JPH0367979B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガラス質基体を被覆ステーシヨン中の
通路にそつて一定方向（以下下流方向と称す）に
連続的に進行させ、液状被覆ブレカーサー材料が
被覆ステーシヨンで基体と接触するよう該プレカ
ーサー材料の液滴を下流方向に放出させ、被覆ス
テーシヨンから下流方向へと蒸気を連続的に抜き
とり、次いで基体を徐冷することによりシート状
またはリボン状の高温ガラス質基体の一面に金属
あるいは金属化合物被覆を形成せしめる方法に関
するものである。

上記種類の方法は、冷えばガラスの見掛けの色
を変えるためおよび／または赤外反射性の如く入
射光線に関して他の所望特性を付与するための表
面被覆を形成する方法として英国特許第1516032
号に記載されている。

被覆プレカーサー材料は英国特許第1523991号
記載の如く、例えば溶液のような液相で適用され
る。

上述の如き方法のいくつかでは、放出される被
覆用プレカーサー材料は単一プレカーサー物質で
あり、また別の方法では複数の物質例えば主被覆
成分プレーカーサーと付加的被覆成分プレーカー
サーからなる。こういつた複数のプレカーサー物
質を基体上に放出させる場合、それらは混合し
て、あるいはビーエフジー・グラスグループの英
国特許出願第8118611号（公告番号GB2078213A）
に記載されているように別々に放出することがで
きる。

上述の方法は、フロートガラス製造装置例えば
引上げ機あるいはフロートタンクからの運搬中に
ガラスリボン上に金属酸化物被覆を形成せしめる
のに特に有用である。

市場で間々要求される高度の品質基準を満たす
被覆を作るのは容易ではない。

遭遇する重大な問題の一つはガラスに対する被
覆の付着の不均一性である。別の問題点は得られ
る被覆の内部構造の不均一性である。こういつた
問題における困難性は被覆プレカーサー材料の適
用速度が大となるにつれ増大するので、厚い被覆
を作るときおよび／または新らしく作られるフロ
ートガラスのリボンを被覆するときの如く基体が
迅速に被覆ステーシヨン中を通されるとき特に重
大である。

本発明の目的は前述の種類の方法で作れる被覆
の密着性の均一性および構造の均一性を改善する
にある。

本発明に従えば、ガラス質基体を被覆ステーシ
ヨン中の通路にそつて一定方向（下流方向）に連
続的に進行させ、液状被覆プレカーサー材料の液
滴をかかる材料が被覆ステーシヨンで基体と接触
するよう下流方向に放出させ、被覆ステーシヨン
から蒸気を下流方向に連続的に抜きとり、次いで
基体の徐冷することによりシートあるいはリボン
状の高温ガラス質基体の一面に金属または金属化
合物の被覆を形成せしめる方法で、高温被覆基体
が前記被覆ステーシヨンから再加熱ステーシヨン
を通り徐冷レアへの通過せしめられ、再加熱ステ
ーシヨンでは高温被覆基体に充分な輻射加熱エネ
ルギーが供給され該ステーシヨンでの被覆面の温
度あるいは平均温度をある温度範囲、ただしその
少なくとも上限は被覆プレカーサー材料との接触
直前のかかる面の温度あるいは平均温度より100
℃低い温度以下ではないものとし、にわたり上昇
せしめることを特徴とする方法が提供せられる。

本発明に従つての被覆基体の熱の適用は基体へ
の被覆の密着性を良好にし、耐候性をよくし、ま
た被覆へより均一な構造を与える結果となること
が見出されている。被覆構造がより均一になるこ
とは光学特性のよくなること、特に光拡散性が減
少することから明らかである。これは加熱で被覆
結晶の再配列が行なわれおよび／またはより好ま
しい結晶生長条件が与えられ、そのために被覆プ
レカーサー材料が基体上で反応する際に一般にみ
られる熱エネルギーの吸収が、被覆結晶が生長し
基体に密着するうえである効果をもつのであろう
と考えられている。

本発明は前記被覆プレカーサー材料が好ましい
態様の溶液で基体上にスプレーされる場合に特に
重大な利点を与える。これは多分基体から除かれ
る大量の熱エネルギーが使用された溶媒を加熱し
蒸発させるからと思われる。特定例としては塩化
スズ溶液に他の成分を加えあるいは加えぬものを
スプレーして酸化スズ被覆を作る例があげられ
る。

本発明は被覆プレカーサーが金属化合物（好ま
しくは塩化スズ）からなり、それから高温ガラス
質リボンとの接触時に例えば熱分解による分解あ
るいは化学反応で金属酸化物被覆がその場で作ら
れる例において特に有利である。金属酸化物被覆
を有するガラスは大量に赤外線遮断用窓ガラスあ
るいは他の目的に使用される。多くの目的に対
し、かかる酸化物被覆は数百ナノメーターの厚み
であることが望ましい。金属酸化物被覆を作る際
再加熱ステーシヨンで非還元性雰囲気を被覆と接
触させておくことが好ましい。最も好ましいのは
空気あるいは他の酸化性雰囲気性を該ステーシヨ
ンに保ことであり、それは過剰の酸素を存在させ
ることが有利だからである。

本発明は厚い金属あるいは金属化合物被覆を作
るのに特に有用である。好ましい具体例におい
て、作られる被覆の厚みは少なくとも第５干渉オ
ーダーの厚みである。従来の均一被覆を作ること
の困難性はとくにこういつた厚い被覆を作ろうと
する場合に顕著であつた。

本発明の被覆速度は比較的大であり、従つて本
発明方法は例えば新らしく作られる平板ガラスリ
ボンの連続的移動の如く極めて迅速に進行せられ
る基体の被覆に用いるのに良く適している。本発
明にかかる好ましい方法で、基体は被覆ステーシ
ヨン中を少なくとも２メートル／分の速度で進行
せしめられる。本発明のこういつた速度あるいは
それ以上の速度で進行せしめらる基体上に少なく
とも第５干渉オーダーの被覆を作るとき用いられ
ると極めて有利である。

基体通路にそつて、基体が被覆プレカーサー材
料と接触せしめられる直前の位置における基体の
平均温度は550℃〜650℃であることが好ましい。
一般にこの温度範囲が良好な光学特性の被覆、就
中金属酸化物被覆を熱分解で作るのに最も適して
いる。

被覆プレカーサー材料と接触させる直前の基体
表面温度を被覆ステーシヨンで良質な被覆の沈着
に出来るだけ好都合なものにするとして、上記再
加熱温度範囲内では再加熱温度が被覆プレカーサ
ー材料と接触させる直前の基体表面温度に近づく
ほど再加熱工程で得られる改善は通常大となる。

再加熱ステーシヨンで被覆基体表面の温度ある
いは平均温度が上昇せしめられる温度範囲は、そ
の範囲の少なくとも上限を、被覆プレカーサー材
料と接触せしめられる直前のかかる面の温度ある
いは平均温度より50℃低い温度以下にならないよ
うにすることが好ましい。こういつた条件が被覆
の均一性ならびに基体への被覆密着性の点で最良
の結果を与えるものとして推奨せられる。上記の
再加熱温度範囲の上限は事実上記前記接触前温度
より高くすることもできるが一般にその程度まで
再加熱する必要はない。

最良の結果を得やすくするため、再加熱温度範
囲の上限を基体材料の平均粘度が10¹¹〜10¹²ポイ
ズになる温度にすることが好ましい。この条件は
その粘度範囲において基体内に残存する内部機械
的ストレスが制御された徐冷に先立ち容易に救済
されるので有利である。

再加熱ステーシヨンでは黒体温度900℃〜1600
℃の輻射線を放出する輻射加熱器を一つあるいは
いくつか用い被覆基体を再加熱することが推奨せ
られる。これは加熱効率の点から好ましい条件で
ある。主として興味のある金属化合物被覆、特に
赤外線反射金属酸化物被覆は相対的に輻射率が低
く、前記の黒体温度範囲の輻射線を発する一つあ
るいはいくつかの輻射加熱器を用いることにより
被覆に入射する輻射線が該被覆により全くあるい
は実質的に反射されぬようにすることができる。

加熱ステーシヨンでは被覆基体にその幅全体に
わたりあらかじめ決められた温度分布になるよう
熱が加えられるのが特に好ましい。それによりガ
ラス質基体は次の処理に対し最適状態にせられ
る。この好ましい任意的特徴は徐冷前に被覆され
る基体が新らしく作られるガラスリボンの場合特
に有利である。ガラスリボンを徐冷するとき、ガ
ラスはその幅全体にわたり平らな温度分布となつ
ていることが、特に望ましい。実際の最適温度分
布はガラス組成によりことなりまたリボンを作る
方法によつてことなる。例えば新らしく作られる
引上げシートガラスのリボンが徐冷レアに入る場
合、リボンの中央が末端より最大限50℃までの高
温のなだらかなドーム型温度分布が望ましいこと
がしばしばである。同様組成のフロートガラスリ
ボンの場合にはより温度差の少ないことが通常望
ましい。

基体は再加熱ステーシヨンから温度安定化室中
を通過せしめられ基体内の熱温度勾配の制御され
た修正を行なわしめることが好ましい。

有利には基体の進行速度および温度安定室の長
さには、基体がこの室内に10〜40秒とどまるよう
に選定せられる。こうするとある程度の温度平衡
化が達成され安定化されるのに充分な時間が与え
られる。

好ましくは基体の進行速度および再加熱ステー
シヨンの長さは、基体がこの室内に５〜20秒とど
まるように選択せられる。この範囲内の時間での
再加熱で極めて良好な結果の得られることが見出
されている。５秒以下では本発明の効果を充分に
達成することはできず、また20秒をこえると再加
熱ステーシヨンを非常に長くするか基体の進行速
度を望ましからざる程度に制限せねばならない。

本発明のある好ましい具体例では再加熱ステー
シヨンで基体通路の両側にフレームカーテンがも
うけられる。

本発明方法は勿論ガラスシートの被覆に用いら
れるが、基体が新らしく作られた高温ガラスのリ
ボンである場合に特に価値がある。特にフロート
ガラスを本発明方法で被覆することができる。

本発明は上記方法を実施するのに適した装置を
包含する。従つてシートあるいはリボン状の高温
ガラス質基体の一面に金属あるいは金属化合物被
覆を形成せしめるための装置で、被覆ステーシヨ
ン、基体を被覆ステーシヨン中ある通路にそつて
一定方向（下流方向）に連続的に進行せしめるた
めの手段、液状の被覆プレカーサー材料の液滴を
基体と前記被覆ステーシヨンで接触させるため下
流方向へ放出するための供給手段および被覆ステ
ーシヨンから蒸気を下流方向へ連続的に抜きとる
ための手段からなり、前記被覆ステーシヨンと徐
冷レアの間のある位置に被覆ステーシヨンから少
なくとも一つの境界壁により分離されている室を
もうけ、この再加熱室と呼ばれる室内にそこを通
過する基体を加熱するための輻射加熱手段をもう
けることを特徴とする装置を提供する。

これは本発明方法を実施するための簡単かつ好
都合な装置である。

好ましくは再加熱ステーシヨンに基体通路幅全
体にわたり並行して多数のそれぞれ制御可能な輻
射加熱器が配置せられる。好ましくはこの加熱器
（群）は基体通路上の高さを調節できるようにな
つている。加熱器の高さを調節することは基体の
再加熱を制御する極めて簡単な方法である。

有利には再加熱室から下流に基体内の熱勾配の
制御された修正を可能ならしめるため温度安定化
室がもうけられる。

本発明にかかるある種の装置において、下記特
徴の一つあるいはいくつかが利用され、これらの
利点は方法に関し述べたところから明らかであろ
う。

(1) 再加熱室内の基体通路の両側にフレームカー
テンを作るための手段をもうける。

(2) ガラス室リボン製造装置から被覆ステーシヨ
ンへ高温ガラス質基体を直接運ぶためコンベア
をもうける。

(3) リボン製造装置をフロートガラス製造装置と
する。

(4) 被覆ステーシヨンおよび再加熱ステーシヨン
がリボン製造装置と徐冷レアの間に位置せしめ
られる。

以下添付図により本発明を説明する。

図において、新らしく作られたガラスのリボン
１はコンベア２によりリボン製造装置（図示な
し）から矢印Ａの方向へ運ばれる。リボン製造装
置は例えばシートガラスを作るためのリビーオー
エンス型のものあるいはフロート型のものであり
うる。リボン１はトンネル様構造で中に被覆ステ
ーシヨン３、再加熱室４、安定化室５、次いで徐
冷レア６のもうけられた構造物にそつて運ばれ
る。

被覆ステーシヨン３はスクリーン７により公知
の方向でリボン製造装置から遮断されている。被
覆プレカーサー物質がスプレーガン８により供給
され、このガンはリボンの通路を横切る方向に前
後に移動する。このスプレーガンはスプレーを表
わす破線で示される如くプレカーサー物質を前方
（すなわち矢印Ａで示される下流方向）ならびに
下方のガラスリボンの方に放出する。蒸気がアス
ピレーター９により吸引され、このアスピレータ
ーにはリボン通路幅全体に伸びる入口開口があ
り、蒸気が形成された被覆をだいなしにしないよ
うになつている。その中をリボンが通過する室の
側方へ熱がにげるので、リボンの端縁は一般にそ
の中心域より低温であり、また被覆を作る時のリ
ボン上での吸熱反応でリボン全体はさらに冷却せ
られる。被覆プレカーサー物質が溶液でスプレー
されるとリボンは溶媒蒸発に必要な程度までさら
に熱をうばわれる。溶媒の蒸発潜熱もリボンに冷
却効果を及ぼす。こういつた因子により、リボン
の温度あるいは平均温度は、ガラスリボンに良好
な密着した高度品質の被覆を作るのに必要な最少
限度の値以下になり、また徐冷目的には低すぎる
温度になつてしまう。このようになる傾向は勿
論、リボン上にスプレーされる溶媒の量が大にな
るほどはなはだしく、溶媒量は一般に溶質量およ
びリボン上に作られるべき被覆の厚みに関連して
いる。

本発明に従えば、被覆リボンは被覆ステーシヨ
ンから再加熱室４へと送られ、そこでトンネル様
構造の天井壁１２に固定された反射器１１に反射
される一つあるはいつつかの輻射加熱器１０によ
り加熱される。再加熱室には上流および下流境界
壁１３，１４があり、その前者は該室を被覆ステ
ーシヨン３から分離している。再加熱室４は所望
により１５の如きスクリーンにより多数の並行セ
クシヨンにわけられ、これらセクシヨンの各々に
一つあるいはいくつかの輻射加熱器１０と反射器
１１をもうけることができる。こうするとリボン
幅を横切つての輻射加熱エネルギー供給を制御変
更にすることができ、それにより被覆リボンに予
定された横温度分布を与えることができる。

かかる再加熱制御は被覆ステーシヨンと再加熱
ステーシヨンの間のリボン面部分の温度測定に応
じて実施せられうる。かかる測定は熱電対の利用
により容易に行われる。再加熱制御は別々の輻射
加熱器からの輻射熱出力を独立的に制御し、ある
いはかかる加熱器を上げ下げることにより行われ
る。

ガラスリボンは再加熱室４からその下流境界壁
１４の下を通つて再加熱室の下流境界壁１４と別
の横壁１６の間に位置する温度安定化室５に入
る。この安定化室は断熱されており、リボン１の
表面からその内部までの熱伝導を許すに充分な長
さを有している。また温度安定化時に被覆内で良
好な結晶構造の形成を屡々促進し、また次の徐冷
に好ましい温度分布をリボンに与えるようであ
る。下流壁１６の下を通つたあと、リボンは徐冷
レア６（既知タイプのもの）に入る。

所望により再加熱室内にリボン通路の端にそつ
てフレームカーテンをもうけリボンから側壁への
熱損失を低減せしめることができる。

以下は添付図の装置を用い実施された本発明方
法の実施例である。

実施例 基体１はフロートタンクから被覆ステーシヨン
３に直接運ばれる新らしく作られたフロートガラ
スのリボンであつた。リボンの速度は９メート
ル／分であつた。ガラスリボンの幅は2.5メート
ルであつた。リボン通路にそつて、スクリーン７
と一致する位置、すなわちリボンが被覆ステーシ
ヨンに入る位置において、ガラスリボン上面はリ
ボン幅中央部で600℃、端縁で590℃であつた。

スプレーガン８はそのノズルがガラスリボン上
面から25cm上で、スプレー軸がリボンに対し30°
傾斜するようにセツトされた。スプレーガンは毎
分10回リボン通路上を横切り連続的に往復させ、
その往復の横断路の長さはノズルからのスプレー
コーンがリボン幅全体を掃射するような長さとし
た。リボン通路にそつて、それがスプレーコーン
により横切られる区域で、ガラスリボン上面はリ
ボン幅の中央部で600℃、端縁で590℃であつた。

通常の型のスプレーガンには水和塩化スズ
（SnCl₂・2H₂O）の水に375ｇ／の割合でとか
し55ｇ／のNH₄HF₂を加えて得た塩化スズの
水溶液を供給した。このスプレーガンを空気圧
（ゲージ圧）約10Kg／cm²で操作した。被覆液の供
給速度は弗素イオンでドープされた酸化スズ被覆
が作られガラスリボン上に750nｍの厚みになる
よう調節された。

被覆処理中、ポンプ（図示なし）でアスピレー
ター９内に吸引力を常に維持させ、新らしく適用
される被覆上にたまるであろう蒸気を連続的に抜
き去つた。

スクリーン７と１３の間の被覆ステーシヨンの
長さは４メートルであつた。リボン通路にそつ
て、スクリーン１３と一致する位置、すなわち被
覆リボンが再加熱室４に入る位置で、被覆ガラス
表面はリボン幅の中央部分で580℃、端縁部で565
℃であつた。

再加熱室４の長さは1.5メートルでこの室内に
とどまるガラスリボンの滞留時間が10秒になるよ
うにした。この室の両側には断熱のためフレーム
カーテンをもうけた。この室１５の如きスクリー
ンで並行した九つのセクシヨンに分けられた。こ
れらセクシヨンの各々に図示せる如さ反射器をも
うけた四つの並行輻射加熱器を置き、加熱器群と
反射器群がこのセクシヨンの幅を横切つて伸びる
ようにした。各加熱器は900℃〜1600℃の黒体輻
射線を放出するようにした。この輻射加熱器は再
加熱室を通過する時に被覆リボン面の平均温度を
上昇させるためのものであつた。リボン通過にそ
つてスクリーン１４と一致する位置（スクリーン
１４は再加熱室の下流境界壁）で、ガラスの被覆
面はリボン幅の中央部で585℃、リボン端縁部で
575℃であつた。リボン幅端縁部での575℃という
ガラス温度はガラス粘度10^11.5ポイズに相当する
ものであつた。

温度安定化室５の長さは３メートルであつた。
スクリーン１６により徐冷レア６から独立されて
いるこの室の目的は被覆リボン面が温度の実質的
低下なしに一定時間（約20秒間）保持されるよう
リボン上に熱勾配が制限される空間をもうけるに
あつた。事実本実施例では、スクリーン１６の位
置で測定されたガラス温度リボン幅の中央部分で
580℃、リボン端縁部で575℃であつた。

酸化スズのリボン被覆は、被覆で拡散されてく
もりを生じる伝達入射光の割合で評価して高度の
光学的品質のものであり、前記透過入射光の割合
は極めて少なかつた。

被覆の構造を変えるうえでの再加熱工程の効果
は二つの比較試験で確認された。第１の試験では
実施例に準じた方法が実施されたが、ただしスプ
レーガンから放出される液適を100ミクロン以上
のサイズのものを含むサイズ幅の広いものとし
た。第２の試験では第１のものと同じ条件にした
が、ただし再加熱器４の輻射加熱器を作用させな
かつた。第２試験で作られた被覆、すなわち再加
熱工程を省いた場合大きな液滴の衝撃によるマー
クが付いて多数の欠点が認められた。第１の試
験、すなわち再加熱工程の助けにより作られた被
覆ではかかる欠点が実質的に認められなかつた。
その被覆はまた再加熱工程なしで得られた被覆よ
りも基体に対し良好に密着性を有することが判つ
た。

本発明の上記実施例において室４での再加熱は
被覆表面の平均温度を被覆ステーシヨンに入る時
の温度から20℃の範囲内の温度にした。再加熱温
度を下げると再加熱工程の利点は減じたが、本発
明での再加熱範囲では著るしい効果があつた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法の実施に用いられる装置の
断面図。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ガラス質基体を被覆ステーシヨン中の通路に
   沿い一定方向（以下下流方向と称す）に連続的に
   進行させ、液状被覆プレカーサー材料が前記被覆
   ステーシヨンで基体と接触するように前記液状被
   覆プレカーサー材料の液滴を下流方向に放出さ
   せ、被覆ステーシヨンから下流方向に蒸気を連続
   的に抜き取り、次いで基体を徐冷せしめることに
   よりシート状またはリボン状の高温ガラス質基体
   の一面に金属または金属化合物の被覆を形成せし
   める方法において、高温被覆基体１が前記被覆ス
   テーシヨン３から、再加熱ステーシヨン４を通
   り、徐冷レア６へと通過し、前記再加熱ステーシ
   ヨンで高温被覆基体１に充分な輻射加熱エネルギ
   ーが供給され、被覆面の温度あるいは平均温度を
   前記ステーシヨンである温度範囲にわたり上昇せ
   しめること、ただしその範囲の少なくとも上限は
   前記液状被覆プレカーサー材料と接触直前のかか
   る面の温度あるいは平均温度より100℃低い温度
   以下ではないものとすることを特徴とする方法。 ２ 被覆プレカーサー材料が溶液で基体１上にス
   プレーされる特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 被覆プレカーサー材料が熱分解で金属酸化物
   からなる被覆を形成させるための金属化合物を含
   有する特許請求の範囲第１項または第２項記載の
   方法。 ４ 金属化合物が塩化スズである特許請求の範囲
   第３項記載の方法。 ５ 基体１上の被覆が再加熱ステーシヨン４で非
   還元性雰囲気にさらされる特許請求の範囲第３項
   または第４項記載の方法。 ６ 少なくとも第５次干渉ジマ程度の厚みを有す
   る金属または金属化合物被覆を形成するように行
   う特許請求の範囲第１項〜第５項のいずれかに記
   載の方法。 ７ 被覆ステーシヨン３および再加熱ステーシヨ
   ン４を通る前記基体の進行速度が少なくとも２メ
   ートル／分である特許請求の範囲第１項〜第６項
   の何れかに記載の方法。 ８ 被覆さるべき基体面の温度または平均温度が
   基体１が被覆プレカーサー材料と接触せしめられ
   る直前の基体通路に沿つた場所で550℃〜650℃で
   ある特許請求の範囲第１項〜第７項のいずれかに
   記載の方法。 ９ 再加熱ステーシヨン４で被覆基体面の温度ま
   たは平均温度が上昇せしめられる温度範囲の少な
   くとも上限が、被覆プレカーサー材料と接触せし
   められる直前のかかる面の温度または平均温度よ
   り50℃低い温度以下ではない特許請求の範囲第１
   項〜第８項のいずれかに記載の方法。 １０ 再加熱温度範囲の上限温度で基体材料の平
   均粘度が10¹¹〜10¹²ポイズである特許請求の範囲
   第１項〜第９項のいずれかに記載の方法。 １１ 再加熱ステーシヨン４で被覆基体が黒体温
   度900℃〜1600℃の輻射線を出す一つあるいはそ
   れ以上の輻射加熱器１０により加熱される特許請
   求の範囲第１項〜第１０項のいずれかに記載の方
   法。 １２ 再加熱ステーシヨン４で供給される熱が被
   覆基体１の幅全体にわたり一定の温度分布を与え
   る特許請求の範囲第１項〜第１１項のいずれかに
   記載の方法。 １３ 基体１が再加熱ステーシヨン４から温度安
   定化室５中へと送られ、基体内の熱勾配の制御さ
   れた改変がなされる特許請求の範囲第１項〜第１
   ２項のいずれかに記載の方法。 １４ 基体１の送り速度および温度安定化室５の
   長さは、基体が室５内に10〜40秒間残留するよう
   に選定せられる特許請求の範囲第１３項記載の方
   法。 １５ 基体１の送り速度および再加熱ステーシヨ
   ン４の長さは、基体がステーシヨン４内に５〜20
   秒間残留するように選定せられる特許請求の範囲
   第１項〜第１４項のいずれかに記載の方法。 １６ 再加熱ステーシヨンで基体通路の各側にフ
   レームカーテンがもうけられる特許請求の範囲第
   １項〜第１５項のいずれかに記載の方法。 １７ 基体１が新しく作られた高温ガラスリボン
   である特許請求の範囲第１項〜第１６項のいずれ
   かに記載の方法。 １８ 基体がフロートガラス製である特許請求の
   範囲第１７項記載の方法。 １９ 被覆ステーシヨン、被覆ステーシヨン中と
   徐冷レア中の通路にそつて基体を一定方向（以下
   下流方向と称す）へと連続的に進行せしめるため
   の手段、液状被覆プレカーサー材料の液滴を被覆
   ステーシヨンで基体に接触させるべく下流方向へ
   放出するための放出手段、および被覆ステーシヨ
   ンから蒸気を下流方向へと連続的に抜きとるため
   の手段を含み、被覆ステーシヨン３と徐冷レア６
   の間のある位置に少なくとも一つの境界壁１３で
   被覆ステーシヨン３から分離されている室４をも
   うけ、この室４（以下再加熱室と称す）に基体１
   がそこを通る時基体１を加熱するための輻射加熱
   手段１０がもうけられていることを特徴とする、
   シート状あるいはリボン状高温ガラス質基体の一
   面に金属または金属化合物の被覆を形成せしめる
   ための装置。 ２０ 再加熱室４に、基体通路幅全体にわたり並
   行に配置した多数の、それぞれが制御可能な輻射
   加熱器１０がもうけられている特許請求の範囲第
   １９項記載の装置。 ２１ 輻射加熱器１０の基体通路上の高さが調節
   可能である特許請求の範囲第１９項または第２０
   項記載の装置。 ２２ 再加熱室４から下流に、基体内の熱勾配の
   制御された改変を可能ならしめるための温度安定
   化室５がもうけられている特許請求の範囲第１９
   項〜第２１項のいずれかに記載の装置。 ２２ 再加熱室内の基体通路の各側にフレームカ
   ーテンを作るための手段がもうけられている特許
   請求の範囲第１９項〜第２２項のいずれかに記載
   の装置。 ２４ 高温ガラス質基体をガラスリボン製造装置
   から直接被覆ステーシヨン３へと運ぶためのコン
   ベアー手段２がもうけられている特許請求の範囲
   第１９項〜第２３項のいずれかに記載の装置。 ２５ リボン製造装置がフロートガラス製造装置
   である特許請求の範囲第２４項記載の装置。