Государственного Научно-Исследовательского Института Стекла | Способ обработки стеклоизделий |
-
1979
- 1979-05-18 CA CA000327872A patent/CA1138725A/en not_active Expired
- 1979-06-18 US US06/049,155 patent/US4293326A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-07-04 BE BE1/9452A patent/BE877465A/fr not_active IP Right Cessation
- 1979-07-05 FR FR7917705A patent/FR2456077A1/fr active Granted
- 1979-07-11 IT IT68437/79A patent/IT1120990B/it active
- 1979-07-16 JP JP9026779A patent/JPS5515995A/ja active Granted
- 1979-07-18 DE DE19792929092 patent/DE2929092A1/de active Granted
- 1979-07-18 NL NLAANVRAGE7905581,A patent/NL189909C/nl not_active IP Right Cessation
- 1979-07-19 SE SE7906223A patent/SE440074B/sv unknown
- 1979-07-19 DK DK305779A patent/DK154823C/da not_active IP Right Cessation
- 1979-07-19 ES ES482995A patent/ES482995A1/es not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4293326A (en) | 1981-10-06 |
JPS6150892B2 (nl) | 1986-11-06 |
IT1120990B (it) | 1986-03-26 |
DK305779A (da) | 1980-01-21 |
JPS5515995A (en) | 1980-02-04 |
DE2929092A1 (de) | 1980-01-31 |
DK154823B (da) | 1988-12-27 |
SE7906223L (sv) | 1980-01-21 |
BE877465A (fr) | 1980-01-04 |
DE2929092C2 (nl) | 1992-02-06 |
FR2456077B1 (nl) | 1983-04-22 |
FR2456077A1 (fr) | 1980-12-05 |
NL189909B (nl) | 1993-04-01 |
ES482995A1 (es) | 1980-04-16 |
CA1138725A (en) | 1983-01-04 |
NL189909C (nl) | 1993-09-01 |
IT7968437A0 (it) | 1979-07-11 |
SE440074B (sv) | 1985-07-15 |
DK154823C (da) | 1989-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL7905581A (nl) | Glasdeklaag. | |
US4123244A (en) | Process of forming a metal or metal compound coating on a face of a glass substrate and apparatus suitable for use in forming such coating | |
US4329379A (en) | Process for forming tin oxide glass coating | |
KR830002475B1 (ko) | 고온으로 가열된 썹스트레이트 표면에 고체물질의 층을 연속적으로 용착시키는 방법 | |
CA2019191C (en) | Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate | |
US4446815A (en) | Apparatus for continuously depositing a layer of a solid material on the surface of a substrate brought to a high temperature | |
FI61859C (fi) | Saett att bilda ett enhetligt oeverdrag av metall eller en metallfoerening pao ytan av ett glasunderlag och anordning foeratt bilda ett dylikt oeverdrag | |
JP4716631B2 (ja) | 基板上の光触媒被膜の製造方法 | |
KR960010097B1 (ko) | 유리를 코팅하는 방법 및 코팅된 유리 | |
CN1228067A (zh) | 在平板玻璃上沉积氧化锡和二氧化钛涂层的方法及所获得的涂覆玻璃 | |
US5286295A (en) | Nozzle with nonsymmetrical feed for the formation of a coating layer on a ribbon of glass, by pyrolysis of a gas mixture | |
JP6320303B2 (ja) | ガラス基材上にシリカ被膜を成膜するための化学的気相成長プロセス | |
JP3214713B2 (ja) | ガラスを被覆する方法 | |
US4878934A (en) | Process and apparatus for coating glass | |
US5221352A (en) | Apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate | |
CN1042138A (zh) | 玻璃的涂层 | |
US6268019B1 (en) | Preparation of fluorine modified, low haze, titanium dioxide films | |
JP6293679B2 (ja) | 酸化亜鉛コーティングを蒸着させるための化学蒸着過程、導電性ガラス物品を形成するための方法、およびそれによって生成されるコーティングされたガラス物品 | |
EP0370027B1 (en) | Apparatus for coating a substrate | |
US5122394A (en) | Apparatus for coating a substrate | |
JP2527544B2 (ja) | 被覆した平板ガラス | |
CA1175301A (en) | Process and apparatus for coating glass | |
US11820700B2 (en) | Method of depositing a coating utilizing a coating apparatus | |
WO2023057756A1 (en) | Method of forming a silicon oxide coating | |
NZ230881A (en) | Process and apparatus for coating hot sheet glass |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
BA | A request for search or an international-type search has been filed | ||
BB | A search report has been drawn up | ||
BC | A request for examination has been filed | ||
SNR | Assignments of patents or rights arising from examined patent applications |
Owner name: GLAVERBEL |
|
V4 | Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent |
Free format text: 19990718 |