JPS62158137A - 被覆した平板ガラス - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、酸化錫のコーティング層を有する平板ガラス
に関する。

周知のように酸化錫のコーティングは導電性コーティン
グにするために任意のドープ処理材でなることが多く、
それらのコーティングはまた、種々の目的のために、そ
の他の矛循しない材料を少量含むことがある。錫や酸素
以外に存在する原子の性質や量は、ある限度をこえては
ならず、その限度をこえると、コーティングの結晶の格
子形配列の構造型がすず石のそれと異なる。

導電性酸化錫のコーティングをしたガラスシートは、な
かんずく、ガラス細工の目的で広く使用されている。と
いうのは、酸化錫のコーティングが赤外線輻射、特に３
μｍ以上の波長の場合被覆シート面の輻射能を減じるこ
とができるからである。

そこでガラス細工の目的で使用される被覆シートはその
部分全体にわたって均等な外観を有するのが望ましい。

実際に、そのような被覆シートはある部分と他の部分で
外観が異なることが多い。それには種々の原因が知られ
ているが、例えば、コーティングの厚みの変化であり、
これは干渉効果によりコーティングの部分に色の変化を
生じさせる。また、コーティングの特性の変化も一つの
原因となり、これはくもりを生じさせる。

外観のコントラストはなお酸化錫のコーティングの形成
中に、コーティングの厚みをできるだけ均等に、しかも
状態を一定に保持しようと努力をした時にさえ生じる。

従来、均等な光学的特性を得るために、コーティングは
基本的には小さな結晶で構成されなければならないとい
うことは効果的であると考えられてきた。酸化錫のコー
ティング層を熱分解的に装着する間、小さな結晶の形成
を促進するために、酸化錫の構造に似た結晶学的構造を
有する二酸化チタンの薄くてしかも熱間処理されるコー
ティング層に蒸気位相から酸化錫のコーティング層を形
成することが知られている。

肉薄の二酸化チタンの下塗り層は多数の非常に小さな結
晶で形成され、かくして多数の非常に小さな酸化錫の結
晶の成長のために多数の密集したシードポイントを与え
る。

本発明は大型結晶を有する酸化錫のコーティングを形成
することによって視覚上のコントラスト効果が実際にな
くなるか、大変減少するという驚くべき発見に基づいて
いる。

本発明によれば、酸化錫のコーティング層を有する平板
ガラスにおいて、その酸化錫の層は少くとも２００　ｎ
ｍの厚みを有し、１０　μ−年単位測定した酸化錫のコ
ーティングの結晶の代表的なサンプルの期待される粒子
面積は数字上、ナノメーターで測定した層の厚みの少く
とも０．４倍の値に等しいという特徴をもつ。

この酸化錫コーティングは、必要なコーティングの厚み
にするために、ガラスの表面に対して多少とも垂直に成
長する結晶で作られる（それらの結晶がガラス表面それ
自体から成長するか、そのガラスにすでに形成されてい
た結晶から成長するかどちらでも）。この外観は、被覆
表面を撮影した電子マイクログラフから容易にわかるこ
とである。コーティング結晶の相対的面積の測定は、従
って、個々の結晶のアウトラインを容易に見ることので
きる平面でとった電子マイクログラフから得ることがで
きる。しわをなくすように、あるいは結晶のアウトライ
ンをわかりにくくするように、コーティングをいくら磨
いたとしても、その結晶のアウトラインはエツチング操
作により容易に再び現われる。

従来、その粒子面積に対して結晶のサイズを示すものと
してそのようなマイクログラフに結晶が占める面積をと
る方法が行われている。

結晶の代表的なサンプルの粒子面積を決定するために、
次の手順を用いた。平面図で、被覆シートの部分でラン
ダムに選んだ多くの場所の各々を、１０００００倍の電
子マイクログラフにとった。これらのマイクログラフに
示されるランダムに選んだグループの７５０の結晶のう
ち、各結晶のアウトラインを、プロッターを使ってトレ
ースした。そのプロッターはそこからのデータから各結
晶（１）に対して結晶部分ｘ１を誘導するようにプログ
ラムされたデータープロセスサーに接続している。それ
から結晶の集合体内のサイズ分布を分析するために、種
々の計算をする。この目的で、結晶面積の大部分を５０
×１０　Ｉ＃Ｉのインターバルに分け、各インターバル
に含まれる結晶を計数する。

定義 期待される粒子面積は、次式から求める。即ち、 標準偏差は次式で求める。

第三中心モーメントは次式から求める。

ＳＵＭ　（：　ＸＩ　−ｐ、）３ 第三中心モーメント（Ａ）＝□ 歪度係数は次式から求める。

歪度係数（η）＝− σ３ 本発明に従った被覆シートガラスのコーティング結晶の
期待される粒子面積が大きいことは、視覚上のコントラ
ストが低いことに大いに関連していることがわかった。

従ってその製品はよりすぐれた視覚的外観をもつ。これ
は酸化錫の光学的コーティングに関連した以前の理論に
対して著しい対照をなす。事実前述のような期待される
粒子面積が犬である場合、異なるサンプルの期待される
粒子面積間の比率は単一に一層接近する傾向があり、こ
れはコントラストが低いことに関連することもわかった
。

被覆シート部分にわたってくもりが変化するという問題
について簡単にすでに触れた。拡散光伝達の絶対し・ベ
ルが低いことは望ましいことが多く、これについては、
従来、多くの調査研究が行われてきた。拡散光伝達の可
視的側面である、くもりは三つの主な原因に起因してい
た。

一つはガラスとコーディングとの界面における欠陥。こ
れはガラスとコーティングの酸化錫との間の反応により
生じることが多い。第２は、コーティングの厚みの欠陥
。これはその構造に起因する。第３は、コーティングの
表面の欠陥である。ガラスとコーティングの界面におけ
る欠陥は、コーティング方法を適切に選び、下塗り層を
使用し、および／または脱アルカリガラスを使用するこ
とによって排除することができる。表面の欠陥はコーテ
ィング方法を適切に選択することにより排除するか、ま
たはそのコーティングを磨くことにより除去することが
できる。コーティングの厚み内の欠陥はコーティング方
法の適切な選択によってしか排除することはできない。

なぜなら、その欠陥はコーティング層の物理的構造次第
で決まるからである。低絶対的拡散光伝達に好ましい内
部構造を有するコーティング層を達成するのに適した方
法は、英国特許出願第８５　３１　４２３号と第８５３
１　４２４号と第８５　３１　４２５号とに説明され、
請求がなされている。

以前、コーティングを均等な粒子面積を有する結晶で作
るのが望ましいのではないかと考えたことがある。しか
し本発明に従った製品では、結晶の集団が均等な粒子面
積を有する場合、全体的結晶集合体中に粒子面積か特定
して分布している場合はど、くもりレベルが低くならな
いことがわかった。そこで、本発明の好ましい実施例に
おいて、横軸に粒子面積をとり、縦軸にインターバルを
とって、その所与のインターバル内に粒子面積を有する
ような酸化錫の結晶の代表的サンプルの結晶の数をプロ
ットすることにより集団密度曲線を作った時、その曲線
は正の歪度係数を示し、その歪度係数は少くとも１であ
った。この目的のために使用した粒子面積のインターバ
ルは５０Ｘ１０　　μ扉である。粒子面積のそのような
分布は低絶対的拡散光伝達性にうまく関係しており、ひ
いては、低レベルのくもりにも関係することがわかった
。

被覆ガラスに関連して生じるもう一つの問題は製品のエ
イジングに関係するものである。特にコーティングは、
その寿命のうちに受けるであろう諸条件に耐えなければ
ならない。例えばコーティングはクリーニング中の摩耗
に耐えるように十分な機械的抵抗と接着力を有していな
ければならない。この酸化錫コーティングの機械的抵抗
は、集団密度曲線が前述のような正の歪度係数を有し、
そのコーティングを形成している結晶のサイズが種々あ
る場合には、促進することもわかった。従゛つて、本発
明の好ましい実施例において、この正の歪度係数は次の
特徴と結びついている。即ち、酸化錫コーティングの結
晶の代表的なサンプルの粒子面積の標準偏差が期待値の
少くとも半分であり、好ましくはそれは期待値の少くと
も０７倍であるという特徴である。

１０　μゴ単位で測定した酸化錫コーティングの結晶の
代表的サンプルの期待される粒子面積は、数字的に、ナ
ノメーターで測定した層の厚みの少くとも０．５倍の値
に等しい。ある好ましい実施例では、それはその厚みの
少くとも０６倍である。そのコーティング結晶の集団が
この特性を有するような被覆ガラスは、特に少くとも３
００　ｎｍの厚みを有するコーティングの場合において
、更にコントラストが減退した視覚的外観を生じるとい
うことがわかった。

コーティングの実質的な厚みに拘らず高度の明らかな均
等性をもつコーティングを形成しつることは、本発明の
重要な効果である。従来、コーティングの厚みが増せば
増すほど、コーティングの外観において明白なコントラ
ストを排除する困難もそれだけ大であった。しかし、本
発明の好ましい実施例において、酸化錫の眉は少くとも
３００　ｎｍの厚みを有し、特に好ましいことに、その
層は少くとも７００　ｎｎｔの厚みを有する。３００　
ｎｍ以上の厚みを有するコーティング層、特に少くとも
７００　ｎｍの厚みを有するコーティングは機械的にも
、化学的にも抵抗性が強く、それが導電性の場合、それ
らのコーティングは平方当りのオーム単位で表わす時、
低抵抗に作り易いので、これは導電性コーティングとし
てのその価値を強化し、赤外線放射に対して被覆面の輻
射能を低下させる能力も増強する。

酸化錫コーティング層が普通の場合のように例えば最低
幅対能を有するコーティングのように、例えば７００　
ｎｍ〜１２００　ｎｍの厚みのように少くとも７００　
ｎｍの厚みを有する時、視覚的外観が低コントラストで
あるという本発明の効果は、酸化錫コーティングの結晶
の代表的なサンプルの期待される粒子面積が３５０　Ｘ
　１０”μ−〜７００Ｘ１０　　μ−の範囲にある時、
最大となることがわかった。従って、この特徴を採り入
れることは、好ましいことである。

本発明をここで、本発明に従った被覆ガラスの製造に適
した特定の方法の実施例により、そしてまた、装置の種
々の好ましい実施例に関する添付図面によって詳細に説
明する。

第１図において、シートまたはリボンの形をした熱ガラ
ス物質の上面に金属化合物のコーティングを熱分解によ
り形成する装置は、符号１で示す通路に沿って下流方向
へ前記ガラス物質を運ぶために、例えばローラー２のよ
うなコンベアでなる。通路１は、その上へ下向きに開口
するコーテイング室６を形成する屋根構造体５と、ガラ
ス物質１へ向って下向き８に、コーティング先行溶液の
流れをコーテイング室６ヘスプレーするスプレーノズル
７とでなるコーティングステーション４を通過する。

スプレーノズル７はコーティング先行溶液の流れを、ガ
ラス物質の通路１の上方少くとも７５Ｇの高さからコー
テイング室６のスプレー区域９へ噴霧するように配置さ
れる。図示の実施例において、スプレーノズル７はコー
ティング先行材料をガラス物質１の上方少くとも１メー
トル、好ましくは１２メートルの高さからスプレ−する
ように配置され、そのスプレーノズルはそれ自体、よく
知られた型のものである。そのノズルはガラス物質１へ
向って下向き８に、しかも下流方向３ヘコ一テイング先
行溶液をスプレーするように配置され、それはガラス物
質の通路の幅にわたって軌道（図示せず）に沿って前後
へ移動する。

スプレー区域へ熱を供給するために加熱装置が使用され
る。図示の実施例において、そのような加熱装置はスプ
レー区域９の屋根に備わっている下向きの輻射式ヒータ
ー１０でなる。付加的ヒーター装置として、コーティン
グ先行材料の噴霧流と交叉する方向へ向ってスプレー区
域９へ予加熱ガス流を放出するダクト１１が備わってい
る。そのダクト１１は放出オリフィス１２を有し、それ
はスプレーノズル７とガラス物質１との間の高さの上半
分に配置され、コーティング先行材料のスプレー放出軸
８より上流からガス流を放出するようになっている。オ
リフィス１２はガラス物質通路１の幅全体にわたつて水
平に伸長し、ガラス物質から、スプレーノズル７の高さ
までの上３分の１の高さにわたって垂直方向へ伸長する
。オリフィス１２から放出されるガスは最初に、小滴流
７の横行通路を横切って事実上水平方向へ向けられ、ス
プレー区域９内にガスの循環を保持する。

放出されたガスは例えば３００°Ｃ〜５００℃の平均温
度に適切に前もって加熱される。ヒーター１０は噴霧さ
れた小滴からの溶媒の蒸発化を、それがガラス物質１へ
向って移動する間に促進させ、それはそれから温熱放出
ガス中へ送られる。

変形例において、ダクト１１は２本のダクトに分かれ、
これらはオリフィス１２の位置を占める同寸法の上方オ
リフィスと下方オリフィスの位置まで伸長し、その結果
、例えば３００℃〜５００℃の異なる温度のガス流が異
なる高さから放出されることになる。

屋根構造体５はスプレー区域９から下流へつながるコー
テイング室６の通路部分１３を形成し、コーテイング室
６は全長、少くとも２メートルの長さ、好ましくは少く
とも５メートルの長さを有する。図示の実施例において
、屋根構造体５はガラス物質通路の上方にブリッジ壁１
４を有し、それは事実上垂直に下降してスプレー区域の
下流端に出口スロット１５を形成し、それによってその
スプレー区域を通路１３から分離しており、その通路１
３の高さはスプレー区域の高さと事実上等しい。出口ス
ロット１５の高サバスプレーノズル７とガラス物質１と
の間の高さの半分以下である。

先行材料用スプレーノズル７の放出軸８より上流に、ガ
スジェットノズル１６があって、これはコーティング先
行材料の流れの近くで下方にガスジェットを放出し、そ
れによってスプレーされたコーティング先行材料を遮蔽
する。ガスジェットノズル１６は横断軌道に沿ってそれ
と共に反復放出するようにコーティングスプレーノズル
７に結合する。この遮蔽状ガスジェットの主たる効果は
、コーティング先行材料がガラス物質１へ向って移動す
る時その流れの後方でコーティング反応生成物や他の汚
染物質が混入するのを防ぐことである。

通路１３に沿って排気ダク）１７，１８．１９が配置さ
れ、コーテイング室の下流端にある排気ダクト１７は、
ガラス物質通路１の上方に配置された入口２０を有し、
それはギの排気管の軸の少くとも大部分にわたって伸長
する。

コーテイング室６の側壁から内方へ突出する邪魔板２１
があって、これは大気材料の流れがガラス物質１の側部
をこえるのを防ぎ、またスプレー区域９の全長にわたっ
てガラス物質通路の上部区域と下部区域との間を流動す
るのを防ぐ。そのスプレー区域において、コーティング
先行材料中に大気材料が最も大量に含まれている。これ
らの邪魔板はコーテイング室６の側壁にピボットにより
取付られ、例えばねじ式支柱により支持されるので、そ
の位置はガラス物質１の辺縁に対してクリアランスが最
小となるように調整される。

ガラス物質１の周囲へガスを放出する装置２２が備わっ
ていて・、これはガラス物質通路１の各辺縁部の下で、
コーテイング室６が占める通路部分の少くとも一部分に
沿って下流へ流れる連続流を形成する。

リボンの下にあるガス放出装置は４個の充満室２３でな
り、それは２個ずつ配置され、コーティングステーショ
ン４の事実上幅全体にわたって伸長する。各充満室２３
の上部には、スロット２４が形成され、そのスロットは
転向舌片２５により境界されるので、スロット２４を通
って放出されるガスは、コーティングステーション４に
沿って下流方向へ向けられる。スロット２４はコーティ
ングステーション４を横切って各充満室２３の全長にわ
たって伸長する。所望であれば、そのようなスロットに
代えて、複数個の間隔をおいて位置するオリフィスにす
ることもできる。第１図に示すように、転向板２６が充
満室２３の上方に配置されているので、放出ガスはガラ
ス物質に対して直接、放出されることはない。充満室２
３には、コーティングステーション４の両側から、例え
ば熱交換器から予加熱ガスが供給される。放出ガスとし
て空気が使用されこれは炉の送気管のガスとの熱交換に
よって容易に加熱される。そのようなガスはそれがコー
テイング室６へ流入する前に、ガラス物質の温度５０°
以内に前もって加熱されているのが好ましい。

ガラス物質１の下で排出されるガスは、ガラス物質１の
周囲から排気ダクト（図示せず）を通って送られる。こ
の排気ダクトは例えばガラス通路の上に位置する排気ダ
クトの入口２０と一致して配置された物質通路の下で横
断方向に伸長する１個以上の入口を有する。

ガラス物質通路１の上方には、バリヤ壁２７があって、
これは、コーテイング室６の幅全体を横切って伸長し、
そのコーテイング室６の下流端を事実上、閉鎖するので
、大気材料の流れが通路１３の下流端でコーテイング室
６へ流れたり、そこから流出したりするのを事実上防ぐ
。

コーティングステーション４は、例エバフロートタンク
のようなリボン形成プラント（図示せず）からの出口と
焼きなまし部分２８への入口との間にある。

リボン形成プラントからコーテイング室６までの通路は
、屋根２９を有し、コーテイング室の上流端は遮壁３０
によって決定され、その遮壁３０は通路の屋根２９から
垂下し、ガラス物質１が入口スロット３１を通ってコー
テイング室へ入るだけの小さなりリアランスを残す。

この遮壁３０の効果は大気材料がコーテイング室６から
上流へ流動するのを制限することであり、その結果、そ
の区域内の大気状態を一層コントロールし易くなる。

遮壁３０の上流で、その遮壁と第２遮壁３２との間には
、前室３３があって、そこにはヒーター３４が取付られ
ており、遮壁３０とリボン１との間からコーテイング室
６へ引きこまれるガスを予加熱する。

第２．３図において、第１図に示すものと同一機能を果
す部品には、同一符号をつけて示した。

コーテイング室６の上流端にあるスプレー区域において
、ガス放出ダクト１１はないが、その代わりに、放出オ
リフィス３６を有する一対のダクト３５が配置されてお
り、前記放出オリフィス３６はお互いに向かい合ってい
て、コーティング先行材料の噴霧流の軸８の両側から予
加熱ガスを放出するようになっている。リボン１の高さ
より上方では、コーテイング室のためのその他の加熱装
置は示されていない。放出オリフィス３６はコーテイン
グ室６の殆ど幅全体にわたって伸長し、そしてガラス物
質の上方、スプレーノズル７の高さの上３分の１のとこ
ろに制限されている。その変形例として、放出オリフィ
ス３６の幅を小さくし、スプレーノズル７と縦隊に並ん
でスプレー区域を横切って前後へ移動するようにするこ
ともできる。

スプレー区域９の下流側では、屋根構造体５は下向きに
傾斜し、それから垂直ブリッジ壁１４を形成し、その壁
には、排気ダクト３８用人口３７が幅いっばいに配置さ
れ、それはスプレー区域からの蒸気を吸引してそこに流
動しない区域が形成されないようにする。

ブリッジ壁１４の下の下で出口スロット１５より下流で
は、屋根構造体５が連続し、コーテイング室６の通路部
分１３を形成し、この屋根構造は出口スロットと同じ高
さを有する。

その通路】３の長さに沿って、ガラス物質通路１の高さ
より下でコーテイング室の各側に、排気装置がある。こ
の排気装置は、側部排気ダクト４０に連絡している複数
の上部が関いた排気ボックス３９でなる。これらの排気
ボックス３９は通路１３が占める物質通路の全長にわた
って伸長し、上流の排気ボックスは事実、スプレー区域
９の下に位置することが第２図かられかる。排気ボック
スから上方かつ内方へ邪魔板４１が突出し、これは、ガ
ラス物質通路の辺縁ノ下ヲ、しかも両コンベアローラー
２間を上方へ伸長する。このように配置すると、通路に
沿つてガラス物質の上と下で大気が有効に分離される。

コーティング先行材料および他の大気材料がスプレー区
域９のもつと上流部分をこえてガラス物質通路の側部を
こえて流動しないようにするために、予加熱空気を放出
するブロワ−５０が使用され、これは比較的きれいなガ
ス流がコーテイング室の側壁にぶつかって上昇するよう
にする。これはまた、コーテイング室内の大気材料によ
りこれらの壁が腐蝕するのをある程度防ぐ。

前述のように、これまでの図面に示した部品と同じ機能
を果す部品には、第４図にも同一符号をつける。

第４図の実施例において、前述の図面の単一往復スプレ
ーノズルは、複数のノズルに置きかえられているが、こ
こには１個しか示されていない。これらのノズル７は一
対のガス放出ダクト３５間を走行する軌道（図示せず）
部分に沿って往復し、そのダクト３５はコーテイング室
の幅全体にわたって伸長する下向きに傾斜した放出オリ
フィス５１を有する。

屋根構造体５はスプレー区域９の上方で一部カーブした
連続する形で下降し、それは更に下降し続けて、通路１
３が下流方向へ低くなるようになっており、コーテイン
グ室６内で材料が下流へ滑らかに流れ易くする。

通路１３の下流端では、大気材料が排気ダクト４６へ吸
引され、そのダクトは人口４７を有し、その人口４７は
カーブした排気用浅い窪み４８により一部が形成され、
その浅い窪み４８は通路１３の幅全体にわたって、ガラ
ス物質１の通路の上方を伸長し、事実上下流端を閉゛鎖
する。そのような浅い窪み４８は任意にピボット状に取
付けて、ガラス物質１に対して最小のクリアランスをも
つように調整することができる。

通路１３の下流端にあたる半分においても、コーテイン
グ室の各側に配置された排気ダクト４９へ大気材料が吸
引されることにより、大気材料はコーテイング室に沿っ
て横方向へ拡散し易くする。そのような材料はまた、邪
魔板２１によってガラス物質の下へ流れないように仕組
まれており、その邪魔板２１は通路の事実上全長に沿っ
てガラス物質の辺縁部上をコーテイング室の側壁から突
出し、スプレー区域へ、殆どその上流端まで伸長する。

通路１３の屋根５の下降は、この吸引の促進による通路
１３を流れる材料の量が減少するのを補償する。

コーテイング室の上流端では、端部壁４３はガラス物質
１の通路に接近する方向へ下降し、事実上、コーテイン
グ室の上流端を閉鎖し、その端部壁のすぐ下流には、補
助ガス放出管５２があって、これはガラス物質の近くで
コーテイング室へ予加熱ガスを放出して下流方向へ流れ
るようにし、コーティング先行材料とガラス物質がはじ
めて接触する際にそれらの接触をうまくさせ、蒸気が上
流端部壁４３にぶつかってたまるのを防ぐ。

スプレー区域の下流端には、２個の水平方向で内向きに
傾斜したガスジェット放出ノズル５３があって、これは
スプレー区域で生じたコーティング先行材料の蒸気を通
路１３の側壁から離れて、しかも下流方向へ流すように
する。

第５図において、ここでも前述の図面に示した部品と同
じ機能を果す部品には、同一の符号をつけた。

スプレー区域っけ第１図に示すものと同じ形をしている
。コーテイング室の上流端壁４３の下では、第１．２図
に示す遮壁３０はブリッジ壁４４に取りかえられており
、このブリッジ壁４４はかなり背の高い入口スロット３
１を有するので、大気材料はガラスと接触しながらそれ
に沿って、前室３３からコーテイング室へ一層容易に引
きこまれる。所望であれば、そのブリッジ壁４４は入口
スロット３１の開口を変えるために高さを調整すること
ができる。少くともコーティング材料がガラスとぶつか
る区域までガラス物質１のすぐ上方で大気材料の層をコ
ントロールするために、更に付加的にガス放出ダクト（
図示せず）を使用して予加熱ガスを前室へ下向きに放出
させることもできる。

第４図と同じように、通路１３は出口スロットから離れ
るに従って高さが低くなる。

コーテイング室６の上流端にあるスプレー区域９には、
ガス放出ダクト３５はないが、放出オリフィス５５を有
するダクト５４がその代わりに使用され、前記放出オリ
フィス５５は、コーティング先行材料の噴霧流の上流側
へ向けられている。ある実施例において、放出オリフィ
ス５５はコーテイング室６より幅が狭く、それはスプレ
ーノズル７と縦に並んでスプレー区域を前後へ移動する
。他の実施例では、放出オリフィス５５はコーテイング
室６の殆ど幅全体にわたって伸長する。

ブリッジ壁１４の下にある出口スロット１５の下流では
、屋根構造体５は連続し、コーテイング室６の通路部分
１３を形成し、ここでは下流方向へ下降する。しかしな
がら、この実施例では、通路１３の屋根構造体は、複数
のよろい板５６により形成され、これらのよろい板はピ
ボット状に開く、ことができるので予加熱空気が通路１
３へその屋根に沿って流入し、そこの温度を上昇させ、
その屋根にコーティングが塗着、即ち凝縮するのを防ぐ
。

通路１３の長さに沿って、排気装置が配置され、これは
第２，３図に関連して説明したように、ガラス物質通路
１の高さより下でコーテイング室の各側に配置される。

実施例　１ 第１図に示す装置の特定の実施例において、コーテイン
グ室６は、約３メートル幅のガラスリボンに合わせるよ
うにその幅を３メートルよりちょっと大きくしている。

コーテイング室のスプレー区域９の上方にある屋根構造
体５はリボン通路１の高さの上方、丁度１，５メートル
の位！＋こある。小滴放出ノズル７のスプレーオリフィ
スはその屋根の高さに近いところにある。

そのノズル７は円錐形の小滴流を放出するように配置さ
れ、その中心軸８は水平線に対して４７゜の角度をなし
、それに対して半円錐角は１０°である。ガスジェット
ノズル１６の出口はスプレーノズル７の下方２５０、か
つスプレーノズル７の下流７ｍのところにあって、その
軸は水平線に対して６０°の角度に配置される。ガス放
出オリフィス１２は高さが５Ｑｃｒｎ、その頂部はノズ
ル７と同じ高さにある。スプレー区域９の下流端にある
ブリッジ壁１４はガス流放出オリフィス１２から２．８
メートルの距離だけ離れて位置する。通路１３はスプレ
ー区域９と同じ高さにアリ、出口スロット１５はリボン
通路１の高さの上方５０ｃｒｎの高さにある。通路１３
の長さは４メートルである。

この装置は特に、コーティング先行材料として酸化錫溶
液からスタートした酸化錫のコーティングを塗着するよ
うに設計されている。

この装置を使って、毎分８．５メートルの速度で移動す
る６ｔｘｔ厚さのガラスリボンに、厚さが７５０　ｎｍ
の酸化錫のコーティングを形成した。

ガラスは６００℃の温度でコーテイング室へ入リ、ここ
で使用されるコーティング先行材料は、コーティング中
のイオンをドープ処理するために二弗化アンモニアを含
有する塩化錫の水溶液であった。この水溶液は毎時２２
０／の割合でノズルからスプレーされ、その時、そのノ
ズルは毎分２２サイクルの割合でリボン通路を横切って
往復した。

前室３３は事実上閉鎖されており、その中の大気は電気
抵抗ヒーターにより加熱された。

スプレー区域の屋根にある輻射ヒーターが作動し、ガス
は毎分７００ＯＮ−の割合でオリフィス１２から放出さ
れ、温度は４００℃であった。

また、リボンの下にある充満ボックス２３から６００°
Ｃの温度でガスが放出された。

操作時、スプレーされたコーティング先行材料の流れが
リボンの高さに届くまで、溶液の大部分がその流れから
蒸発され、非常に小さな塩化錫液の小滴と塩化錫の蒸気
が残り、それがガラスに接着してコーティングを形成し
始める。

リボンの上方にあるスプレー区域９は塩化錫の蒸気を含
む循環する大気で満たされこれは、排気ダク）１７，１
８．１９内で生じる吸引力により出口スロット１５を通
って通路１３へ引きこまれた。コーテイング室６内の大
気は小滴流の近くを除けば、事実上きれいであることが
わかった。これはその流れの外側にある溶液や塩化錫の
全てが蒸気状態にあることを示し、その結果、ガラスが
コーティング先行材料にさらされるコーテイング室６の
長さの大部分にわたって、その部屋の大気が事実上、液
状物質を含んでいないことを示した。勿論、通路１３は
コーティング反応生成物を含んでいた。その通路１３の
形状寸法やそこで生じる力の結果、出口スロット１５を
出る大気材料は速度がゆっくりでかなり濃密な塩化錫の
蒸気が、そこに形成されるコーティングと接触した層を
形成し、これがそのコーティングを調整し、その時同時
に、密度の稀薄な溶媒蒸気とコーティング反応生成物は
、排気ダクトへ直接流れていった。これらの結果、そこ
で形成されたコーティングは、ガラスとコーティングと
の界面に結晶構造を有していた。

これは高品質のコーティング構造にし、ひいてはすぐれ
て均等な視覚的外観を有し、かくして欠陥につながるコ
ーティング反応生成物は含まれていなかった。

特に注目に値することは、くもりが非常に少いことであ
り、この被覆ガラスでは、そのくもりも非常に均等であ
った。

ここで形成されたコーティングを、電子顕微鏡を使って
１０００００倍の倍率で写真にとった。その写真を処理
して、酸化錫のコーティングの結晶の代表的サンプルか
占める部分を評価した。分析の結果、次の結果が示され
た。

コーティングの厚み　　７５０　ｎｍ 期待される粒子の面積　　４９２Ｘ１０　　μ−標準偏
差　　　　　　４８１ｘｌＯμ−歪度係数　　　　　　
３．９ このサンプルはまた、特許出願筒８５３１４２３号とし
て１９８５年１２月２０日付で出願した英国特許出願に
示した発明をも使用している。

実施例　２ 第２図の装置は、実施例１と同一速度で移動する、同一
厚みのガラスリボンに、同一の先行材料を使って同一厚
みのコーティングを形成するために使用された。スプレ
ーノズル７もまた実施例１と同じようにコントロール″
された。コーテイング室６はその全長が７．５メートル
であった。

ガラスは６００℃の温度でコーテイング室６へ入り、５
００℃に予加熱された空気は各放出オリフィス３６から
毎時３６００　Ｎ？Ｆ１″の割合で放出された。その結
果、スプレーされた材料の大部分がリボンへ向ってその
軌道を描きながら蒸発し、残りの流れは連続し、ガラス
に対して確実に衝撃を与える。

通路１３に沿って流れる大気材料がガラス物質の高さの
下で吸引されると、先行材料の蒸気を含む大気層はリボ
ンに接触状態に保持され、それによってコーティングの
仕上げを促進する。

その吸引は約３５０℃の平均温度で、毎時、約７０００
０−の割合で行われた。

このことはまた、特にくもり要素が均等でかつ少いこと
により、形成されるコーティングの品質が高度の均等性
をもつ、すぐれた結果を生じた。

そこで生じたコーティングは、電子顕微鏡を使って１０
００００倍の倍率で写真撮影が行われた。その結果の写
真は酸化錫のコーティング結晶の代表的なサンプルが占
める部分を評価するように処理された。分析ののち、次
のことがわかった。即ち コーティングの厚み　７５０　ｎｍ 期待される粒子面積　　５５９　Ｘ　１０　　ｐｒｄ標
準偏差　　　　　　４７３Ｘ１０　　ｔｈｒｒｌ歪度係
数　　　　　１．３ この例はまた、出願第８５　３１　４２３号として、１
９８５年１２月２０日付で出願した英国特許出願に記述
している発明をも使用している。

実施例　３ 第４図の装置は６００℃の温度でコーティングステーシ
ョンへ入るように、毎分８．５ｍの速度でフロート室か
ら移動する４厘厚さのガラスリボンに、弗素でドープ処
理した４　００　ｎｍ厚みの酸化錫のコーティングを形
成するために使用サレタ。コーテイング室の全長は８メ
ートルであった。

ここで使用したコーティング先行材料はそのコーティン
グ中のイオンをドープ処理するために二弗化アンモニウ
ムを含む塩化錫の水溶液であった。この水溶液は毎時、
１１０１の割合でノズルからスプレーされた。それらの
ノズルは皆、平行であって、水平線に対して７５°の角
度に傾斜していた。それらのノズルはガラス物質の上方
、１．５　ｍのところに位置していた。

５５０℃に予加熱された空気が毎時、５００ＯＮｄの割
合で２個の放出オリフィス５１から放出され、蒸発した
先行材料の溶液を伴って移動させた。補助ガス放出管５
２から放出される空気はまた、５００℃に前もって加熱
された。ガラス物質の高さより上方で生じる吸引は、コ
ーテイング室へ送入されるか、その中に形成されるガス
量のバランスを保ち、材料の静かな下流への流れを促が
すようにコントロールされた。

６００℃に前もって加熱された空気はガラス物質の通路
の下の放出装置２２から毎時３００ＯＮ−の割合で放出
された。

このプロセスはまた、事実上局部的な欠陥がなく、くも
りも大変少なく、均等な低くもり係数を有する高品質の
コーティングを形成する結果となった。

このコーティングを、電子顕微鏡を使って１０００００
倍の倍率で写真にとり、その写真は酸化錫のコーティン
グ結晶の代表的なサンプルが占める部分を評価するよう
に処理した。分析の後、次の結果が出た。即ち、 コーティングの厚み　　４００　ｎｎｔ期待される粒子
面積　　　２７０　Ｘ　１０−’ｌ１ｒｒｌ標単偏差　
　　　　　１７５Ｘ１０　　μ−歪度係数　　　１．３ この例はまた、出願第８５　３１　４２３号として、１
９８５年１２月２０日付で出願した英国特許出願に記載
している発明をも使用している。

実施例　４ 第５図の装置は、毎分８．５ｍの割合で移動し、６００
℃の温度でコーテイング室へ入ってくる６顧のフロート
ガラスの３ｍ幅のリボンに厚さ７５０　ｎｍのドープ処
理した酸化錫のコーティングを形成するために使用され
た。コーテイング室はその全長が８メートルであった。

二弗化アンモニウムを含有する塩化錫の水溶液がスプレ
ーノズルを使って、ガラスの上方１．８ｍの高さから、
２５バールの圧力で毎時的２２０１の割合で放出された
。そのノズルは水平線に対して５０’の角度で下流方向
へ傾斜し、毎分２３サイクルの割合でリボン通路を横切
って往復した。

排気ダクト４０（第３図と比較すること）および４６を
通って吸引される大気材料の総量は約３００°〜３５０
℃の温度で毎時、約１０００００−であった。

輻射式屋根ヒーター１０が使用され、ガラスと接触する
前にコーティング先行材料と溶媒との大部分を蒸発させ
るようにした。

放出オリフィス５５はコーテイング室の幅全体にわたっ
て伸長し、それは毎時２５０００ｔａ”の割合で６００
℃に加熱された空気を放出するため（こ使用された。

その結果、そこで形成されたコーティングは高品質の構
造を有し、リボンの幅全体にわたって均等な厚みを有し
、ひいてはすぐれて均質な外観を呈していた。欠陥につ
ながるようなコーティング反応生成物は事実上台まれて
いなかった。

予加熱された空気は前室３３から入口スロット３１を通
ってコーテイング室６へ引き込まれた。

ここで生じたコーティングは、電子顕微鏡を使って１０
００００倍の倍率で写真にとられ、それらの写真は酸化
錫のコーティング結晶の代表的なサンプルが占める部分
を評価するように処理された。分析後、次のような結果
が示された。

コーティングの厚み　　７５０　ｎｍ 期待される粒子面積　　６２７Ｘ１０μＭ標準偏差　　
　　　　５４９Ｘ１０μ−歪度係数　　　　　　１．３ この例はまた、出願筒８５　３１　４２４号として、１
９８５年１２月２０日付で出願した英国特許出願に説明
している発明と、特許出願筒８５　３１　４２５号とし
て１９８５年１２月２０日付で出願した英国特許出願に
説明している発明とを使用している。

変形例として、予加熱空気を前室３３へ確実に吹き込ん
だ。

この実施例のもう一つの変形として、ガラスを６２０℃
にしてみた。熱気がスプレーノズル７に関連している放
出オリフィス５５を通って、５５０℃の温度で、毎時約
５０００−の割合でスフレ−区域９へ吹き込まれた。そ
の結果、スプレー区域９にある噴霧されたコーティング
先行材料の多くは液状であった。この変形例において、
統計的分析の結果は次のとおりであった。

コーティングの厚み　　７５０　ｎｍ 期待される粒子の面積　　４００Ｘ１０”μ−標準偏差
　　　　　　４７１Ｘ１０　　μｄ歪度係数　　　　　
　２７５ このような歪度係数の増加はコーティングが液体状と蒸
気状のコーティング先行材料の混合物で形成されたこと
に起因する。この変形例において、くもり係数は、この
例の第１部分に従って形成されたコーティングのくもり
係数より小であった。

結晶の粒子面積の全体的分布を電子マイクログラフで測
定したものが第６図のグラフに示されている。

第６図において、まず結晶面積のサイズのインターバル
を５０Ｘ１０　　μ−年単位とり、各インターバルに含
まれる結晶の数を計算し、それを各それぞれのインター
バルの中心にプロットする。各インターバルにおける結
晶の数を縦軸に沿ってとり、１０　μ−年単位の面積を
横軸にとる。そこでプロットしたものが第６図の実線で
示すものである。これは第６図に点線で示す理論上のガ
ンマ分布曲線と大変うまく一致したガンマ凰分布である
といえる。　　′ 実施例　５ 第５図の装置に基づいた変形装置を、酸化錫のコーティ
ングを作るために使用した。その装置の変形とするとこ
ろは次の如くであった。

第２図に示すようなスプレー区域のダクト３７゜３８を
付加した。

リボンの下の排気システム３９．４１の代わりに第４図
に示すような側部排気ダクト４９を使用し、ガラス物質
通路の下に、第４図に示すようなガス放出装置２２を組
込んだ。

毎分８．５ｍで移動し、６００℃の温゛度でコーテイン
グ室へ入ってくる６厘のフロートガラスの３ｍ幅のリボ
ンに、０．２％の酸化アンチモニイでドープ処理した７
　５０　ｎｍのコーティングが形成された。コーテイン
グ室の全長は８メートルであった。塩化アンモニウムイ
有する塩化錫の水溶液が、スプレーノズルを使って、ガ
ラスの上方１６５ｍの高さから毎時約２３０１！の割合
で、２５バールの圧力で放出された。前記スプレーノズ
ルは水平線に対して４７°の角度で下流方向へ傾斜し、
このノズルはリボンの通路を横切って往復した。

ヒーター１０はスプレー区域９の上半分にあるスプレー
材料の大部分を蒸発させるようにコントロールされてい
た。スプレーノズル７が往復し、それによって流れのパ
ターンが生じるために、この蒸発した材料はスプレー区
域の上方部分にある空気と直ちに混合することになる。

通路１３の排気ダクトを通って吸引される大気材料の全
量は、約３５０℃の温度で毎時、約６００００−であっ
た。スプレー区域のダクトを通る吸引は、スプレー区域
９の下流端の上方部分にある大気をきれいに保持するの
に必要な最低レベルに保持された。

熱気は６２０℃の温度で（そこにあるリボンと同じ温度
）、しかも毎時約７０００　Ｎ７Ｆ＋’の割合でダクト
（図示せず）を通って前室３３へ下向きに吹きつけられ
た。ブリッジ壁４４は、入口スロット３１がリボンの幅
全体にわたって均等な開口となるように調整がなされた
。

５５０℃に前もって加熱された空気は、ガラス物質の通
路の下の放出装置から毎時３００ＯＮ７ｒｔの割合で放
出された。

このプロセスはまた、事実上欠陥のないコーティングを
形成した。この場合、コーティングは青味がかつていて
、すぐれた視覚上の外観と厚みの均等性を有していた。

ここで生じたコーティングを、電子顕微鏡を使って１ｏ
ｏｏｏｏ’ａ倍の倍率で写真にとった。

その写真は、酸化錫のコーティング結晶の代表的なサン
プルで占める部分を評価するように処理した。分析後、
次のような結果が得られた。

コーティング厚み　　　７５０　ｎｍ 期待される粒子の面積　　４０７ｘｌＯμ−標準偏差　
　　　　　４９２ｘｌＯμ−歪度係数　　　　　　１、
に の例はまた、出願筒８５　３１　４２４号として、１９
８５年１２月２０日付で出願した英国特許出願に示した
発明をも使用している。

実施例　６ 第４図に示す装置と同じ装置を使って５８０℃の温度で
コーティングステーションに入るように、毎分８．５ｍ
の速度でフロート室から移動するガラスの５１１ｕｘ厚
さのリボンに、４００　ｎｍ厚みの弗素でドープ処理し
た酸化錫のコーティングを形成した。この例において、
リボンの下のガス放出装置は使用されず、補助ガス放出
管５２も使用されなかった。コーテイング室はその全長
が８メートルであった。単一の往復式スプレーノズルを
使用した。

ここで用いたコーティング先行材料は、そのコーティン
グのイオンをドープ処理するために二弗化アンモニウム
を含有する塩化錫の水溶液であった。この水溶液は２３
バールの圧力のもとに、毎時１１０１の割合でスプレー
が行われた。その時、ノズルは毎分２２サイクルの割合
で往復動した。このノズルは実施例３と同じように配置
した。

放出オリフィス５１から予加熱空気が放出された。

ガラス物質の高さより上方で生じる吸引は毎時、８００
００ｄの割合に保持され、それによってコーテイング室
内の材料を静かに下流へ流すことができた。

このプロセスはまた、事実上局部的欠陥のない、高度に
均等なコーティングを形成することになった。

このコーティングを電子顕微鏡を使って、１０００００
〜倍の倍率で写真にとり、それらの写真は、酸化錫のコ
ーティングの結晶の代表的なサンプルが占める面積を評
価するように処理した。分析後、次のような結果か得ら
れた。

コーティングの厚み　　４００　ｎｍ 期待される粒子面積　　２４７Ｘ１０　　μ−標準偏差
　　　　　　１２５ｘｌＯμ−歪度係数　　　　　　０
８ この例はまた、出願第８５　３１　４２４号として１９
８５年１２月２０日付で出願した英国特許出願に示した
発明をも使用している。

この例の標準偏差が比較的小さく、期待される粒子面積
もたった半分ということは、コーティング操作時の温度
がわずかに低かったことによる。

実施例　７ 第５図に示す装置に基づいた装置を使って厚みが７５０
　ｎｍの酸化錫コーティングが、毎分８５ｍの速度で移
動するフロートガラスの６　ｒｔｒｍ厚さのリボンに形
成された。

この装置において、コーテイング室６は幅３ｍよりちょ
っと大きく、約３メートルまでの幅のガラスリボンを使
用するようになっていた。

コーテイング室のスプレー区域９の上方にある屋根構造
体５はリボン通路１の高さの上方、１メートルであり、
小滴放出ノズル７のスプレーｔ　ＩＪフイスは前記屋根
の高さに近い。そのノズル７は円錐形小滴流を水平線に
対して４５°の角度で方向８へ向って放出するように配
置される。

スプレー区域９の下流端にあるブリッジ壁１４はコーテ
イング室の上流端壁から２２メートルの距離だけ離れて
位置する。通路１３は、出口スロット１５のところで４
０ｃｒｎの高さあり、そこからその下流端部では２５ｃ
ｒｎとなるように低くなる。その通路１３の長さは４５
メートルである。

ガラスは６００℃の温度でコーテイング室へ入り、コー
ティング先行材料は、コーティング中のイオンをドープ
処理するために二弗化アンモニウムを含有する塩化錫の
水溶液であった。

この水溶液は毎時２２０１の割合でノズルからスプレー
され、その時、ノズルはリボン通路を横切って往復した
。

スプレー区域の屋根にある輻射式ヒーターのスイッチが
入れられ、空気が毎分６０００　Ｎｄの割合で、４００
℃の温度でオリフィス５５を通って放出された。。その
結果、コーティング先行材料のスプレー流の一部は蒸発
し、残りの部分だけがガラスに確実にぶつかった。この
ようにして形成されたコーティング先行材料の蒸気はオ
リフィス５５から放出された子扉熱空気の流れにのり、
出口スロット１５を通り、通路１３に沿って排気ダクト
４６へ流れた。

排気ダクトの中で吸引力が生じ、約３５０℃の平均温度
でコーテイング室から大気材料を毎時、約１０００００
ボ移動させ、かくしてヒーター３４により子扉熱された
ガスのブランケット層を引っばり、それがガラス物質を
カバーする。

これはコーティングを形成し始める部分でガラス物質の
真上で大気を法外にうまくコントロールすることがわか
った。このことは、必要な厚みのコーティングを規則正
しく形成することに特に効果的であり、必要な厚みのコ
ーティングが形成されるリボンの幅を増すこともわがつ
た。

その結果、ここで形成されたコーティングは高品質の結
晶構造体を有し、ひいては外観がすぐれていて均等であ
り、しかも欠陥に結びつくようなコーティング反応生成
物も含んでいなかった。

このコーティングを、電子顕微鏡を使って１０００００
倍の倍率で写真をとり、それらの写真は、酸化錫のコー
ティング結晶の代表的サンプルが占める部分を評価する
ように処理がなされた。分析後、次のような結果が得ら
れた。

コーティングの厚み　　７５０　ｎｍ 期待される粒子面積　　５２０Ｘ１０　　μ−標準偏差
　　　　　　４４４Ｘ１０　　μ−歪度係数　　　　　
　１．４ この例はまた、出願第８５　３１　４２３号として１９
８５年１２月２０日付で出願された英国特許出願に記載
した発明と、出願第８５３１　４２５号として、１９８
５年１２月２０日付で出願した英国特許出願に記載して
いる発明も使用した。

実施例　８ 第５図に示す装置に基づいた装置を使用し、実施例７と
同一厚みで、それと同一速度で移動するガラスリボンに
、同一厚みの酸化錫のコーティングを形成した。ここで
用いたコーティング先行材料は、ジメチルフォルムアミ
ド中に溶解した塩化錫であり、これはリボンの上方７５
σのところにあるスプレーノズル７から放出さレタ。こ
のスプレーノズルは水平線に対して３０゜だけ傾斜して
いた。塩化錫の蒸気が、スプレーノズル７の高さとガス
放出オリフィス５５との間で上流端部壁４３の殆ど全長
にわたって伸長するスロット（図示せず）から放出され
た。スプレー区域９に形成された蒸気は、排気ダクト４
６だけを通って、所望の厚みのコーティングにするよう
にある割合で通路１３に沿って前部吸引により吸引され
た。

ガラスは６００℃の温度でコーテイング室６へ入り、６
００℃に子扉熱された空気は毎時、３００ＯＮ−の割合
で、図示していないダクトから前室３３へ放出され、ブ
ランケット層がガラスをカバーする時、コーテイング室
へ流入する。

スプレー区域９内の大気材料は、密に混合され、蒸気を
含む大気の連続流が、コーティングが形成されるガラス
物質の表面と接触した状態で通路１３に沿って引っばら
れる。

５５０℃に子扉熱された空気は、物質通路の下の放出装
置（第４図と比較のこと）から、毎時、３００ＯＮ−の
割合で放出された。

これはまた、高度の均等性をもつコーティングが形成さ
れる点ですぐれた結果が得られた。

ここで得られたコーティングは、電子顕微鏡を使って１
０００００倍の倍率で写真にとり、それらの写真は、酸
化錫のコーティング結晶の代表的なサンプルが占める部
分を評価するように処理した。分析後、次のような結果
が得られた。

コーティングの厚め　　７５０　ｎｍ 期待される粒子面積　　４７４Ｘ１０　　μ扉標準偏差
　　　　　　４６７Ｘ１０　　μ−歪度係数　　　　　
　１．３ この例もまた、出願第８５　３１　４２５号として１９
８５年１２月２０日付で出願した英国特許出願に説明し
た発明をも使用している。

実施例　９ 第２，３図に示す装置に基づいた装置が使用され、６０
０℃の温度でコーテイング室へ入るように毎分８．５ｍ
の速度で移動する５１１ｎｎのフロートガラスのリボン
に、弗素でドープ処理した酸化錫の厚さ４００　ｎｎｔ
のコーティングを形成した。

さらに符号５０で示すような、リボンの下のブロワ−が
前室３３の下に配置され、遮壁３０が入口スロット３］
の開口を調整するためにディトとして構成された。ガス
の流入ダクトおよび排気ダクト３５〜３８はスプレー区
域９から除去され、その区域の上方には、１０（第１図
）のような輻射式ヒーターが配設された。

ここで用いたコーティング先行材料は、そのコーティン
グ中のイオンをドープ処理するために二弗化アンモニウ
ムを含有する塩化錫の溶液であった。この溶液は２３バ
ールの圧力のもとで毎時、１２０７？の割合でノズルか
らスプレーされ、その時、ノズルは毎分２３サイクルの
割合で往復移動した。

６００℃に前もって加熱された空□気はリボンの下のブ
ロワ−から前室３３へ放出され、それカラガラスをカバ
ーするブランケット層を形成するようにコーテイング室
へ引きこまれた。排気システム３９〜４１を通る吸引は
約３５０℃の温度で毎時６００００−の割合で行われ、
それによってコーテイング室内に材料の静かな下流への
流れが保持された。

輻射式屋根ヒーターにスイッチが入り、ガラス物質へ向
って移動する間、スプレーされたコーティング先行材料
を蒸発させた。スプレーノズルの往復動により生じる乱
流や、コーティング先行材料のスプレー流のために、蒸
発材料はスプレー区域９内の空気と密に混合しこの蒸気
を含む大気は通路１３に沿って出口スロット１５へ引き
こまれた。コーティング先行材料の蒸気はガラスと接触
している大気のブランケット層と混合し、必要な厚みの
コーティングか塗着された。

前室３３には、その中の大気を子扉熱するためにヒータ
ー３４が取付られていた。これらのヒーターは、例えば
前室の側部で大部分の程度まで所望の温度プロフィルに
従って空気を加熱することができる。

この例のプロセスにより形成されたコーティングは非常
に高品質を有し、事実上リボンの幅全体にわたって均等
な外観を有していた。

そこで生じたコーティングは電子顕微鏡を使って１００
０００倍の倍率で写真をとり、それらの写真は、酸化錫
のコーティング結晶の代表的なサンプルが占める部分を
評価するように処理した。分析後、次の結果が示された
。

コーティングの厚み　　４００　ｎｍ 期待される粒子面積　　２４７Ｘ１０　　μ−標準偏差
　　　１２５Ｘ１０　　μｄ 歪度係数　　　０８ この例はまた、出願第８５　３１　４２４号として１９
８５年１２月２０日付で出願した英国特許出願に記載し
た発明と、出願第８５３１４２５号として、１９８５年
１２月２０日付で出願した英国特許出願に記載している
発明をも使用している。

実施例　１０ 第５図に示す装置に基づいた装置を、使用して、厚さ２
５７　ｎｍの酸化錫コーティングを形成した。その装置
は前室３３を使用しなかった。

コーテイング室６の長さは約６メートルであった。

ガラスリボンは毎分１０ｍの速度で６００℃の温度でコ
ーテイング室へ入ってきた。

ここで使用したコーティング先行材料は、そのコーティ
ング中のイオンをドープ処理するために二弗化アンモニ
ウムを含有する塩化錫の溶液であった。この溶液は２０
バールの圧力で毎時７０１Ｃｒ）割合でノズルからスプ
レーされた。

その時、ノズルは毎分２２サイクルの割合で往復動した
。そのノズルはガラスの高さの上方１ｍの位置にあり、
４５°の角度をもって下向きに配置されていた。

６００℃に子扉熱された空気が放出オリフィス５５を通
ってスプレー区域へ放出された。その放出割合や、大気
材料がコーテイング室から吸引される割合は、必要な厚
みのコーティングを作るように調整が行われた。

この例のプロセスにより形成されたコーティングもまた
、非常に高品質で均等な外観を有していた。その特性は
次のとおりであった。

コーティング厚み　　　２５７　ｎｍ 期待される粒子面積　　１２７Ｘ１０　　μ扉標準偏差
　　　　　　　７３Ｘ１０　　μ−歪度係数　　　　　
　１．３ この例もまた、出願第８５　３１　４２４号として１９
８５年１２月２０日付で出願した英国特許出願に説明し
ている発明を使用している。

実施例　１１〜１９ 前述の各側を変形したものにおいて、装置は、シート状
に切断して再加熱したガラスにコーティングを形成する
ために使用された。この方法は他のものも同様であった
。

コーティングの品質に関しては似たような結果が生じた
。

【図面の簡単な説明】

第１　、２　、４　、５図は各々、コーティング装置の
実施例の横断側面図であり、 第３図は第２図の■−■線に沿ってとった断面図であり
、 第６図は結晶部分についての全体的密度グラフである。 〈図中符号〉 １　ガラス物質の通路　　２　ローラー４　コーティン
グステーション　５　屋根構造体６　コーテイング室　
　　７　スプレーノズル９　スプレー区域　　　　１０
輻射型ヒーター１１　　ダクト　　　　　　　１２放出
オリフイス１３通路　　　　　　　　１４ブリツジ壁１
５　　出口スロット・　　　　１６　　ガスジェットノ
ズル１．７．１８．１９　排気ダクト　　２０　人口２
１　　邪魔板　　　　　　２２ガス放出装置２３充満室
　　　　　　　２４スロット２５転向舌片　　　　　　
２６転向板 ２７バリヤ壁　　　　　　２８焼きなまし部分２９屋根
　　　　　　　　３１．３２遮壁３１　人口スロット　
　　　３３前室 ３４　ヒーター　　　　　　３５一対のダクト３６放出
オリフイス　　　３７人口 ３９排気ボツクス　　　　４０排気ダクト４４ブリツジ
壁　　　　５０ブロワ− ５１放出オリフイス　　　５２補助ガス放出管５６　よ
ろい板 Ｆｉｇ、３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、酸化錫層は少くとも２００ｎｍの厚みを有し、１０
   ＾−＾４μｍ＾２単位で測定した時、酸化錫のコーティ
   ングの結晶の代表的なサンプルの期待される粒子面積は
   数字的には、ナノメーターで測定した層の厚みの少くと
   も０．４倍の値に等しいことを特徴とする酸化錫のコー
   ティング層をつけた平板ガラス。 ２、横軸に粒子面積をとり、縦軸にインターバルをとつ
   て、その所与のインターバル内にある粒子面積を有する
   酸化錫の結晶の代表的なサンプルの結晶の数をプロット
   することにより全体的な密度曲線を作る時、その曲線は
   正の歪度係数を有することを特徴とする特許請求の範囲
   第１項に記載の平板ガラス。 ３、全体的密度曲線は少くとも１の歪度係数を有するこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第２項に記載の平板ガラ
   ス。 ４、酸化錫のコーティングの結晶の代表的なサンプルの
   粒子面積の標準偏差は期待値の少くとも半分であること
   を特徴とする特許請求の範囲第２項、または第３項に記
   載の平板ガラス。 ５、酸化錫のコーティングの結晶の代表的なサンプルの
   粒子面積の標準偏差は期待値の少くとも０．７倍である
   ことを特徴とする特許請求の範囲第４項に記載の平板ガ
   ラス。 ６、１０＾−＾４μｍ＾２単位で測定した酸化錫コーテ
   ィングの結晶の代表的サンプルの期待される粒子面積は
   数字的に、ナノメーターで測定した層の厚みの少くとも
   ０．５倍の値に等しいことを特徴とする前述の特許請求
   の範囲のいずれかに記載の平板ガラス。 ７、酸化層は少くとも３００ｎｍの厚みを有することを
   特徴とする前述の特許請求の範囲のいずれかに記載の平
   板ガラス。 ８、酸化錫層は少くとも７００ｎｍの厚みを有すること
   を特徴とする特許請求の範囲第７項に記載の平板ガラス
   。 ９、酸化錫コーティングの結晶の代表的なサンプルの期
   待される粒子面積は、３５０×１０＾−＾４μｍ＾２〜
   ７００×１０＾−＾４μｍ＾２の範囲にあることを特徴
   とする特許請求の範囲第８項に記載の平板ガラス。