JP2527544B2 - 被覆した平板ガラス - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、酸化錫のコーテイング層を有する平板ガラ
スに関する。
スに関する。
周知のように酸化錫のコーテイングは導電性コーテイ
ングにするために任意のドープ処理材を有することが多
く、それらのコーテイングはまた、種々の目的のため
に、その他の相溶性の材料を少量含むことがある。錫や
酸素以外に存在する原子の性質や量は、ある限度をこえ
てはならず、その限度をこえると、コーテイングの結晶
の格子形配列の構造型がすず石のそれと異なる。
ングにするために任意のドープ処理材を有することが多
く、それらのコーテイングはまた、種々の目的のため
に、その他の相溶性の材料を少量含むことがある。錫や
酸素以外に存在する原子の性質や量は、ある限度をこえ
てはならず、その限度をこえると、コーテイングの結晶
の格子形配列の構造型がすず石のそれと異なる。
導電性酸化錫のコーテイングをしたガラスシートは、
なかんずく、ガラス細工の目的で広く使用されている。
というのは、酸化錫のコーテイングが赤外線輻射、特に
３μｍ以上の波長の場合被覆シート面の輻射能を減じる
ことができるからである。
なかんずく、ガラス細工の目的で広く使用されている。
というのは、酸化錫のコーテイングが赤外線輻射、特に
３μｍ以上の波長の場合被覆シート面の輻射能を減じる
ことができるからである。
そこでガラス細工の目的で使用される被覆シートはそ
の部分全体にわたつて均一な外観を有するのが望まし
い。
の部分全体にわたつて均一な外観を有するのが望まし
い。
実際に、そのような被覆シートはある部分と他の部分
で外観が異なることが多い。それには種々の原因が知ら
れているが、例えば、コーテイングの厚みの変化であ
り、これは干渉効果によりコーテイングの部分に色の変
化を生じさせる。また、コーテイングの特性の変化も一
つの原因となり、これはくもりを生じさせる。
で外観が異なることが多い。それには種々の原因が知ら
れているが、例えば、コーテイングの厚みの変化であ
り、これは干渉効果によりコーテイングの部分に色の変
化を生じさせる。また、コーテイングの特性の変化も一
つの原因となり、これはくもりを生じさせる。
外観のコントラストはなお酸化錫のコーテイングの形
成中に、コーテイングの厚みをできるだけ均一に、しか
も状態を一定に保持しようと努力をした時にさえ生じ
る。
成中に、コーテイングの厚みをできるだけ均一に、しか
も状態を一定に保持しようと努力をした時にさえ生じ
る。
従来、均一な光学的特性を得るために、コーテイング
は基本的には小さな結晶で構成されなければならないと
いうことは効果的であると考えられてきた。酸化錫のコ
ーテイング層を熱分解的に装着する間、小さな結晶の形
成を促進するために、酸化錫の構造に似た結晶学的構造
を有する二酸化チタンの薄くてしかも熱間処理されるコ
ーテイング層に蒸気位相から酸化錫のコーテイング層を
形成することが知られている。肉薄の二酸化チタンの下
塗り層は多数の非常に小さな結晶で形成され、かくして
多数の非常に小さな酸化錫の結晶の成長のために多数の
密集したシードポイントを与える。
は基本的には小さな結晶で構成されなければならないと
いうことは効果的であると考えられてきた。酸化錫のコ
ーテイング層を熱分解的に装着する間、小さな結晶の形
成を促進するために、酸化錫の構造に似た結晶学的構造
を有する二酸化チタンの薄くてしかも熱間処理されるコ
ーテイング層に蒸気位相から酸化錫のコーテイング層を
形成することが知られている。肉薄の二酸化チタンの下
塗り層は多数の非常に小さな結晶で形成され、かくして
多数の非常に小さな酸化錫の結晶の成長のために多数の
密集したシードポイントを与える。
本発明は大型結晶を有する酸化錫のコーテイングを形
成することによつて視覚上のコントラスト効果が実際に
なくなるか、大変減少するという驚くべき発見に基づい
ている。
成することによつて視覚上のコントラスト効果が実際に
なくなるか、大変減少するという驚くべき発見に基づい
ている。
本発明によれば、酸化錫のコーテイング層を有する平
板ガラスにおいて、その酸化錫の層は少くとも200nmの
厚みを有し、10-4μm2単位で測定した酸化錫のコーテイ
ングの結晶の代表的なサンプルの期待される粒子面積は
数字上、ナノメーターで測定した層の厚みの少くとも0.
4倍の値に等しいという特徴をもつ。
板ガラスにおいて、その酸化錫の層は少くとも200nmの
厚みを有し、10-4μm2単位で測定した酸化錫のコーテイ
ングの結晶の代表的なサンプルの期待される粒子面積は
数字上、ナノメーターで測定した層の厚みの少くとも0.
4倍の値に等しいという特徴をもつ。
この酸化錫コーテイングは、必要なコーティングの厚
みにするために、ガラスの表面に対して多少とも垂直に
成長する結晶で作られる（それらの結晶がガラス表面そ
れ自体から成長するか、そのガラスにすでに形成されて
いた結晶から成長するかどちらでも）。この外観は、被
覆表面を撮影した電子マイクログラフから容易にわかる
ことである。コーテイング結晶の相対的面積の測定は、
従つて、個々の結晶のアウトラインを容易に見ることの
できる平面でとつた電子マイクログラフから得ることが
できる。しわをなくすように、あるいは結晶のアウトラ
インをわかりにくくするように、コーテイングをいくら
磨いたとしても、その結晶のアウトラインはエツチング
操作により容易に再び現われる。従来、その粒子面積に
対して結晶のサイズを示すものとしてそのようなマイク
ログラフに結晶が占める面積をとる方法が行われてい
る。
みにするために、ガラスの表面に対して多少とも垂直に
成長する結晶で作られる（それらの結晶がガラス表面そ
れ自体から成長するか、そのガラスにすでに形成されて
いた結晶から成長するかどちらでも）。この外観は、被
覆表面を撮影した電子マイクログラフから容易にわかる
ことである。コーテイング結晶の相対的面積の測定は、
従つて、個々の結晶のアウトラインを容易に見ることの
できる平面でとつた電子マイクログラフから得ることが
できる。しわをなくすように、あるいは結晶のアウトラ
インをわかりにくくするように、コーテイングをいくら
磨いたとしても、その結晶のアウトラインはエツチング
操作により容易に再び現われる。従来、その粒子面積に
対して結晶のサイズを示すものとしてそのようなマイク
ログラフに結晶が占める面積をとる方法が行われてい
る。
結晶の代表的なサンプルの粒子面積を決定するため
に、次の手順を用いた。平面図で、被覆シートの部分で
ランダムに選んだ多くの場所の各々を、100000倍の電子
マイクログラフにとつた。これらのマイクログラフに示
されるランダムに選んだグループの750の結晶のうち、
各結晶のアウトラインを、プロッターを使つてトレース
した。そのプロツターはそこからのデータから各結晶
（ｉ）に対して結晶部分Xiを誘導するようにプログラム
されたデータープロセスサーに接続している。それから
結晶の母集団内のサイズ分布を分析するために、種々の
計算をする。この目的で、結晶面積の大部分を50×10-4
μｍのインターバルに分け、各インターバルに含まれる
結晶を計数する。
に、次の手順を用いた。平面図で、被覆シートの部分で
ランダムに選んだ多くの場所の各々を、100000倍の電子
マイクログラフにとつた。これらのマイクログラフに示
されるランダムに選んだグループの750の結晶のうち、
各結晶のアウトラインを、プロッターを使つてトレース
した。そのプロツターはそこからのデータから各結晶
（ｉ）に対して結晶部分Xiを誘導するようにプログラム
されたデータープロセスサーに接続している。それから
結晶の母集団内のサイズ分布を分析するために、種々の
計算をする。この目的で、結晶面積の大部分を50×10-4
μｍのインターバルに分け、各インターバルに含まれる
結晶を計数する。
定 義 期待される粒子面積は、次式から求める。即ち、 標準偏差は次式で求める。
第三中心モーメントは次式から求める。
歪度係数は次式から求める。
本発明に従つた被覆シートガラスのコーテイング結晶
の期待される粒子面積が大きいことは、視覚上のコント
ラストが低いことに大いに関連していることがわかつ
た。従つてその製品はよりすぐれた視覚的外観をもつ。
これは酸化錫の光学的コーテイングに関連した以前の理
論に対して著しい対照をなす。事実前述のような期待さ
れる粒子面積が大である場合、異なるサンプルの期待さ
れる粒子面積間の比率は単一に一層接近する傾向があ
り、これはコントラストが低いことに関連することもわ
かつた。
の期待される粒子面積が大きいことは、視覚上のコント
ラストが低いことに大いに関連していることがわかつ
た。従つてその製品はよりすぐれた視覚的外観をもつ。
これは酸化錫の光学的コーテイングに関連した以前の理
論に対して著しい対照をなす。事実前述のような期待さ
れる粒子面積が大である場合、異なるサンプルの期待さ
れる粒子面積間の比率は単一に一層接近する傾向があ
り、これはコントラストが低いことに関連することもわ
かつた。
被覆シート部分にわたつてくもりが変化するという問
題について簡単にすでに触れた。拡散光伝達の絶対レベ
ルが低いことは望ましいことが多く、これについては、
従来、多くの調査研究が行われてきた。拡散光伝達の可
視的側面である、くもりは三つの主な原因に起因してい
た。一つはガラスとコーテイングとの界面における欠
陥。これはガラスとコーテイングの酸化錫との間の反応
により生じることが多い。第２は、コーテイングの厚み
の欠陥。これはその構造に起因する。第３は、コーテイ
ングの表面の欠陥である。ガラスとコーテイングの界面
における欠陥は、コーテイング方法を適切に選び、下塗
り層を使用し、および／または脱アルカリガラスを使用
することによつて排除することができる。表面の欠陥は
コーテイング方法を適切に選択することにより排除する
か、またはそのコーテイングを磨くことにより除去する
ことができる。コーテイングの厚み内の欠陥はコーテイ
ング方法の適切な選択によつてしか排除することはでき
ない。なぜなら、その欠陥はコーテイング層の物理的構
造次第で決まるからである。低絶対的拡散光伝達に好ま
しい内部構造を有するコーテイング層を達成するのに適
した方法は、英国特許出願第8531423号と第8531424号と
第8531425号とに説明され、請求がなされている。
題について簡単にすでに触れた。拡散光伝達の絶対レベ
ルが低いことは望ましいことが多く、これについては、
従来、多くの調査研究が行われてきた。拡散光伝達の可
視的側面である、くもりは三つの主な原因に起因してい
た。一つはガラスとコーテイングとの界面における欠
陥。これはガラスとコーテイングの酸化錫との間の反応
により生じることが多い。第２は、コーテイングの厚み
の欠陥。これはその構造に起因する。第３は、コーテイ
ングの表面の欠陥である。ガラスとコーテイングの界面
における欠陥は、コーテイング方法を適切に選び、下塗
り層を使用し、および／または脱アルカリガラスを使用
することによつて排除することができる。表面の欠陥は
コーテイング方法を適切に選択することにより排除する
か、またはそのコーテイングを磨くことにより除去する
ことができる。コーテイングの厚み内の欠陥はコーテイ
ング方法の適切な選択によつてしか排除することはでき
ない。なぜなら、その欠陥はコーテイング層の物理的構
造次第で決まるからである。低絶対的拡散光伝達に好ま
しい内部構造を有するコーテイング層を達成するのに適
した方法は、英国特許出願第8531423号と第8531424号と
第8531425号とに説明され、請求がなされている。
以前、コーテイングを均一な粒子面積を有する結晶で
作るのが望ましいのではないかと考えたことがある。し
かし本発明に従つた製品では、結晶の母集団が均一な粒
子面積を有する場合、全体の結晶母集団中に粒子面積が
特定して分布している場合ほど、くもりレベルが低くな
らないことがわかつた。そこで、本発明の好ましい実施
例において、横軸に粒子面積をとり、縦軸にインターバ
ルをとつて、その所与のインターバル内に粒子面積を有
するような酸化錫の結晶の代表的サンプルの結晶の数を
プロツトすることにより母集団密度曲線を作つた時、そ
の曲線は正の歪度係数を示し、その歪度係数は少くとも
１であつた。この目的のために使用した粒子面積のイン
ターバルは50×10-4μm2である。粒子面積のそのような
分布は低絶対的拡散光伝達性にうまく関係しており、ひ
いては、低レベルのくもりにも関係することがわかつ
た。
作るのが望ましいのではないかと考えたことがある。し
かし本発明に従つた製品では、結晶の母集団が均一な粒
子面積を有する場合、全体の結晶母集団中に粒子面積が
特定して分布している場合ほど、くもりレベルが低くな
らないことがわかつた。そこで、本発明の好ましい実施
例において、横軸に粒子面積をとり、縦軸にインターバ
ルをとつて、その所与のインターバル内に粒子面積を有
するような酸化錫の結晶の代表的サンプルの結晶の数を
プロツトすることにより母集団密度曲線を作つた時、そ
の曲線は正の歪度係数を示し、その歪度係数は少くとも
１であつた。この目的のために使用した粒子面積のイン
ターバルは50×10-4μm2である。粒子面積のそのような
分布は低絶対的拡散光伝達性にうまく関係しており、ひ
いては、低レベルのくもりにも関係することがわかつ
た。
被覆ガラスに関連して生じるもう一つの問題は製品の
エイジングに関係するものである。特にコーテイング
は、その寿命のうちに受けるであろう諸条件に耐えなけ
ればならない。例えばコーテイングはクリーニング中の
摩耗に耐えるように十分な機械的抵抗と接着力を有して
いなければならない。この酸化錫コーテイングの機械的
抵抗は、母集団密度曲線が前述のような正の歪度係数を
有する場合に増加し、そのコーテイングを形成している
結晶のサイズが種々存在することもわかつた。従つて、
本発明の好ましい実施例において、この正の歪度係数は
次の特称と結びついている。即ち、酸化錫コーテイング
の結晶の代表的なサンプルの粒子面積の準備偏差が期待
値の少くとも半分であり、好ましくはそれ期待値の少く
とも0.7倍であるという特徴である。
エイジングに関係するものである。特にコーテイング
は、その寿命のうちに受けるであろう諸条件に耐えなけ
ればならない。例えばコーテイングはクリーニング中の
摩耗に耐えるように十分な機械的抵抗と接着力を有して
いなければならない。この酸化錫コーテイングの機械的
抵抗は、母集団密度曲線が前述のような正の歪度係数を
有する場合に増加し、そのコーテイングを形成している
結晶のサイズが種々存在することもわかつた。従つて、
本発明の好ましい実施例において、この正の歪度係数は
次の特称と結びついている。即ち、酸化錫コーテイング
の結晶の代表的なサンプルの粒子面積の準備偏差が期待
値の少くとも半分であり、好ましくはそれ期待値の少く
とも0.7倍であるという特徴である。
10-4μm2単位で測定した酸化錫コーテイングの結晶の
代表的サンプルの期待される粒子面積は、数字的に、ナ
ノメーターで測定した層の厚みの少くとも0.5倍の値に
等しい。ある好ましい実施例では、それはその厚みの少
くとも0.6倍である。そのコーテイング結晶の母集団が
この特性を有するような被覆ガラスは、特に少くとも30
0nmの厚みを有するコーテイングの場合において、更に
コントラストが減退した視覚的外観を生じるということ
がわかつた。
代表的サンプルの期待される粒子面積は、数字的に、ナ
ノメーターで測定した層の厚みの少くとも0.5倍の値に
等しい。ある好ましい実施例では、それはその厚みの少
くとも0.6倍である。そのコーテイング結晶の母集団が
この特性を有するような被覆ガラスは、特に少くとも30
0nmの厚みを有するコーテイングの場合において、更に
コントラストが減退した視覚的外観を生じるということ
がわかつた。
コーテイングの実質的な厚みに拘らず高度の明らかな
均一性をもつコーテイングを形成しうることは、本発明
の重要な効果である。従来、コーテイングの厚みが増せ
ば増すほど、コーテイングの外観において明白なコント
ラストを排除する困難もそれだけ大であつた。しかし、
本発明の好ましい実施例において、酸化錫の層は少くと
も300nmの厚みを有し、特に好ましいことに、その層は
少くとも700nmの厚みを有する。300nm以上の厚みを有す
るコーテイング層、特に少くとも700nmの厚みを有する
コーテイングは機械的にも、化学的にも抵抗性が強く、
それが導電性の場合、それらのコーテイングは平方当り
のオーム単位で表わす時、低抵抗に作り易いので、これ
は導電性コーテイングとしてのその価値を強化し、赤外
線放射に対して被覆面の輻射能を低下させる能力も増強
する。
均一性をもつコーテイングを形成しうることは、本発明
の重要な効果である。従来、コーテイングの厚みが増せ
ば増すほど、コーテイングの外観において明白なコント
ラストを排除する困難もそれだけ大であつた。しかし、
本発明の好ましい実施例において、酸化錫の層は少くと
も300nmの厚みを有し、特に好ましいことに、その層は
少くとも700nmの厚みを有する。300nm以上の厚みを有す
るコーテイング層、特に少くとも700nmの厚みを有する
コーテイングは機械的にも、化学的にも抵抗性が強く、
それが導電性の場合、それらのコーテイングは平方当り
のオーム単位で表わす時、低抵抗に作り易いので、これ
は導電性コーテイングとしてのその価値を強化し、赤外
線放射に対して被覆面の輻射能を低下させる能力も増強
する。
酸化錫コーテイング層が普通の場合のように例えば最
低輻射能を有するコーテイングのように、例えば700nm
〜1200nmの厚みのように少くとも700nmの厚みを有する
時、視覚的外観が低コントラストであるという本発明の
効果は、酸化錫コーテイングの結晶の代表的なサンプル
の期待される粒子面積が350×10-4μm2〜700×10-4μm2
の範囲にある時、最大となることがわかつた。従つて、
この特徴を採り入れることは、好ましいことである。
低輻射能を有するコーテイングのように、例えば700nm
〜1200nmの厚みのように少くとも700nmの厚みを有する
時、視覚的外観が低コントラストであるという本発明の
効果は、酸化錫コーテイングの結晶の代表的なサンプル
の期待される粒子面積が350×10-4μm2〜700×10-4μm2
の範囲にある時、最大となることがわかつた。従つて、
この特徴を採り入れることは、好ましいことである。
本発明をここで、本発明に従つた被覆ガラスの製造に
適した特定の方法の実施例により、そしてまた、装置の
種々の好ましい実施例に関する添付図面によつて詳細に
説明する。
適した特定の方法の実施例により、そしてまた、装置の
種々の好ましい実施例に関する添付図面によつて詳細に
説明する。
第１図において、シートまたはリボンの形をした熱ガ
ラス基体の上面に金属化合物のコーテイングを熱分解に
より形成する装置は、符号１で示す通路に沿つて下流方
向へ前記ガラス基体を運ぶために、例えばローラー２の
ようなコンベアでなる。通路１は、その上へ下向きに開
口するコーテイング室６を形成する屋根構造体５と、ガ
ラス基体１へ向つて下向き８に、コーテイングプリカー
サー溶液の流れをコーテイング室６へスプレーするスプ
レーノズル７とでなるコーテイングステーシヨン４を通
過する。
ラス基体の上面に金属化合物のコーテイングを熱分解に
より形成する装置は、符号１で示す通路に沿つて下流方
向へ前記ガラス基体を運ぶために、例えばローラー２の
ようなコンベアでなる。通路１は、その上へ下向きに開
口するコーテイング室６を形成する屋根構造体５と、ガ
ラス基体１へ向つて下向き８に、コーテイングプリカー
サー溶液の流れをコーテイング室６へスプレーするスプ
レーノズル７とでなるコーテイングステーシヨン４を通
過する。
スプレーノズル７はコーテイングプリカーサー溶液の
流れを、ガラス基体の通路１の上方少くとも75cmの高さ
からコーテイング室６のスプレー区域９へ噴霧するよう
に配置される。図示の実施例において、スプレーノズル
７はコーテイングプリカーサー材料をガラス基体１の上
方少くとも１メートル、好ましくは1.2メートルの高さ
からスプレーするように配置され、そのスプレーノズル
はそれ自体、よく知られた型のものである。そのノズル
はガラス基体１へ向つて下向き８に、しかも下流方向３
へコーテイングプリカーサー溶液をスプレーするように
配置され、それはガラス基体の通路の幅にわたつて軌道
（図示せず）に沿つて前後へ移動する。
流れを、ガラス基体の通路１の上方少くとも75cmの高さ
からコーテイング室６のスプレー区域９へ噴霧するよう
に配置される。図示の実施例において、スプレーノズル
７はコーテイングプリカーサー材料をガラス基体１の上
方少くとも１メートル、好ましくは1.2メートルの高さ
からスプレーするように配置され、そのスプレーノズル
はそれ自体、よく知られた型のものである。そのノズル
はガラス基体１へ向つて下向き８に、しかも下流方向３
へコーテイングプリカーサー溶液をスプレーするように
配置され、それはガラス基体の通路の幅にわたつて軌道
（図示せず）に沿つて前後へ移動する。
スプレー区域へ熱を供給するために加熱装置が使用さ
れる。図示の実施例において、そのような加熱装置はス
プレー区域９の屋根に備わつている下向きの輻射式モー
ター10でなる。付加的ヒーター装置として、コーテイン
グプリカーサー材料の噴霧流と交叉する方向へ向つてス
プレー区域９へ予加熱ガス流を放出するダクト11が備わ
つている。そのダクト11は放出オリフイス12を有し、そ
れはスプレーノズル７とガラス基体１との間の高さの上
半分に配置され、コーテイングプリカーサー材料のスプ
レー放出軸８より上流からガス流を放出するようになつ
ている。オリフイス12はガラス基体通路１の幅全体にわ
たつて水平に伸長し、ガラス基体から、スプレーノズル
７の高さまでの上３分の１の高さにわたつて垂直方向へ
伸長する。オリフイス12から放出されるガスは最初に、
小滴流７の横行通路を横切つて事実上水平方向に向けら
れ、スプレー区域９内にガスの循環を保持する。
れる。図示の実施例において、そのような加熱装置はス
プレー区域９の屋根に備わつている下向きの輻射式モー
ター10でなる。付加的ヒーター装置として、コーテイン
グプリカーサー材料の噴霧流と交叉する方向へ向つてス
プレー区域９へ予加熱ガス流を放出するダクト11が備わ
つている。そのダクト11は放出オリフイス12を有し、そ
れはスプレーノズル７とガラス基体１との間の高さの上
半分に配置され、コーテイングプリカーサー材料のスプ
レー放出軸８より上流からガス流を放出するようになつ
ている。オリフイス12はガラス基体通路１の幅全体にわ
たつて水平に伸長し、ガラス基体から、スプレーノズル
７の高さまでの上３分の１の高さにわたつて垂直方向へ
伸長する。オリフイス12から放出されるガスは最初に、
小滴流７の横行通路を横切つて事実上水平方向に向けら
れ、スプレー区域９内にガスの循環を保持する。
放出されたガスは例えば300℃〜500℃の平均温度に適
切に前もつて加熱される。ヒーター10は噴霧された小滴
からの溶媒の蒸発化を、それがガラス基体１へ向つて移
動する間に促進させ、それはそれから温熱放出ガス中へ
送られる。
切に前もつて加熱される。ヒーター10は噴霧された小滴
からの溶媒の蒸発化を、それがガラス基体１へ向つて移
動する間に促進させ、それはそれから温熱放出ガス中へ
送られる。
変形例において、ダクト11は２本のダクトに分かれ、
これらはオリフイス12の位置を占める同寸法の上方オリ
フイスと下方オリフイスの位置まで伸長し、その結果、
例えば300℃〜500℃の異なる温度のガス流が異なる高さ
から放出されることになる。
これらはオリフイス12の位置を占める同寸法の上方オリ
フイスと下方オリフイスの位置まで伸長し、その結果、
例えば300℃〜500℃の異なる温度のガス流が異なる高さ
から放出されることになる。
屋根構造体５はスプレー区域９から下流へつながるコ
ーテイング室６の通路部分13を形成し、コーテイング室
６は全長、少くとも２メートルの長さ、好ましくは少く
とも５メートルの長さを有する。図示の実施例におい
て、屋根構造体５はガラス基体通路の上方にブリツジ壁
14を有し、それは事実上垂直に下降してスプレー区域の
下流端に出口スロツト15を形成し、それによつてそのス
プレー区域を通路13から分離しており、その通路13の高
さはスプレー区域の高さと事実上等しい。出口スロツト
15の高さはスプレーノズル７とガラス基体１との間の高
さの半分以上である。
ーテイング室６の通路部分13を形成し、コーテイング室
６は全長、少くとも２メートルの長さ、好ましくは少く
とも５メートルの長さを有する。図示の実施例におい
て、屋根構造体５はガラス基体通路の上方にブリツジ壁
14を有し、それは事実上垂直に下降してスプレー区域の
下流端に出口スロツト15を形成し、それによつてそのス
プレー区域を通路13から分離しており、その通路13の高
さはスプレー区域の高さと事実上等しい。出口スロツト
15の高さはスプレーノズル７とガラス基体１との間の高
さの半分以上である。
プリカーサー材料用スプレーノズル７の放出軸８より
上流に、ガスジエツトノズル16があつて、これはコーテ
イングプリカーサー材料の流れの近くで下方にガスジエ
ツトを放出し、それによつてスプレーされたコーテイン
グプリカーサー材料を遮蔽する。ガスジエツトノズル16
は横断軌道に沿つてそれと共に反復放出するようにコー
テイングスプレーノズル７に結合する。この遮蔽状ガス
ジエツトの主たる効果は、コーテイングプリカーサー材
料がガラス基体１へ向つて移動する時その流れの後方で
コーテイング反応生成物や他の汚染物質が混入するのを
防ぐことである。
上流に、ガスジエツトノズル16があつて、これはコーテ
イングプリカーサー材料の流れの近くで下方にガスジエ
ツトを放出し、それによつてスプレーされたコーテイン
グプリカーサー材料を遮蔽する。ガスジエツトノズル16
は横断軌道に沿つてそれと共に反復放出するようにコー
テイングスプレーノズル７に結合する。この遮蔽状ガス
ジエツトの主たる効果は、コーテイングプリカーサー材
料がガラス基体１へ向つて移動する時その流れの後方で
コーテイング反応生成物や他の汚染物質が混入するのを
防ぐことである。
通路13に沿つて排気ダクト17,18,19が配置され、コー
テイング室の下流端にある排気ダクト17は、ガラス基体
通路１の上方に配置された入口20を有し、それはその排
気管の軸の少くとも大部分にわたつて伸長する。
テイング室の下流端にある排気ダクト17は、ガラス基体
通路１の上方に配置された入口20を有し、それはその排
気管の軸の少くとも大部分にわたつて伸長する。
コーテイング室６の側壁から内方へ突出する邪魔板21
があつて、これは雰囲気材料の流れがガラス基体１の側
部をこえるのを防ぎ、またスプレー区域９の全長にわた
つてガラス基体通路の上部区域と下部区域との間を流動
するのを防ぐ。そのスプレー区域において、コーテイン
グプリカーサー材料中に雰囲気材料が最も大量に含まれ
ている。これらの邪魔板はコーテイング室６の側壁にピ
ボツトにより取付けられ、例えばねじ式支柱により支持
されるので、その位置はガラス基体１の辺縁に対してク
リアランスが最小となるように調整される。
があつて、これは雰囲気材料の流れがガラス基体１の側
部をこえるのを防ぎ、またスプレー区域９の全長にわた
つてガラス基体通路の上部区域と下部区域との間を流動
するのを防ぐ。そのスプレー区域において、コーテイン
グプリカーサー材料中に雰囲気材料が最も大量に含まれ
ている。これらの邪魔板はコーテイング室６の側壁にピ
ボツトにより取付けられ、例えばねじ式支柱により支持
されるので、その位置はガラス基体１の辺縁に対してク
リアランスが最小となるように調整される。
ガラス基体１の周囲へガスを放出する装置22が備わつ
ていて、これはガラス基体通路１の各辺縁部の下で、コ
ーテイング室６が占める通路部分の少くとも一部分に沿
つて下流へ流れる連続流を形成する。
ていて、これはガラス基体通路１の各辺縁部の下で、コ
ーテイング室６が占める通路部分の少くとも一部分に沿
つて下流へ流れる連続流を形成する。
リボンの下にあるガス放出装置は４個の充満室23でな
り、それは２個ずつ配置され、コーテイングステーショ
ン４の事実上幅全体にわたつて伸長する。各充満室23の
上部には、スロツト24が形成され、そのスロツトは転向
舌片25により境界されるので、スロツト24を通つて放出
されるガスは、コーテイングステーシヨン４に沿つて下
流方向へ向けられる。スロツト24はコーテイングステー
シヨン４を横切つて各充満室23の全長にわたつて伸長す
る。所望であれば、そのようなスロツトに代えて、複数
個の間隔をおいて位置するオリフイスにすることもでき
る。第１図に示すように、転向板26が充満室23の上方に
配置されているので、放出ガスはガラス基体に対して直
接、放出されることはない。充満室23には、コーテイン
グステーシヨン４の両側から、例えば熱交換器から予加
熱ガスが供給される。放出ガスとして空気が使用されこ
れは炉の送気管のガスとの熱交換によつて容易に加熱さ
れる。そのようなガスはそれがコーテイング室６へ流入
する前に、ガラス基体の温度50゜以内に前もつて加熱さ
れているのが好ましい。
り、それは２個ずつ配置され、コーテイングステーショ
ン４の事実上幅全体にわたつて伸長する。各充満室23の
上部には、スロツト24が形成され、そのスロツトは転向
舌片25により境界されるので、スロツト24を通つて放出
されるガスは、コーテイングステーシヨン４に沿つて下
流方向へ向けられる。スロツト24はコーテイングステー
シヨン４を横切つて各充満室23の全長にわたつて伸長す
る。所望であれば、そのようなスロツトに代えて、複数
個の間隔をおいて位置するオリフイスにすることもでき
る。第１図に示すように、転向板26が充満室23の上方に
配置されているので、放出ガスはガラス基体に対して直
接、放出されることはない。充満室23には、コーテイン
グステーシヨン４の両側から、例えば熱交換器から予加
熱ガスが供給される。放出ガスとして空気が使用されこ
れは炉の送気管のガスとの熱交換によつて容易に加熱さ
れる。そのようなガスはそれがコーテイング室６へ流入
する前に、ガラス基体の温度50゜以内に前もつて加熱さ
れているのが好ましい。
ガラス基体１の下で排出されるガスは、ガラス基体１
の周囲から排気ダクト（図示せず）を通つて送られる。
この排気ダクトは例えばガラス通路の上に位置する排気
ダクトの入口20と一致して配置された基体通路の下で横
断方向に伸長する１個以上の入口を有する。
の周囲から排気ダクト（図示せず）を通つて送られる。
この排気ダクトは例えばガラス通路の上に位置する排気
ダクトの入口20と一致して配置された基体通路の下で横
断方向に伸長する１個以上の入口を有する。
ガラス基体通路１の上方には、バリヤ壁27があつて、
これは、コーテイング室６の幅全体を横切つて伸長し、
そのコーテイング室６の下流端を事実上、閉鎖するの
で、雰囲気材料の流れが通路13の下流端でコーテイング
室６へ流れたり、そこから流出したりするのを事実上防
ぐ。
これは、コーテイング室６の幅全体を横切つて伸長し、
そのコーテイング室６の下流端を事実上、閉鎖するの
で、雰囲気材料の流れが通路13の下流端でコーテイング
室６へ流れたり、そこから流出したりするのを事実上防
ぐ。
コーテイングステーシヨン４は、例えばフロートタン
クのようなリボン形成プラント（図示せず）からの出口
と焼きなましレア28への入口との間にある。
クのようなリボン形成プラント（図示せず）からの出口
と焼きなましレア28への入口との間にある。
リボン形成プラントからコーテイング室６までの通路
は、屋根29を有し、コーテイング室の上流端は遮壁30に
よつて決定され、その遮壁30は通路の屋根29から垂下
し、ガラス基体１が入口スロツト31を通つてコーテイン
グ室へ入るだけの小さなクリアランスを残す。
は、屋根29を有し、コーテイング室の上流端は遮壁30に
よつて決定され、その遮壁30は通路の屋根29から垂下
し、ガラス基体１が入口スロツト31を通つてコーテイン
グ室へ入るだけの小さなクリアランスを残す。
この遮壁30の効果は雰囲気材料がコーテイング室６か
ら上流へ流動するのを制限することであり、その結果、
その区域内の雰囲気状態を一層コントロールし易くな
る。
ら上流へ流動するのを制限することであり、その結果、
その区域内の雰囲気状態を一層コントロールし易くな
る。
遮壁30の上流で、その遮壁と第２遮壁32との間には、
前室33があつて、そこにはヒーター34が取付られてお
り、遮壁30とリボン１との間からコーテイング室６へ引
きこまれるガスを予加熱する。
前室33があつて、そこにはヒーター34が取付られてお
り、遮壁30とリボン１との間からコーテイング室６へ引
きこまれるガスを予加熱する。
第2,3図において、第１図に示すものと同一機能を果
す部品には、同一符号をつけて示した。
す部品には、同一符号をつけて示した。
コーテイング室６の上流端にあるスプレー区域におい
て、ガス放出ダクト11はないが、その代わりに、放出オ
リフイス36を有する一対のダクト35が配置されており、
前記放出オリフイス36はお互いに向かい合つていて、コ
ーテイングプリカーサー材料の噴霧流の軸８の両側から
予加熱ガスを放出するようになつている。リボン１の高
さより上方では、コーテイング室のためのその他の加熱
装置は示されていない。放出オリフイス36はコーテイン
グ室６の殆ど幅全体にわたつて伸長し、そしてガラス基
体の上方、スプレーノズル７の高さの上３分の１のとこ
ろに制限されている。その変形例として、放出オリフイ
ス36の幅を小さくし、スプレーノズル７と縦隊に並んで
スプレー区域を横切つて前後へ移動するようにすること
もできる。
て、ガス放出ダクト11はないが、その代わりに、放出オ
リフイス36を有する一対のダクト35が配置されており、
前記放出オリフイス36はお互いに向かい合つていて、コ
ーテイングプリカーサー材料の噴霧流の軸８の両側から
予加熱ガスを放出するようになつている。リボン１の高
さより上方では、コーテイング室のためのその他の加熱
装置は示されていない。放出オリフイス36はコーテイン
グ室６の殆ど幅全体にわたつて伸長し、そしてガラス基
体の上方、スプレーノズル７の高さの上３分の１のとこ
ろに制限されている。その変形例として、放出オリフイ
ス36の幅を小さくし、スプレーノズル７と縦隊に並んで
スプレー区域を横切つて前後へ移動するようにすること
もできる。
スプレー区域９の下流側では、屋根構造体５は下向き
に傾斜し、それから垂直ブリツジ壁14を形成し、その壁
には、排気ダクト38用入口37が幅いつぱいに配置され、
それはスプレー区域からの蒸気を吸引してそこに流動し
ない区域が形成されないようにする。
に傾斜し、それから垂直ブリツジ壁14を形成し、その壁
には、排気ダクト38用入口37が幅いつぱいに配置され、
それはスプレー区域からの蒸気を吸引してそこに流動し
ない区域が形成されないようにする。
ブリツジ壁14の下の下で出口スロツト15より下流で
は、屋根構造体５が連続し、コーテイング室６の通路部
分13を形成し、この屋根構造は出口スロツトと同じ高さ
を有する。
は、屋根構造体５が連続し、コーテイング室６の通路部
分13を形成し、この屋根構造は出口スロツトと同じ高さ
を有する。
その通路13の長さに沿つて、ガラス基体通路１の高さ
より下でコーテイング室の各側に、排気装置がある。こ
の排気装置は、側部排気ダクト40に連絡している複数の
上部が開いた排気ボツクス39でなる。これらの排気ボツ
クス39は通路13が占める基体通路の全長にわたつて伸長
し、上流の排気ボツクスは事実、スプレー区域９の下に
位置することが第２図からわかる。排気ボツクスから上
方かつ内方へ邪魔板41が突出し、これは、ガラス基体通
路の辺縁の下を、しかも両コンベアローラー２間を上方
へ伸長する。このように配置すると、通路に沿つてガラ
ス基体の上と下で大気が有効に分離される。
より下でコーテイング室の各側に、排気装置がある。こ
の排気装置は、側部排気ダクト40に連絡している複数の
上部が開いた排気ボツクス39でなる。これらの排気ボツ
クス39は通路13が占める基体通路の全長にわたつて伸長
し、上流の排気ボツクスは事実、スプレー区域９の下に
位置することが第２図からわかる。排気ボツクスから上
方かつ内方へ邪魔板41が突出し、これは、ガラス基体通
路の辺縁の下を、しかも両コンベアローラー２間を上方
へ伸長する。このように配置すると、通路に沿つてガラ
ス基体の上と下で大気が有効に分離される。
コーテイングプリカーサー材料および他の雰囲気材料
がスプレー区域９のもつと上流部分をこえてガラス基体
通路の側部をこえて流動しないようにするために、予加
熱空気を放出するブロワー50が使用され、これは比較的
きれいなガス流がコーテイング室の側壁にぶつかつて上
昇するようにする。これはまた、コーテイング室内の雰
囲気材料によりこれらの壁が腐蝕するのをある程度防
ぐ。
がスプレー区域９のもつと上流部分をこえてガラス基体
通路の側部をこえて流動しないようにするために、予加
熱空気を放出するブロワー50が使用され、これは比較的
きれいなガス流がコーテイング室の側壁にぶつかつて上
昇するようにする。これはまた、コーテイング室内の雰
囲気材料によりこれらの壁が腐蝕するのをある程度防
ぐ。
前述のように、これまでの図面に示した部品と同じ機
能を果す部品には、第４図にも同一符号をつける。
能を果す部品には、第４図にも同一符号をつける。
第４図の実施例において、前述の図面の単一往復スプ
レーノズルは、複数のノズルに置きかえられているが、
ここには１個しか示されていない。これらのノズル７は
一対のガス放出ダクト35増を走行する軌道（図示せず）
部分に沿つて往復し、そのダクト35はコーテイング室の
幅全体にわたつて伸長する下向きに傾斜した放出オリフ
イス51を有する。
レーノズルは、複数のノズルに置きかえられているが、
ここには１個しか示されていない。これらのノズル７は
一対のガス放出ダクト35増を走行する軌道（図示せず）
部分に沿つて往復し、そのダクト35はコーテイング室の
幅全体にわたつて伸長する下向きに傾斜した放出オリフ
イス51を有する。
屋根構造体５はスプレー区域９の上方で一部カーブし
た連続する形で下降し、それは更に下降し続けて、通路
13が下流方向へ低くなるようになつており、コーテイン
グ室６内で材料が下流へ滑らかに流れ易くする。
た連続する形で下降し、それは更に下降し続けて、通路
13が下流方向へ低くなるようになつており、コーテイン
グ室６内で材料が下流へ滑らかに流れ易くする。
通路13の下流端では、雰囲気材料が排気ダクト46へ吸
引され、そのダクトは入口47を有し、その入口47はカー
ブした排気用浅い窪み48により一部が形成され、その浅
い窪み48は通路13の幅全体にわたつて、ガラス基体１の
通路の上方を伸長し、事実上下流端を閉鎖する。そのよ
うな浅い窪み48は任意にピボツト状に取付けて、ガラス
基体１に対して最小のクリアランスをもつように調整す
ることができる。通路13の下流端にあたる半分において
も、コーテイング室の各側に配置された排気ダクト49へ
雰囲気材料が吸引されることにより、雰囲気材料はコー
テイング室に沿つて横方向へ拡散し易くする。そのよう
な材料はまた、邪魔板12によつてガラス基体の下へ流れ
ないように仕組まれており、その邪魔板21は通路の事実
上全長に沿つてガラス基体の辺縁部上をコーテイング室
の側壁から突出し、スプレー区域へ、殆どその上流端ま
で伸長する。
引され、そのダクトは入口47を有し、その入口47はカー
ブした排気用浅い窪み48により一部が形成され、その浅
い窪み48は通路13の幅全体にわたつて、ガラス基体１の
通路の上方を伸長し、事実上下流端を閉鎖する。そのよ
うな浅い窪み48は任意にピボツト状に取付けて、ガラス
基体１に対して最小のクリアランスをもつように調整す
ることができる。通路13の下流端にあたる半分において
も、コーテイング室の各側に配置された排気ダクト49へ
雰囲気材料が吸引されることにより、雰囲気材料はコー
テイング室に沿つて横方向へ拡散し易くする。そのよう
な材料はまた、邪魔板12によつてガラス基体の下へ流れ
ないように仕組まれており、その邪魔板21は通路の事実
上全長に沿つてガラス基体の辺縁部上をコーテイング室
の側壁から突出し、スプレー区域へ、殆どその上流端ま
で伸長する。
通路13の屋根５の下降は、この吸引の促進による通路
13を流れる材料の量が減少するのを補償する。
13を流れる材料の量が減少するのを補償する。
コーテイング室の上流端では、端部壁43はガラス基体
１の通路に接近する方向へ下降し、事実上、コーテイン
グ室の上流端を閉鎖し、その端部壁のすぐ下流には、補
助ガス放出管52があつて、これはガラス基体の近くでコ
ーテイング室へ予加熱ガスを放出して下流方向へ流れる
ようにし、コーテイングプリカーサー材料とガラス基体
がはじめて接触する際にそれらの接触をうまくさせ、蒸
気が上流端部壁43にぶつかつてたまるのを防ぐ。
１の通路に接近する方向へ下降し、事実上、コーテイン
グ室の上流端を閉鎖し、その端部壁のすぐ下流には、補
助ガス放出管52があつて、これはガラス基体の近くでコ
ーテイング室へ予加熱ガスを放出して下流方向へ流れる
ようにし、コーテイングプリカーサー材料とガラス基体
がはじめて接触する際にそれらの接触をうまくさせ、蒸
気が上流端部壁43にぶつかつてたまるのを防ぐ。
スプレー区域の下流端には、２個の水平方向で内向き
に傾斜したガスジエツト放出ノズル53があつて、これは
スプレー区域で生じたコーテイングプリカーサー材料の
蒸気を通路13の側壁から離れて、しかも下流方向へ流す
ようにする。
に傾斜したガスジエツト放出ノズル53があつて、これは
スプレー区域で生じたコーテイングプリカーサー材料の
蒸気を通路13の側壁から離れて、しかも下流方向へ流す
ようにする。
第５図において、ここでも前述の図面に示した部品と
同じ機能を果す部品には、同一の符号をつけた。
同じ機能を果す部品には、同一の符号をつけた。
スプレー区域９は第１図に示すものと同じ形をしてい
る。コーテイング室の上流端壁43の下では、第1,2図に
示す遮壁30はブリツジ壁44に取りかえられており、この
ブリツジ壁44はかなり背の高い入口スロツト31を有する
ので、雰囲気材料はガスと接触しながらそれに沿つて、
前室33からコーテイング室へ一層容易に引きこまれる。
所望であれば、そのブリツジ壁44は入口スロツト31の開
口を変えるために高さを調整することができる。少くと
もコーテイング材料がガラスとぶつかる区域までガラス
基体１のすぐ上方で雰囲気材料の層をコントロールする
ために、更に付加的にガス放出ダクト（図示せず）を使
用して予加熱ガスを前室へ下向きに放出させることもで
きる。
る。コーテイング室の上流端壁43の下では、第1,2図に
示す遮壁30はブリツジ壁44に取りかえられており、この
ブリツジ壁44はかなり背の高い入口スロツト31を有する
ので、雰囲気材料はガスと接触しながらそれに沿つて、
前室33からコーテイング室へ一層容易に引きこまれる。
所望であれば、そのブリツジ壁44は入口スロツト31の開
口を変えるために高さを調整することができる。少くと
もコーテイング材料がガラスとぶつかる区域までガラス
基体１のすぐ上方で雰囲気材料の層をコントロールする
ために、更に付加的にガス放出ダクト（図示せず）を使
用して予加熱ガスを前室へ下向きに放出させることもで
きる。
第４図と同じように、通路13は出口スロツトから離れ
るに従つて高さが低くなる。
るに従つて高さが低くなる。
コーテイング室６の上流端にあるスプレー区域９に
は、ガス放出ダクト35はないが、放出オリフイス55を有
するダクト54がその代わりに使用され、前記放出オリフ
イス55は、コーテイングプリカーサー材料の噴霧流の上
流側へ向けられている。ある実施例において、放出オリ
フイス55はコーテイング室６より幅が狭く、それはスプ
レーノズル７と縦に並んでスプレー区域を前後へ移動す
る。他の実施例では、放出オリフイス55はコーテイング
室６の殆ど幅全体にわたつて伸長する。
は、ガス放出ダクト35はないが、放出オリフイス55を有
するダクト54がその代わりに使用され、前記放出オリフ
イス55は、コーテイングプリカーサー材料の噴霧流の上
流側へ向けられている。ある実施例において、放出オリ
フイス55はコーテイング室６より幅が狭く、それはスプ
レーノズル７と縦に並んでスプレー区域を前後へ移動す
る。他の実施例では、放出オリフイス55はコーテイング
室６の殆ど幅全体にわたつて伸長する。
ブリツジ壁14の下にある出口スロツト15の下流では、
屋根構造体５は連続し、コーテイング室６の通路部分13
を形成し、ここでは下流方向へ下降する。しかしなが
ら、この実施例では、通路13の屋根構造体は、複数のよ
ろい板56により形成され、これらのよろい板はピボツト
状に開くことができるので予加熱空気が通路13へその屋
根に沿つて流入し、そこの温度を上昇させ、その屋根に
コーテイングが塗着、即ち凝縮するのを防ぐ。
屋根構造体５は連続し、コーテイング室６の通路部分13
を形成し、ここでは下流方向へ下降する。しかしなが
ら、この実施例では、通路13の屋根構造体は、複数のよ
ろい板56により形成され、これらのよろい板はピボツト
状に開くことができるので予加熱空気が通路13へその屋
根に沿つて流入し、そこの温度を上昇させ、その屋根に
コーテイングが塗着、即ち凝縮するのを防ぐ。
通路13の長さに沿つて、排気装置が配置され、これは
第2,3図に関連して説明したように、ガラス基体通路１
の高さより下でコーテイング室の各側に配置される。
第2,3図に関連して説明したように、ガラス基体通路１
の高さより下でコーテイング室の各側に配置される。
実施例 １ 第１図に示す装置の特定の実施例において、コーテイ
ング室６は、約３メートル幅のガラスリボンに合わせる
ようにその幅を３メートルよりちよつと大きくしてい
る。コーテイング室のスプレー区域９の上方にある屋根
構造体５はリボン通路１の高さの上方、丁度1.5メート
ルの位置にある。小滴放出ノズル７のスプレーオリフイ
スはその屋根の高さに近いところにある。そのノズル７
は円錐形の小滴流を放出するように配置され、その中心
軸８は水平線に対して47゜の角度をなし、それに対して
半円錐角は10゜である。ガスジエツトノズル16の出口は
スプレーノズル７の下方25cm、かつスプレーノズル７の
下流7cmのところにあつて、その軸は水平線に対して60
゜の角度に配置される。ガス放出オリフイス12の高さが
50cm、そして頂部はノズル７と同じ高さにある。スプレ
ー区域９の下流端にあるブリツジ壁14はガス流放出オリ
フイス12から2.8メートルの距離だけ離れて位置する。
通路13はスプレー区域９と同じ高さにあり、出口スロツ
ト15はリボン通路１の高さの上方50cmの高さにある。通
路13の長さは４メートルである。
ング室６は、約３メートル幅のガラスリボンに合わせる
ようにその幅を３メートルよりちよつと大きくしてい
る。コーテイング室のスプレー区域９の上方にある屋根
構造体５はリボン通路１の高さの上方、丁度1.5メート
ルの位置にある。小滴放出ノズル７のスプレーオリフイ
スはその屋根の高さに近いところにある。そのノズル７
は円錐形の小滴流を放出するように配置され、その中心
軸８は水平線に対して47゜の角度をなし、それに対して
半円錐角は10゜である。ガスジエツトノズル16の出口は
スプレーノズル７の下方25cm、かつスプレーノズル７の
下流7cmのところにあつて、その軸は水平線に対して60
゜の角度に配置される。ガス放出オリフイス12の高さが
50cm、そして頂部はノズル７と同じ高さにある。スプレ
ー区域９の下流端にあるブリツジ壁14はガス流放出オリ
フイス12から2.8メートルの距離だけ離れて位置する。
通路13はスプレー区域９と同じ高さにあり、出口スロツ
ト15はリボン通路１の高さの上方50cmの高さにある。通
路13の長さは４メートルである。
この装置は特に、コーテイングプリカーサー材料とし
て酸化錫溶液からスタートした酸化錫のコーテイングを
塗着するように設計されている。
て酸化錫溶液からスタートした酸化錫のコーテイングを
塗着するように設計されている。
この装置を使つて、毎分8.5メートルの速度で移動す
る6mm厚さのガラスリボンに、厚さが750nmの酸化錫のコ
ーテイングを形成した。ガラスは600℃の温度でコーテ
イング室へ入り、ここで使用されるコーテイングプリカ
ーサー材料は、コーテイング中のイオンをドープ処理す
るために二弗化アンモニアをが有する塩化錫の水溶液で
あつた。この水溶液は毎時220の割合でノズルからス
プレーされ、その時、そのノズルは毎分22サイクルの割
合でリボン通路を横切つて往復した。
る6mm厚さのガラスリボンに、厚さが750nmの酸化錫のコ
ーテイングを形成した。ガラスは600℃の温度でコーテ
イング室へ入り、ここで使用されるコーテイングプリカ
ーサー材料は、コーテイング中のイオンをドープ処理す
るために二弗化アンモニアをが有する塩化錫の水溶液で
あつた。この水溶液は毎時220の割合でノズルからス
プレーされ、その時、そのノズルは毎分22サイクルの割
合でリボン通路を横切つて往復した。
前室33は事実上閉鎖されており、その中の大気は電気
抵抗ヒーターにより加熱された。
抵抗ヒーターにより加熱された。
スプレー区域の屋根にある輻射ヒーターが作動し、ガ
スは毎分7000Nm3の割合でオリフイス12から放出され、
温度は400℃であつた。また、リボンの下にある充満ボ
ツクス23から600℃の温度でガスが放出された。
スは毎分7000Nm3の割合でオリフイス12から放出され、
温度は400℃であつた。また、リボンの下にある充満ボ
ツクス23から600℃の温度でガスが放出された。
操作時、スプレーされたコーテイング先行材料の流れ
がリボンの高さに届くまで、溶液の大部分がその流れか
ら蒸発され、非常に小さな塩化錫液の小滴と塩化錫の蒸
気が残り、それがガラスに接着してコーテイングを形成
し始める。リボンの上方にあるスプレー区域９は塩化錫
の蒸気を含む循環する雰囲気で満たされこれは、排気ダ
クト17,18,19内で生じる吸引力により出口スロツト15を
通つて通路13へ引きこまれた。コーテイング室６内の大
気は小滴流の近くを除けば、事実上きれいであることが
わかつた。これはその流れの外側にある溶液や塩化錫の
全てが蒸気状態にあることを示し、その結果、ガラスが
コーテイングプリカーサー材料にさらされるコーテイン
グ室６の長さの大部分にわたつて、その部屋の大気が事
実上、液状物質を含んでいないことを示した。勿論、通
路13はコーテイング反応生成物を含んでいた。その通路
13の形状寸法やそこで生じる力の結果、出口スロツト15
を出る雰囲気材料は速度がゆつくりでかなり濃密な塩化
錫の蒸気が、そこに形成されるコーテイングと接触した
層を形成し、これがそのコーテイングを調整し、その時
同時に、密度の稀薄な溶媒蒸気とコーテイング反応生成
物は、排気ダクトへ直接流れていつた。これらの結果、
そこで形成されたコーテイングは、ガラスとコーテイン
グとの界面に結晶構造を有していた。これは高品質のコ
ーテイング構造にし、ひいてはすぐれて均一な光学的特
性を有し、かくして欠陥につながるコーテイング反応生
成物は含まれていなかつた。
がリボンの高さに届くまで、溶液の大部分がその流れか
ら蒸発され、非常に小さな塩化錫液の小滴と塩化錫の蒸
気が残り、それがガラスに接着してコーテイングを形成
し始める。リボンの上方にあるスプレー区域９は塩化錫
の蒸気を含む循環する雰囲気で満たされこれは、排気ダ
クト17,18,19内で生じる吸引力により出口スロツト15を
通つて通路13へ引きこまれた。コーテイング室６内の大
気は小滴流の近くを除けば、事実上きれいであることが
わかつた。これはその流れの外側にある溶液や塩化錫の
全てが蒸気状態にあることを示し、その結果、ガラスが
コーテイングプリカーサー材料にさらされるコーテイン
グ室６の長さの大部分にわたつて、その部屋の大気が事
実上、液状物質を含んでいないことを示した。勿論、通
路13はコーテイング反応生成物を含んでいた。その通路
13の形状寸法やそこで生じる力の結果、出口スロツト15
を出る雰囲気材料は速度がゆつくりでかなり濃密な塩化
錫の蒸気が、そこに形成されるコーテイングと接触した
層を形成し、これがそのコーテイングを調整し、その時
同時に、密度の稀薄な溶媒蒸気とコーテイング反応生成
物は、排気ダクトへ直接流れていつた。これらの結果、
そこで形成されたコーテイングは、ガラスとコーテイン
グとの界面に結晶構造を有していた。これは高品質のコ
ーテイング構造にし、ひいてはすぐれて均一な光学的特
性を有し、かくして欠陥につながるコーテイング反応生
成物は含まれていなかつた。
特に注目に値することは、くもりが非常に少ないこと
であり、この被覆ガラスでは、そのくもりも非常に均一
であつた。
であり、この被覆ガラスでは、そのくもりも非常に均一
であつた。
ここで形成されたコーテイングを、電子顕微鏡を使つ
て100000倍の倍率で写真にとつた。その写真を処理し
て、酸化錫のコーテイングの結晶の代表的サンプルが占
める部分を評価した。分析の結果、次の結果が示され
た。
て100000倍の倍率で写真にとつた。その写真を処理し
て、酸化錫のコーテイングの結晶の代表的サンプルが占
める部分を評価した。分析の結果、次の結果が示され
た。
コーテイングの厚み 750nm 期待される粒子の面積 492×10-4μm2 標準偏差 481×10-4μm2 歪度係数 3.9 このサンプルはまた、特許出願第8531423号として198
5年12月20日付で出願した英国特許出願に示した発明を
も使用している。
5年12月20日付で出願した英国特許出願に示した発明を
も使用している。
実施例 ２ 第２図の装置は、実施例１と同一速度で移動する、同
一厚みのガラスリボンに、同一のプリカーサー材料を使
つて同一厚みのコーテイングを形成するために使用され
た。スプレーノズル７もまた実施例１と同じようにコン
トロールされた。コーテイング室６はその全長が7.5メ
ートルであつた。
一厚みのガラスリボンに、同一のプリカーサー材料を使
つて同一厚みのコーテイングを形成するために使用され
た。スプレーノズル７もまた実施例１と同じようにコン
トロールされた。コーテイング室６はその全長が7.5メ
ートルであつた。
ガラスは600℃の温度でコーテイング室６へ入り、500
℃に予加熱された空気は各放出オリフイス36から毎時36
00Nm3の割合で放出された。その結果、スプレーされた
材料の大部分がリボンへ向つてその軌道を描きながら蒸
発し、残りの流れは連続し、ガラスに対して確実に衝撃
を与える。
℃に予加熱された空気は各放出オリフイス36から毎時36
00Nm3の割合で放出された。その結果、スプレーされた
材料の大部分がリボンへ向つてその軌道を描きながら蒸
発し、残りの流れは連続し、ガラスに対して確実に衝撃
を与える。
通路13に沿つて流れるプリカーサー材料がガラス基体
の高さの下で吸引されると、プリカーサー材料の蒸気を
含む雰囲気層はリボンに接触状態に保持され、それによ
つてコーテイングの仕上げを促進する。その吸引は約35
0℃の平均温度で、毎時、約70000m3の割合で行われた。
の高さの下で吸引されると、プリカーサー材料の蒸気を
含む雰囲気層はリボンに接触状態に保持され、それによ
つてコーテイングの仕上げを促進する。その吸引は約35
0℃の平均温度で、毎時、約70000m3の割合で行われた。
このことはまた、特にくもり要素が均一でかつ少いこ
とにより、高品質で均一のコーテイングを形成する、す
ぐれた結果を生じた。
とにより、高品質で均一のコーテイングを形成する、す
ぐれた結果を生じた。
そこで生じたコーテイングは、電子顕微鏡を使つて10
0000倍の倍率で写真撮影が行われた。その結果の写真は
酸化錫のコーテイング結晶の代表的なサンプルが占める
部分を評価するように処理された。分析ののち、次のこ
とがわかつた。即ち コーテイングの厚み 750nm 期待される粒子面積 559×10-4μm2 標準偏差 473×10-4μm2 歪度係数 1.3 この例はまた、出願第8531423号として、1985年12月2
0日付で出願した英国特許出願に記述している発明をも
使用している。
0000倍の倍率で写真撮影が行われた。その結果の写真は
酸化錫のコーテイング結晶の代表的なサンプルが占める
部分を評価するように処理された。分析ののち、次のこ
とがわかつた。即ち コーテイングの厚み 750nm 期待される粒子面積 559×10-4μm2 標準偏差 473×10-4μm2 歪度係数 1.3 この例はまた、出願第8531423号として、1985年12月2
0日付で出願した英国特許出願に記述している発明をも
使用している。
実施例 ３ 第４図の装置は600℃の温度でコーテイングステーシ
ヨンへ入るように、毎分8.5mの速度でフロート室から移
動する4mm厚さのガラスリボンに、弗素でドープ処理し
た400nm厚みの酸化錫のコーテイングを形成するために
使用された。コーテイング室の全長は８メートルであつ
た。
ヨンへ入るように、毎分8.5mの速度でフロート室から移
動する4mm厚さのガラスリボンに、弗素でドープ処理し
た400nm厚みの酸化錫のコーテイングを形成するために
使用された。コーテイング室の全長は８メートルであつ
た。
ここで使用したコーテングプリカーサー材料はそのコ
ーテイング中のイオンをドープ処理するために二弗化ア
ンモニウムを含む塩化錫の水溶液であつた。この水溶液
は毎時、110の割合でノズルからスプレーされた。そ
れらのノズルは皆、平行であつて、水平線に対して75゜
の角度に傾斜していた。それらのノズルはガラス基体の
上方、1.5mのところに位置していた。
ーテイング中のイオンをドープ処理するために二弗化ア
ンモニウムを含む塩化錫の水溶液であつた。この水溶液
は毎時、110の割合でノズルからスプレーされた。そ
れらのノズルは皆、平行であつて、水平線に対して75゜
の角度に傾斜していた。それらのノズルはガラス基体の
上方、1.5mのところに位置していた。
550℃に予加熱された空気が毎時、5000Nm3の割合で２
個の放出オリフイス51から放出され、蒸発したプリカー
サー材料の溶液を伴つて移動させた。補助ガス放出管52
から放出される空気はまた、500℃に前もつて加熱され
た。ガラス基体の高さより上方で生じる吸引は、コーテ
イング室へ送入されるか、その中に形成されるガス量の
バランスを保ち、材料の静かな下流への流れを促がすよ
うにコントロールされた。
個の放出オリフイス51から放出され、蒸発したプリカー
サー材料の溶液を伴つて移動させた。補助ガス放出管52
から放出される空気はまた、500℃に前もつて加熱され
た。ガラス基体の高さより上方で生じる吸引は、コーテ
イング室へ送入されるか、その中に形成されるガス量の
バランスを保ち、材料の静かな下流への流れを促がすよ
うにコントロールされた。
600℃に前もつて加熱された空気はガラス基体の通路
の下の放出装置22から毎時3000Nm3の割合で放出され
た。
の下の放出装置22から毎時3000Nm3の割合で放出され
た。
このプロセスはまた、事実上局部的な欠陥がなく、く
もりも大変少なく、均一な低くもり係数を有する高品質
のコーテイングを形成する結果となつた。
もりも大変少なく、均一な低くもり係数を有する高品質
のコーテイングを形成する結果となつた。
このコーテイングを、電子顕微鏡を使つて100000倍の
倍率で写真にとり、その写真は酸化錫のコーテイング結
晶の代表的なサンプルが占める部分を評価するように処
理した。分析の後、次の結果が出た。即ち、 コーテイングの厚み 400nm 期待される粒子面積 270×10-4μm2 標準偏差 175×10-4μm2 歪度係数 1.3 この例はまた、出願第8531423号として、1985年12月2
0日付で出願した英国特許出願に記載している発明をも
使用している。
倍率で写真にとり、その写真は酸化錫のコーテイング結
晶の代表的なサンプルが占める部分を評価するように処
理した。分析の後、次の結果が出た。即ち、 コーテイングの厚み 400nm 期待される粒子面積 270×10-4μm2 標準偏差 175×10-4μm2 歪度係数 1.3 この例はまた、出願第8531423号として、1985年12月2
0日付で出願した英国特許出願に記載している発明をも
使用している。
実施例 ４ 第５図の装置は、毎分8.5mの割合で移動し、600℃の
温度でコーテイング室へ入つてくる6mmのフロートガラ
スの3m幅のリボンに厚さ750nmのドープ処理した酸化錫
のコーテイングを形成するために使用された。コーテイ
ング室はその全長が８メートルであつた。二弗化アンモ
ニウムを含有する塩化錫の水溶液ガスプレーノズルを使
つて、ガラスの上方1.8mの高さから、25バールの圧力で
毎時約220の割合で放出された。そのノズルは水平線
に対して50゜の角度で下流方向へ傾斜し、毎分23サイク
ルの割合でリボン通路を横切つて往復した。
温度でコーテイング室へ入つてくる6mmのフロートガラ
スの3m幅のリボンに厚さ750nmのドープ処理した酸化錫
のコーテイングを形成するために使用された。コーテイ
ング室はその全長が８メートルであつた。二弗化アンモ
ニウムを含有する塩化錫の水溶液ガスプレーノズルを使
つて、ガラスの上方1.8mの高さから、25バールの圧力で
毎時約220の割合で放出された。そのノズルは水平線
に対して50゜の角度で下流方向へ傾斜し、毎分23サイク
ルの割合でリボン通路を横切つて往復した。
排気ダクト40（第３図と比較すること）および46を通
つて吸引される雰囲気材料の総量は約300゜〜350℃の温
度で毎時、約100000m3であつた。
つて吸引される雰囲気材料の総量は約300゜〜350℃の温
度で毎時、約100000m3であつた。
輻射式屋根ヒーター10が使用され、ガラスと接触する
前にコーテイングプリカーサー材料と溶媒との大部分を
蒸発させるようにした。
前にコーテイングプリカーサー材料と溶媒との大部分を
蒸発させるようにした。
放出オリフイス55はコーテイング室の幅全体にわたつ
て伸長し、それは毎時25000m3の割合で600℃に加熱され
た空気を放出するために使用された。
て伸長し、それは毎時25000m3の割合で600℃に加熱され
た空気を放出するために使用された。
その結果、そこで形成されたコーテイングは高品質の
構造を有し、リボンの幅全体にわたつて均等な厚みを有
し、ひいてはすぐれて均一な光学的特性を呈していた。
欠陥につながるようなコーテイング反応生成物は事実上
含まれていなかつた。
構造を有し、リボンの幅全体にわたつて均等な厚みを有
し、ひいてはすぐれて均一な光学的特性を呈していた。
欠陥につながるようなコーテイング反応生成物は事実上
含まれていなかつた。
予加熱された空気は前室33から入口スロツト31を通つ
てコーテイング室６へ引き込まれた。
てコーテイング室６へ引き込まれた。
ここで生じたコーテイングは、電子顕微鏡を使つて10
0000倍の倍率で写真にとられ、それらの写真は酸化錫の
コーテイング結晶の代表的なサンプルが占める部分を評
価するように処理された。分析後、次のような結果が示
された。
0000倍の倍率で写真にとられ、それらの写真は酸化錫の
コーテイング結晶の代表的なサンプルが占める部分を評
価するように処理された。分析後、次のような結果が示
された。
コーテイングの厚み 750nm 期待される粒子面積 627×10-4μm2 標準偏差 549×10-4μm2 歪度係数 1.3 この例はまた、出願第8531424号として、1985年12月2
0日付で出願した英国特許出願に説明している発明と、
特許出願第8531425号として1985年12月20日付で出願し
た英国特許出願に説明している発明とを使用している。
0日付で出願した英国特許出願に説明している発明と、
特許出願第8531425号として1985年12月20日付で出願し
た英国特許出願に説明している発明とを使用している。
変形例として、予加熱空気を前室33へ確実に吹き込ん
だ。
だ。
この実施例のもう一つの変形として、ガラスを620℃
にしてみた。熱気がスプレーノズル７に関連している放
出オリフイス55を通つて、550℃の温度で、毎時約5000m
3の割合でスプレー区域９へ吹き込まれた。その結果、
スプレー区域９にある噴霧されたコーテイングプリカー
サー材料の多くは液状であつた。この変形例において、
統計的分析の結果は次のとおりであつた。
にしてみた。熱気がスプレーノズル７に関連している放
出オリフイス55を通つて、550℃の温度で、毎時約5000m
3の割合でスプレー区域９へ吹き込まれた。その結果、
スプレー区域９にある噴霧されたコーテイングプリカー
サー材料の多くは液状であつた。この変形例において、
統計的分析の結果は次のとおりであつた。
コーテイングの厚み 750nm 期待される粒子の面積 400×10-4μm2 標準偏差 471×10-4μm2 歪度係数 2.75 このような歪度係数の増加はコーテイングが液体状と
蒸気状のコーテイングプリカーサー材料の混合物で形成
されたことに起因する。この変形例において、くもり係
数は、この例の第１部分に従つて形成されたコーテイン
グのくもり係数より小であつた。
蒸気状のコーテイングプリカーサー材料の混合物で形成
されたことに起因する。この変形例において、くもり係
数は、この例の第１部分に従つて形成されたコーテイン
グのくもり係数より小であつた。
結晶の粒子面積の母集団分布を電子マイクログラフで
測定したものが第６図のグラフに示されている。
測定したものが第６図のグラフに示されている。
第６図において、まず結晶面積のサイズのインターバ
ルを50×10-4μm2単位でとり、各インターバルに含まれ
る結晶の数を計算し、それを各それぞれのインターバル
の中心にプロツトする。各インターバルにおける結晶の
数を縦軸に沿つてとり、10-4μm2単位での面積を横軸に
とる。そこでプロツトしたものが第６図の実線で示すも
のである。これは第６図に点線で示す理論上のガンマ分
布曲線と大変うまく一致したガンマ型分布であるといえ
る。
ルを50×10-4μm2単位でとり、各インターバルに含まれ
る結晶の数を計算し、それを各それぞれのインターバル
の中心にプロツトする。各インターバルにおける結晶の
数を縦軸に沿つてとり、10-4μm2単位での面積を横軸に
とる。そこでプロツトしたものが第６図の実線で示すも
のである。これは第６図に点線で示す理論上のガンマ分
布曲線と大変うまく一致したガンマ型分布であるといえ
る。
実施例 ５ 第５図の装置に基づいた変形装置を、酸化錫のコーテ
イングを作るために使用した。その装置の変形とすると
ころは次の如くであつた。
イングを作るために使用した。その装置の変形とすると
ころは次の如くであつた。
第２図に示すようなスプレー区域のダクト37,38を付
加した。
加した。
リボンの下の排気システム39,41の代わりに第４図に
示すような側部排気ダクト49を使用し、ガラス基体通路
の下に、第４図に示すようなガス放出装置22を組込ん
だ。
示すような側部排気ダクト49を使用し、ガラス基体通路
の下に、第４図に示すようなガス放出装置22を組込ん
だ。
毎分8.5mで移動し、600℃の温度でコーテイング室へ
入つてくる6mmのフロートガラスの3m幅のリボンに、0.2
％の酸化アンチモニイでドープ処理した750nmのコーテ
イングが形成された。コーテイング室の全長は８メート
ルであつた。塩化アンチモニイを含有する塩化錫の水溶
液が、スプレーノズルを使つて、ガラスの上方1.5mの高
さから毎時約230の割合で、25バールの圧力で放出さ
れた。前記スプレーノズルは水平線に対して47゜の角度
で下流方向へ傾斜し、このノズルはリボンの通路を横切
つて往復した。
入つてくる6mmのフロートガラスの3m幅のリボンに、0.2
％の酸化アンチモニイでドープ処理した750nmのコーテ
イングが形成された。コーテイング室の全長は８メート
ルであつた。塩化アンチモニイを含有する塩化錫の水溶
液が、スプレーノズルを使つて、ガラスの上方1.5mの高
さから毎時約230の割合で、25バールの圧力で放出さ
れた。前記スプレーノズルは水平線に対して47゜の角度
で下流方向へ傾斜し、このノズルはリボンの通路を横切
つて往復した。
ヒーター10はスプレー区域９の上半分にあるスプレー
材料の大部分を蒸発させるようにコントロールされてい
た。スプレーノズル７が往復し、それによつて流れのパ
ターンが生じるために、この蒸発した材料はスプレー区
域の上方部分にある空気と直ちに混合することになる。
材料の大部分を蒸発させるようにコントロールされてい
た。スプレーノズル７が往復し、それによつて流れのパ
ターンが生じるために、この蒸発した材料はスプレー区
域の上方部分にある空気と直ちに混合することになる。
通路13の排気ダクトを通つて吸引される雰囲気材料の
全量は、約350℃の温度で毎時、約60000m3であつた。ス
プレー区域のダクトを通る吸引は、スプレー区域９の下
流端の上方部分にある大気をきれいに保持するのに必要
な最低レベルに保持された。
全量は、約350℃の温度で毎時、約60000m3であつた。ス
プレー区域のダクトを通る吸引は、スプレー区域９の下
流端の上方部分にある大気をきれいに保持するのに必要
な最低レベルに保持された。
熱気は620℃の温度で（そこにあるリボンと同じ温
度）、しかも毎時約7000Nm3の割合でダクト（図示せ
ず）を通つて前室33へ下向きに吹きつけられた。ブリツ
ジ壁44は、入口スロツト31がリボンの幅全体にわたつて
均一な開口となるように調整がなされた。
度）、しかも毎時約7000Nm3の割合でダクト（図示せ
ず）を通つて前室33へ下向きに吹きつけられた。ブリツ
ジ壁44は、入口スロツト31がリボンの幅全体にわたつて
均一な開口となるように調整がなされた。
550℃に前もつて加熱された空気は、ガラス基体の通
路の下の放出装置から毎時3000Nm3の割合で放出され
た。
路の下の放出装置から毎時3000Nm3の割合で放出され
た。
このプロセスはまた、事実上欠陥のないコーテイング
を形成した。この場合、コーテイングが青味がかかつて
いて、すぐれた光学的特性と厚みの均一性を有してい
た。
を形成した。この場合、コーテイングが青味がかかつて
いて、すぐれた光学的特性と厚みの均一性を有してい
た。
ここで生じたコーテイングを、電子顕微鏡を使つて10
0000倍の倍率で写真にとつた。その写真は、酸化錫のコ
ーテイング結晶の代表的なサンプルで占める部分を評価
するように処理した。分析後、次のような結果が得られ
た。
0000倍の倍率で写真にとつた。その写真は、酸化錫のコ
ーテイング結晶の代表的なサンプルで占める部分を評価
するように処理した。分析後、次のような結果が得られ
た。
コーテイング厚み 750nm 期待される粒子の面積 407×10-4μm2 標準偏差 492×10-4μm2 歪度係数 1.6 この例はまた、出願第8531424号として、1985年12月2
0日付で出願した英国特許出願に示した発明をも使用し
ている。
0日付で出願した英国特許出願に示した発明をも使用し
ている。
実施例 ６ 第４図に示す装置と同じ装置を使つて580℃の温度で
コーテイングステーシヨンに入るように、毎分8.5mの速
度でフロート室から移動するガラスの5mm厚さのリボン
に、400nm厚みの弗素でドープ処理した酸化錫のコーテ
イングを形成した。この例において、リボンの下のガス
放出装置は使用されず、補助ガス放出管52も使用されな
かつた。コーテイング室はその全長が８メートルであつ
た。単一の往復式スプレーノズルを使用した。
コーテイングステーシヨンに入るように、毎分8.5mの速
度でフロート室から移動するガラスの5mm厚さのリボン
に、400nm厚みの弗素でドープ処理した酸化錫のコーテ
イングを形成した。この例において、リボンの下のガス
放出装置は使用されず、補助ガス放出管52も使用されな
かつた。コーテイング室はその全長が８メートルであつ
た。単一の往復式スプレーノズルを使用した。
ここで用いたコーテイングプリカーサー材料は、その
コーテイングのイオンをドープ処理するために二弗化ア
ンモニウムを含有する塩化錫の水溶液であつた。この水
溶液は23バールの圧力のもとに、毎時110の割合でス
プレーが行われた。その時、ノズルは毎分22サイクルの
割合で往復動した。このノズルは実施例３と同じように
配置した。
コーテイングのイオンをドープ処理するために二弗化ア
ンモニウムを含有する塩化錫の水溶液であつた。この水
溶液は23バールの圧力のもとに、毎時110の割合でス
プレーが行われた。その時、ノズルは毎分22サイクルの
割合で往復動した。このノズルは実施例３と同じように
配置した。
放出オリフイス51から予加熱空気が放出された。
ガラス光学的特性の高さより上方で生じる吸引は毎
時、80000m3の割合に保持され、それによつてコーテイ
ング室内の材料を静かに下流へ流すことができた。
時、80000m3の割合に保持され、それによつてコーテイ
ング室内の材料を静かに下流へ流すことができた。
このプロセスはまた、事実上局部的欠陥のない、高度
に均一なコーテイングを形成することとなつた。
に均一なコーテイングを形成することとなつた。
このコーテイングを電子顕微鏡を使つて、100000倍の
倍率で写真にとり、それらの写真は、酸化錫のコーテイ
ングの結晶の代表的なサンプルが占める面積を評価する
ように処理した。分析後、次のような結果が得られた。
倍率で写真にとり、それらの写真は、酸化錫のコーテイ
ングの結晶の代表的なサンプルが占める面積を評価する
ように処理した。分析後、次のような結果が得られた。
コーテイングの厚み 400nm 期待される粒子面積 247×10-4μm2 標準偏差 125×10-4μm2 歪度係数 0.8 この例はまた、出願第8531424号として1985年12月20
日付で出願した英国特許出願に示した発明をも使用して
いる。
日付で出願した英国特許出願に示した発明をも使用して
いる。
この例の標準偏差が比較的小さく、期待される粒子面
積もたつた半分ということは、コーテイング操作時の温
度がわずかに低かつたことによる。
積もたつた半分ということは、コーテイング操作時の温
度がわずかに低かつたことによる。
実施例 ７ 第５図に示す装置に基づいた装置を使つて厚みが750n
mの酸化錫コーテイングが、毎分8.5mの速度で移動する
フロートガラスの6mm厚さのリボンに形成された。
mの酸化錫コーテイングが、毎分8.5mの速度で移動する
フロートガラスの6mm厚さのリボンに形成された。
この装置において、コーテイング室６は幅3mよりちよ
つと大きく、約３メートルまでの幅のガラスリボンを使
用するようになつていた。コーテイング室のスプレー区
域９の上方にある屋根構造体５はリボン通路１の高さの
上方、１メートルであり、小滴放出ノズル７のスプレー
オリフイスは前記屋根の高さに近い。そのノズル７は円
錐形小滴流を水平線に対して45゜の角度で方向８へ向つ
て放出するように配置される。スプレー区域９の下流端
にあるブリツジ壁14はコーテイング室の上流端壁から2.
2メートルの距離だけ離れて位置する。通路13は、出口
スロツト15のところで40cmの高さあり、そこからその下
流端部では25cmとなるように低くなる。その通路13の長
さは4.5メートルである。
つと大きく、約３メートルまでの幅のガラスリボンを使
用するようになつていた。コーテイング室のスプレー区
域９の上方にある屋根構造体５はリボン通路１の高さの
上方、１メートルであり、小滴放出ノズル７のスプレー
オリフイスは前記屋根の高さに近い。そのノズル７は円
錐形小滴流を水平線に対して45゜の角度で方向８へ向つ
て放出するように配置される。スプレー区域９の下流端
にあるブリツジ壁14はコーテイング室の上流端壁から2.
2メートルの距離だけ離れて位置する。通路13は、出口
スロツト15のところで40cmの高さあり、そこからその下
流端部では25cmとなるように低くなる。その通路13の長
さは4.5メートルである。
ガラスは600℃の温度でコーテイング室へ入り、コー
テイングプリカーサー材料は、コーテイング中のイオン
をドープ処理するために二弗化アンモニウムを含有する
塩化錫の水溶液であつた。この水溶液は毎時220の割
合でノズルからスプレーされ、その時、ノズルはリボン
通路を横切つて往復した。
テイングプリカーサー材料は、コーテイング中のイオン
をドープ処理するために二弗化アンモニウムを含有する
塩化錫の水溶液であつた。この水溶液は毎時220の割
合でノズルからスプレーされ、その時、ノズルはリボン
通路を横切つて往復した。
スプレー区域の屋根にある輻射式ヒーターのスイツチ
が入れられ、空気が毎分6000Nm3の割合で、400℃の温度
でオリフイス55を通つて放出された。その結果、コーテ
イングプリカーサー材料のスプレー流の一部は蒸発し、
残りの部分だけがガラスに確実にぶつかつた。このよう
にして形成されたコーテイングプリカーサー材料の蒸気
はオリフイス55から放出された予加熱空気の流れにの
り、出口スロツト15を通り、通路13に沿つて排気ダクト
46へ流れた。
が入れられ、空気が毎分6000Nm3の割合で、400℃の温度
でオリフイス55を通つて放出された。その結果、コーテ
イングプリカーサー材料のスプレー流の一部は蒸発し、
残りの部分だけがガラスに確実にぶつかつた。このよう
にして形成されたコーテイングプリカーサー材料の蒸気
はオリフイス55から放出された予加熱空気の流れにの
り、出口スロツト15を通り、通路13に沿つて排気ダクト
46へ流れた。
排気ダクトの中で吸引力が生じ、約350℃の平均温度
でコーテイング室から雰囲気材料を毎時、約100000m3移
動させ、かくしてヒーター34により予加熱されたガスの
ブランケツト層を引つぱり、それがガラス基体をカバー
する。
でコーテイング室から雰囲気材料を毎時、約100000m3移
動させ、かくしてヒーター34により予加熱されたガスの
ブランケツト層を引つぱり、それがガラス基体をカバー
する。
これはコーテイングを形成し始める部分でガラス基体
の真上で大気を法外にうまくコントロールすることがわ
かつた。このことは、必要な厚みのコーテイングを規則
正しく形成することに特に効果的であり、必要な厚みの
コーテイングが形成されるリボンの幅を有することもわ
かつた。
の真上で大気を法外にうまくコントロールすることがわ
かつた。このことは、必要な厚みのコーテイングを規則
正しく形成することに特に効果的であり、必要な厚みの
コーテイングが形成されるリボンの幅を有することもわ
かつた。
その結果、ここで形成されたコーテイングは高品質の
結晶構造体を有し、ひいては光学的特性がすぐれていて
均一であり、しかも欠陥に結びつくようなコーテイング
反応生成物も含んでいなかつた。
結晶構造体を有し、ひいては光学的特性がすぐれていて
均一であり、しかも欠陥に結びつくようなコーテイング
反応生成物も含んでいなかつた。
このコーテイングを、電子顕微鏡を使つて100000倍の
倍率で写真をとり、それらの写真は、酸化錫のコーテイ
ング結晶の代表的サンプルが占める部分を評価するよう
に処理がなされた。分析後、次のような結果が得られ
た。
倍率で写真をとり、それらの写真は、酸化錫のコーテイ
ング結晶の代表的サンプルが占める部分を評価するよう
に処理がなされた。分析後、次のような結果が得られ
た。
コーテイングの厚み 750nm 期待される粒子面積 520×10-4μm2 標準偏差 444×10-4μm2 歪度係数 1.4 この例はまた、出願第8531423号として1985年12月20
日付で出願された英国特許出願に記載した発明と、出願
第8531425号として、1985年12月20日付で出願した英国
特許出願に記載している発明も使用した。
日付で出願された英国特許出願に記載した発明と、出願
第8531425号として、1985年12月20日付で出願した英国
特許出願に記載している発明も使用した。
実施例 ８ 第５図に示す装置に基づいた装置を使用し、実施例７
と同一厚みで、それと同一速度で移動するガラスリボン
に、同一厚みの酸化錫のコーテイングを形成した。ここ
で用いたコーテイングプリカーサー材料は、ジメチルフ
オルムアミド中に溶解した塩化錫であり、これはリボン
の上方75cmのところにあるスプレーノズル７から放出さ
れた。このスプレーノズルは水平線に対して30゜だけ傾
斜していた。塩化錫の蒸気が、スプレーノズル７の高さ
とガス放出オリフイス55との間で上流端部壁43の殆ど全
長にわたつて伸長するスロツト（図示せず）とから放出
された。スプレー区域９に形成された蒸気は、排気ダク
ト46だけを通つて、所望の厚みのコーテイングにするよ
うにある割合で通路13に沿つて前部吸引により吸引され
た。
と同一厚みで、それと同一速度で移動するガラスリボン
に、同一厚みの酸化錫のコーテイングを形成した。ここ
で用いたコーテイングプリカーサー材料は、ジメチルフ
オルムアミド中に溶解した塩化錫であり、これはリボン
の上方75cmのところにあるスプレーノズル７から放出さ
れた。このスプレーノズルは水平線に対して30゜だけ傾
斜していた。塩化錫の蒸気が、スプレーノズル７の高さ
とガス放出オリフイス55との間で上流端部壁43の殆ど全
長にわたつて伸長するスロツト（図示せず）とから放出
された。スプレー区域９に形成された蒸気は、排気ダク
ト46だけを通つて、所望の厚みのコーテイングにするよ
うにある割合で通路13に沿つて前部吸引により吸引され
た。
ガラスは600℃の温度でコーテイング室６へ入り、600
℃に予加熱された空気は毎時、3000Nm3の割合で、図示
していないダクトから前室33へ放出され、ブランケツト
層がガラスをカバーする時、コーテイング室へ流入す
る。
℃に予加熱された空気は毎時、3000Nm3の割合で、図示
していないダクトから前室33へ放出され、ブランケツト
層がガラスをカバーする時、コーテイング室へ流入す
る。
スプレー区域９内の雰囲気材料は、密に混合され、蒸
気を含む大気の連続流が、コーテイングが形成されるガ
ラス基体の表面と接触した状態で通路13に沿つて引つぱ
られる。
気を含む大気の連続流が、コーテイングが形成されるガ
ラス基体の表面と接触した状態で通路13に沿つて引つぱ
られる。
550℃に予加熱された空気は、基体通路の下の放出装
置（第４図と比較のこと）から、毎時、3000Nm3の割合
で放出された。
置（第４図と比較のこと）から、毎時、3000Nm3の割合
で放出された。
これはまた、高度の均一性をもつコーテイングが形成
される点ですぐれた結果が得られた。
される点ですぐれた結果が得られた。
ここで得られたコーテイングは、電子顕微鏡を使つて
100000倍の倍率で写真にとり、それらの写真は、酸化錫
のコーテイング結晶の代表的なサンプルが占める部分を
評価するように処理した。分析後、次のような結果が得
られた。
100000倍の倍率で写真にとり、それらの写真は、酸化錫
のコーテイング結晶の代表的なサンプルが占める部分を
評価するように処理した。分析後、次のような結果が得
られた。
コーテイングの厚め 750nm 期待される粒子面積 474×10-4μm2 標準偏差 467×10-4μm2 歪度係数 1.3 この例もまた、出願第8531425号として1985年12月20
日付で出願した英国特許出願に説明した発明をも使用し
ている。
日付で出願した英国特許出願に説明した発明をも使用し
ている。
実施例 ９ 第2,3図に示す装置に基づいた装置が使用され、600℃
の範囲でコーテイング室へ入るように毎分8.5mの速度で
移動する5mmのフロートガラスのリボンに、弗素でドー
プ処理した酸化錫の厚さ400nmのコーテイングを形成し
た。
の範囲でコーテイング室へ入るように毎分8.5mの速度で
移動する5mmのフロートガラスのリボンに、弗素でドー
プ処理した酸化錫の厚さ400nmのコーテイングを形成し
た。
さらに符号50で示すような、リボンの下のブロワーが
前室33の下に配置され、遮壁30が入口スロツト31の開口
を調整するためにゲイトとして構成された。ガスの流入
ダクトおよび排気ダクト35〜38はスプレー区域９から除
去され、その区域の上方には、10（第１図）のような輻
射式ヒーターが配設された。
前室33の下に配置され、遮壁30が入口スロツト31の開口
を調整するためにゲイトとして構成された。ガスの流入
ダクトおよび排気ダクト35〜38はスプレー区域９から除
去され、その区域の上方には、10（第１図）のような輻
射式ヒーターが配設された。
ここで用いたコーテイングプリカーサー材料は、その
コーテイング中のイオンをドープ処理するために二弗化
アンモニウムを含有する塩化錫の溶液であつた。この溶
液は23バールの圧力のもとで毎時、120の割合でノズ
ルからスプレーされ、その時、ノズルは毎分23サイクル
の割合で往復移動した。
コーテイング中のイオンをドープ処理するために二弗化
アンモニウムを含有する塩化錫の溶液であつた。この溶
液は23バールの圧力のもとで毎時、120の割合でノズ
ルからスプレーされ、その時、ノズルは毎分23サイクル
の割合で往復移動した。
600℃に前もつて加熱された空気はリボンの下のブロ
ワーから前室33へ放出され、それからガラスをカバーす
るブランケツト層を形成するようにコーテイング室へ引
きこまれた。排気システム39〜41を通る吸引は約350℃
の温度で毎時60000m3の割合で行われ、それによつてコ
ーテイング室内に材料の静かな下流への流れが保持され
た。
ワーから前室33へ放出され、それからガラスをカバーす
るブランケツト層を形成するようにコーテイング室へ引
きこまれた。排気システム39〜41を通る吸引は約350℃
の温度で毎時60000m3の割合で行われ、それによつてコ
ーテイング室内に材料の静かな下流への流れが保持され
た。
輻射式屋根ヒーターにスイツチが入り、ガラス基体へ
向つて移動する間、スプレーされたコーテイングプリカ
ーサー材料を蒸発させた。スプレーノズルの往復動によ
り生じる乱流や、コーテイングプリカーサー材料のスプ
レー流のために、蒸発材料はスプレー区域９内の空気と
密に混合しこの蒸気を含む大気は通路13に沿つて出口ス
ロツト15へ引きこまれた。コーテイングプリカーサー材
料の蒸気はガラスと接触している大気のブランケツト層
と混合し、必要な厚みのコーテイングが塗着された。
向つて移動する間、スプレーされたコーテイングプリカ
ーサー材料を蒸発させた。スプレーノズルの往復動によ
り生じる乱流や、コーテイングプリカーサー材料のスプ
レー流のために、蒸発材料はスプレー区域９内の空気と
密に混合しこの蒸気を含む大気は通路13に沿つて出口ス
ロツト15へ引きこまれた。コーテイングプリカーサー材
料の蒸気はガラスと接触している大気のブランケツト層
と混合し、必要な厚みのコーテイングが塗着された。
前室33には、その中の大気を予加熱するためにヒータ
ー34が取付けられていた。これらのヒーターは、例えば
前室の側部で大部分の程度まで所望の温度プロフイルに
従つて空気を加熱することができる。
ー34が取付けられていた。これらのヒーターは、例えば
前室の側部で大部分の程度まで所望の温度プロフイルに
従つて空気を加熱することができる。
この例のプロセスにより形成されたコーテイングは非
常に高品質を有し、事実上リボンの幅全体にわたつて均
一な外観を有していた。
常に高品質を有し、事実上リボンの幅全体にわたつて均
一な外観を有していた。
そこで生じたコーテイングは電子顕微鏡を使つて1000
00倍の倍率で写真をとり、それらの写真は、酸化錫のコ
ーテイング結晶の代表的なサンプルが占める部分を評価
するように処理した。分析後、次の結果が示された。
00倍の倍率で写真をとり、それらの写真は、酸化錫のコ
ーテイング結晶の代表的なサンプルが占める部分を評価
するように処理した。分析後、次の結果が示された。
コーテイングの厚み 400nm 期待される粒子面積 247×10-4μm2 標準偏差 125×10-4μm2 歪度係数 0.8 この例はまた、出願第8531424号として1985年12月20
日付で出願した英国特許出願に記載した発明と、出願第
8531425号として、1985年12月20日付で出願した英国特
許出願に記載している発明をも使用している。
日付で出願した英国特許出願に記載した発明と、出願第
8531425号として、1985年12月20日付で出願した英国特
許出願に記載している発明をも使用している。
実施例 10 第５図に示す装置に基づいた装置を、使用して、厚さ
257nmの酸化錫コーテイングを形成した。その装置は前
室33を使用しなかつた。コーテイング室６の長さは約６
メートルであつた。
257nmの酸化錫コーテイングを形成した。その装置は前
室33を使用しなかつた。コーテイング室６の長さは約６
メートルであつた。
ガラスリボンは毎分10mの程度で600℃の温度でコーテ
イング室へ入つてきた。
イング室へ入つてきた。
ここで使用したコーテイングプリカーサー材料は、そ
のコーテイング中のイオンをドープ処理するために二弗
化アンモニウムを含有する塩化錫の溶液であつた。この
溶液は20バールの圧力で毎時70の割合でノズルからス
プレーされた。その時、ノズルは毎分22サイクルの割合
で往復動した。そのノズルはガラスの高さの上方1mの位
置にあり、45゜の角度をもつて下向きに配置されてい
た。
のコーテイング中のイオンをドープ処理するために二弗
化アンモニウムを含有する塩化錫の溶液であつた。この
溶液は20バールの圧力で毎時70の割合でノズルからス
プレーされた。その時、ノズルは毎分22サイクルの割合
で往復動した。そのノズルはガラスの高さの上方1mの位
置にあり、45゜の角度をもつて下向きに配置されてい
た。
600℃に予加熱された空気が放出オリフイス55を通つ
てスプレー区域へ放出された。その放出割合や、雰囲気
材料がコーテイング室から吸引される割合は、必要な厚
みのコーテイングを作るように調整が行われた。
てスプレー区域へ放出された。その放出割合や、雰囲気
材料がコーテイング室から吸引される割合は、必要な厚
みのコーテイングを作るように調整が行われた。
この例のプロセスにより形成されたコーテイングもま
た、非常に高品質で均一な外観を有していた。その特性
は次のとおりであつた。
た、非常に高品質で均一な外観を有していた。その特性
は次のとおりであつた。
コーテイング厚み 257nm 期待される粒子面積 127×10-4μm2 標準偏差 73×10-4μm2 歪度係数 1.3 この例もまた、出願第8531424号として1985年12月20
日付で出願した英国特許出願に説明している発明を使用
している。
日付で出願した英国特許出願に説明している発明を使用
している。
実施例 11〜19 前述の各例を変形したものにおいて、装置は、シート
状に切断して再加熱したガラスにコーテイングを形成す
るために使用された。この方法は他のものも同様であつ
た。
状に切断して再加熱したガラスにコーテイングを形成す
るために使用された。この方法は他のものも同様であつ
た。
コーテイングの品質に関しては似たような結果が生じ
た。
た。
第1,2,4,5図は各々、コーテイング装置の実施例の横断
側面図であり、 第３図は第２図のIII−III線に沿つてとつた断面図であ
り、 第６図は結晶部分についての母集団密度グラフである。 ＜図中符号＞ １……ガラス基体の通路、２……ローラー ４……コーテイングステーシヨン、５……屋根構造体 ６……コーテイング室、７……スプレーノズル ９……スプレー区域、10……輻射型ヒーター 11……ダクト、12……放出オリフイス 13……通路、14……ブリツジ壁 15……出口スロツト、16……ガスジエツトノズル 17,18,19……排気ダクト、20……入口 21……邪魔板、22……ガス放出装置 23……充満室、24……スロツト 25……転向舌片、26……転向板 27……バイヤ壁、28……焼きなましレア 29……屋根、31,32……遮壁 31……入口スロツト、33……前室 34……ヒーター、35……一対のダクト 36……放出オリフイス、37……入口 39……排気ボツクス、40……排気ダクト 44……ブリツジ壁、50……ブロワー 51……放出オリフイス、52……補助ガス放出管 56……よろい板
側面図であり、 第３図は第２図のIII−III線に沿つてとつた断面図であ
り、 第６図は結晶部分についての母集団密度グラフである。 ＜図中符号＞ １……ガラス基体の通路、２……ローラー ４……コーテイングステーシヨン、５……屋根構造体 ６……コーテイング室、７……スプレーノズル ９……スプレー区域、10……輻射型ヒーター 11……ダクト、12……放出オリフイス 13……通路、14……ブリツジ壁 15……出口スロツト、16……ガスジエツトノズル 17,18,19……排気ダクト、20……入口 21……邪魔板、22……ガス放出装置 23……充満室、24……スロツト 25……転向舌片、26……転向板 27……バイヤ壁、28……焼きなましレア 29……屋根、31,32……遮壁 31……入口スロツト、33……前室 34……ヒーター、35……一対のダクト 36……放出オリフイス、37……入口 39……排気ボツクス、40……排気ダクト 44……ブリツジ壁、50……ブロワー 51……放出オリフイス、52……補助ガス放出管 56……よろい板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロベール・ヴアン・ラエタン ベルギー国ベ 6270−ジエルピヌ、ル、 モルレーヌ （番地なし)
Claims (9)
- 【請求項１】酸化錫層は少くとも200nmの厚みを有し、1
0-4μm2単位で測定した時、酸化錫のコーテイングの結
晶の代表的なサンプルの期待される粒子面積は数字的に
は、ナノメーターで測定した層の厚みの少くとも0.4倍
の値に等しいことを特徴とする酸化錫のコーテイング層
をつけた平板ガラス。 - 【請求項２】横軸に粒子面積をとり、縦軸にインターバ
ルをとって、その所与のインターバル内にある粒子面積
を有する酸化錫の結晶の代表的なサンプルの結晶の数を
プロツトすることにより母集団密度曲線を作る時、その
曲線は正の歪度係数を有することを特徴とする特許請求
の範囲第１項に記載の平板ガラス。 - 【請求項３】母集団密度曲線は少くとも１の歪度係数を
有することを特徴とする特許請求の範囲第２項に記載の
平板ガラス。 - 【請求項４】酸化錫のコーテイングの結晶の代表的なサ
ンプルの粒子面積の標準偏差は期待値の少くとも半分で
あることを特徴とする特許請求の範囲第２項、または第
３項に記載の平板ガラス。 - 【請求項５】酸化錫のコーテイングの結晶の代表的なサ
ンプルの粒子面積の標準偏差は期待値の少くとも0.7倍
であることを特徴とする特許請求の範囲第４項に記載の
平板ガラス。 - 【請求項６】10-4μm2単位で測定した酸化錫コーテイン
グの結晶の代表的サンプルの期待される粒子面積は数字
的に、ナノメーターで測定した層の厚みの少くとも0.5
倍の値に等しいことを特徴とする前述の特許請求の範囲
第１〜５項のいずれか１項に記載の平板ガラス。 - 【請求項７】酸化錫層は少くとも300nmの厚みを有する
ことを特徴とする前述の特許請求の範囲第１〜６項のい
ずれか１項に記載の平板ガラス。 - 【請求項８】酸化錫層は少くとも700nmの厚みを有する
ことを特徴とする特許請求の範囲第７項に記載の平板ガ
ラス。 - 【請求項９】酸化錫コーテイングの結晶の代表的なサン
プルの期待される粒子面積は、350×10-4μm2〜700×10
-4μm2の範囲にあることを特徴とする特許請求の範囲第
８項に記載の平板ガラス。
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| GB8531424 | 1985-12-20 | ||
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| GB858531424A GB8531424D0 (en) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | Coating glass |
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| GB8531425A GB2187184B (en) | 1985-12-20 | 1985-12-20 | Process and apparatus for pyrolytically coating glass |
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