DK154823B - Fremgangsmaade til dannelse af en tinoxidbelaegning paa en overflade af et glassubstrat eller paa en tidligere dannet belaegning herpaa - Google Patents

Description

DK 154823 B

i

Opfindelsen angår en fremgangsmåde til dannelse af en tinoxid-belægning på en overflade af et glassubstrat eller på en tidligere dannet belægning herpå, hvilken fremgangsmåde omfatter, at en sådan overflade, medens den er ved hævet temperatur, kontaktes med et gas-5 formigt, vanddampholdigt medium, der indeholder tintetrachlorid, som undergår kemisk reaktion og/eller sønderdeling under dannelse af tinoxidbelægningen.

Dampaflejring af metaloxidfilm på forskellige substrater er blevet 10 beskrevet i litteraturen, se f.eks. beskrivelsen til britisk patentansøgning nr. 702.774 og "Mechanism of CVD Thin Film Sn02 Formation" af R.N. Ghoshtagore i Journal of the Electrochemical Society, januar 1978, s. 110. Disse publikationer beskriver dannelsen af metaloxidbelægninger ved, at hydroliserbare, flygtige chloriddampe bringes i 15 kontakt med den overflade, der skal belægges, ved forhøjet temperatur og i nærværelse af vanddamp. Ifølge beskrivelsen til britisk patentansøgning nr. 702.774 sprøjtes en opløsning (der kan være en vandig opløsning) af en elektrisk ledende film-dannende forbindelse, f.eks. stannichlorid, på et glassubstrat ved en temperatur på over 20 204°C i nærværelse af vand i den atmosfære, der grænser op til den overflade, som belægges. I beskrivelsen fastslås det, at tilstedeværelse af vand i den atmosfære, hvori belægningsdannelsen sker, fremmer filmdannelseshastigheden, men beskrivelsen fastsætter, at vandindholdet i den atmosfære, i hvilken sprøjtning finder sted, i 25 alle tilfælde må være mindre end 0,01 kg per kg luft. I artiklen af R.N. Goshtagore i J.Electrochem.Soc. januar 1978 beskrives dampfase-aflejring af tynde stannioxid-film på opvarmede amorfe siliciumdi-oxidsubstrater fra en kontaktende blanding af stannichloriddamp og vanddamp i en bæregas.

30

Fra beskrivelsen til SU opfindercertifikat nr. 621.647 kendes endvidere en fremgangsmåde til påføring af en belægning af Sn02 på overfladen af glasprodukter til forøgelse af disses modstandsdygtighed mod overfladebeskadigelser forårsaget af overfladeaktive stoffer 35 eller mekaniske eller termiske påvirkninger. Ved denne fremgangsmåde føres glasprodukter med en overfladetemperatur på 600-750°C på en opvarmet transportør ind i et kammer, hvori der ved et tryk på 0,1-1,5 ato indføres en SnCl^-damp/luftblånding, som frembringes ved at lede tørret luft med en relativ fugtighed på 10-40% gennem

DK 154823 B

2 beholdere med SnCl^. Overtrykket bidrager til en hurtig og ensartet fordeling af damp/luftblandingen i påføringskammeret, og som følge heraf dannes der et ubrudt og ensartet dæklag af Sn02 på glasprodukternes overflade ved SnCl^-dampenes berøring med denne. Der angives 5 i opfindercertifikatet imidlertid ikke noget om dannelseshastigheden for den omhandlede belægning, men det anføres, at hvis der til dannelse af belægningen i stedet benyttes en tinchloriddamp/luft-blånding med en højere relativ luftfugtighed ifølge ældre kendt teknik, bliver styrken af de behandlede produkter utilstrækkelig og 10 belægningen tilsyneladende ikke tilstrækkeligt ensartet som følge af den høje relative fugtighed.

Til forskellige formål er det imidlertid ikke blot nødvendigt at danne tinoxidbelægninger, der. har gode optiske egenskaber og især en 15 ensartet lystransmitterende evne, hvilket forudsætter en ensartet belægningsstruktur. Belægningerne skal også helst kunne dannes med en betydelig hastighed, f.eks. kontinuerligt på et sig bevægende substrat, såsom et glasbånd, og vanskelighederne har tendens til at blive større, når der er tale om høje substrathastigheder. I den 20 industri, der fremstiller plant glas, er det ofte vigtigt at danne optiske belægninger på det plane glas under dets kontinuerlige fremstilling, og udviklingen går i retning af større produktionshastigheder. F. eks. fremstilles flydeglas med båndhastigheder på mindst adskillige meter per minut, og hastigheder på op til 12 meter 25 per minut eller mere opnås i nogle værker.

Den lære, der kan uddrages af de tidligere publikationer om kemiske dampaflejringsmetoder, gør det ikke muligt at danne tinoxidbelægninger af god optisk kvalitet ved store aflejringshastigheder på et 30 glassubstrat. Dannelsen af overfladebelægninger ved en kemisk dampaflejringsteknik påvirkes af talrige faktorer ud over de mere indlysende faktorer, såsom sammensætningen af dampen og naturen af dampaflejringsreaktionerne.. Sådanne andre faktorer omfatter temperaturbetingelserne på belægningsstedet og sammensætningen af selve 35 substratoverfladen. Skønt tinoxidaflejringshastigheden på et sig bevægende substrat af glas kan forøges ved at udføre belægningsoperationen i en fugtig atmosfære, skal fugtighedsniveauet være meget begrænset, når man følger læren af de tidligere publikationer, ellers er resultaterne utilfredsstillende, jvf. førnævnte SU opfin-

DK 154823 B

3 dercertifikat nr. 621.647. Belægningerne bliver uheldigt uklare, og dette kunne faktisk forventes ud fra beskrivelsen til førnævnte britiske patentansøgning (702.774), eftersom forekomsten af uklarhed i denne beskrivelse omtales som en grund til, at vanddampmængden bør 5 være meget begrænset.

Det er et formål for den foreliggende opfindelse at tilvejebringe en fremgangsmåde ved hvilken tinoxidbelægninger af god optisk kvalitet driftssikkert kan dannes på glassubstrater ved kemisk dampaflejring, 10 og ved hvilken disse resultater kan opnås ved relativt store aflejringshastigheder.

Dette formål opnås med den indledningsvis angivne fremgangsmåde, når den ifølge opfindelsen er ejendommelig ved, at det gasformige medium 15 indeholder tintetrachlorid i en koncentration, der svarer til et partialtryk på fra 2,5 x 10 til 10 atm., og indeholder vanddamp _3 i en koncentration, der svarer til et partialtryk på fra 50 x 10 o atm. til 200 x 10 atm., og bringes i kontakt med overfladen, medens temperaturen af det gasformige medium er mindst 300°C, og 20 temperaturen af glasset, hvor denne kontakt finder sted, er over 550°C, men ikke så høj, at glasset befinder sig i en blød tilstand.

Ved udøvelse af denne fremgangsmåde er det muligt at opnå høje tinoxidaflejringshastigheder, medens man på samme tid danner en tin-25 oxidbelægning af god optisk kvalitet uden uklarhed. Forekomsten af de specificerede minimumspartialtryk af tintetrachlorid- og vanddamp er afgørende for dette resultat. Som erkendt i den tidligere publicerede litteratur, der omtaltes ovenfor, influerer tilstedeværelsen af vanddamp på tinoxidaflejringshastigheden. Under de fremgangsmåde-30 betingelser, der blev anvendt før den foreliggende opfindelse, havde vanddampen imidlertid tendens til at forringe belægningskvaliteten med mindre vanddampen blev brugt i meget begrænsede koncentrationer.

Den foreliggende opfindelse baseres på den erkendelse, at denne strenge begrænsning af vanddampkoncentrationen ikke er nødvendig, 35 forudsat at der er en tilstrækkelig koncentration af tintetrachlorid i det gasformige medium, hvorfra tinoxidaflejringen sker. I almindelighed forøger en stigning i koncentrationen af tintetrachloriddam-pen over et vist koncentrationsområde i sig selv tinoxidaflejringshastigheden, alt andet lige. Men effektiviteten af fremgangsmåden

DK 154823B

4 udtrykt som den del af tintetrachlondet, der omdannes til tinoxid på glassubstratet, og belægningskval i teten falder signifikant, hvis tintetrachloridkoncentrationen overskrider en vis størrelse.

Ved at holde parti al trykkene af vanddampen på en værdi på mindst _3 5 10 x 10 atm. som ovenfor beskrevet, kan store belægningshastig heder opnås uden at ty til så høje koncentrationer af tintetrachlo-rid, at tilstrækkelig proceseffektivitet og belægningskvalitet ikke kan opnås. Det vil forstås ud fra disse forklaringer, at der er en vigtig funktionel relation mellem tintetrachlorid- og vanddampkon-10 centrationerne. Ved at overholde de specificerede minimumsværdier for begge disse koncentrationer kan belægninger af god optisk kvalitet dannes ved større aflejringshastigheder end det er muligt ved at anvende den lære, der kan uddrages af de tidligere publikationer på dette område.

15

Partialtrykket af tintetrachlorid i det gasformige medium, der bringes i kontakt med den overflade, der skal belægges, er på fra -3 -2 2,5 x 10 til 10 atm. Ved at arbejde i dette tintetrachlorid-kon-centrationsområde kan store tinoxidaflejringshastigheder på mindst 20 800 A/sek., og selv hastigheder på mellem 2000 og 3000 A/sek., opnås ved høj fremstillingseffektivitet, når der samtidig opretholdes en vanddampkoncentration, der svarer til et partialtryk på mellem 50 x 10"^ og 200 x 10"^ atm.

25 Tinoxidaflejringshastigheden omtales i den foreliggende beskrivelse som væksthastigheden af tinoxidbelægningstykkelsen på substratet og kan udtrykkes som Ångstrøm per sekund.

I foretrukne udførelsesformer for fremgangsmåden ifølge opfindelsen 30 bringes det gasformige medium til at strømme langs den substratoverflade, der belægges. Dette træk er ansvarligt for en yderligere forbedring af den opnåelige belægningskvalitet.

I de mest foretrukne udførelsesformer for opfindelsen bringes det 35 gasformige medium til at strømme langs substratoverfladen, der skal belægges, som et i alt væsentligt turbulensfrit lag, langs en strømningspassage, som til dels defineres af glasoverfladen, og som fører til en udtømningskanal, hvorigennem overskydende medium trækkes væk fra overfladen.

DK 154823 B

5

Strømmen af det gasformige medium langs strømningspassagen anses i alt væsentligt for turbulensfri, hvis den i alt væsentligt er fri for lokalt cirkulerende strømme eller hvirvler, der giver årsag til en væsentlig forøgelse i strømningsmodstanden. Med andre ord er 5 strømmen fortrinsvis laminar, men bølgebevægelse i fluidummet eller mindre hvirvelstrømme kan tolereres, forudsat at den krævede metaloxidbelægning i alt væsentligt kun dannes ved det grænselag, der er i kontakt med den varme substratoverflade, og ikke i nogen signifikant grad dannes som et bundfald i den flydende strøm.

10

Falske aflejringer på den overflade, der skal belægges, undgås lettere, hvis strømningspassagen, hvori belægningen dannes, er snæver. Fortrinsvis er højden af strømningspassagen, målt vinkelret på substratoverfladen ikke på noget sted mere end 40 mm.

15

Strømningspassagen kan være af ensartet højde eller passagen kan stige eller aftage i højde langs sin længde i den retning, som gasstrømmen bevæger sig.

20 Det er fordelagtigt, at strømningspassagehøjden aftager i gasstrømningsretningen, i det mindste i den ende, der fører op til udtømningskanalen. Ved at anvende en strømningspassage, som spidser til på denne måde, er det lettere at undgå uhensigtsmæssig turbulens i det strømmende lag af gas. Strømningspassagen spidser fortrinsvis 25 til over mindst den største del af sin længde. En tilspidsningsvinkel på 10° eller mindre er sædvanligvis tilfredsstillende. De foregående træk anbefales for at opnå belægninger af optimal kvalitet udtrykt ved fravær af interne strukturelle uperfektheder, der medfører lysdiffusion eller såkaldt "indre uklarhed". For at fremme 30 dette farmål er det fordelagtigt, at det gasformige medium, der strømmer langs substratoverfladen, i det mindste delvis hidrører fra en gasstrøm, der nærmer sig overfladen langs en bane (f.eks. en bane, der fører ind i strømningspassagen), som forløber i en vinkel på 45° eller mindre i forhold til substratoverfladen. TiIføringen af 35 gasstrømmen, eller en gasstrøm, i en vinkel på 45° eller mindre i forhold til den overflade, der skal belægges, fremmer den krævede ikke-turbul ente strøm af gasformigt medium langs strømningspassagen.

DK 154823 B

6

Det foretrækkes, at tintetrachloridet og vanddampen tilføres belægningszonen i separate gasstrømme, således at de kommer i kontakt med hinanden i nærheden af den substratoverflade, der skal belægges.

Ved denne fremgangsmåde kan tidlig reaktion af tinsaltet, der 5 medfører aflejringer i det indre af en damptilførselspassage, undgås.

Tintetrachloriddampen leveres fortrinsvis til substratet i en strøm af nitrogen som bæregas.

10 I nogle meget fordelagtige udførélsesformer for fremgangsmåden ifølge opfindelsen bringes en nitrogenstrøm, der indeholder tinte-trachloriddamp, til at strømme langs overfladen, der belægges, og en luftstrøm, der indeholder vanddamp, indføres i denne strøm på et 15 sted, hvor det strømmer langs overfladen. Et doneringmiddel, f.eks. hydrogenfluorid, kan være til stede i det gasformige medium, fra hvilken tinoxidaflejringen finder sted for at forøge belægningens effektivitetet i det fjerne infrarøde område. Sådanne doneringmidler kan f.eks. fødes til substratoverfladen, der belægges, sammenblandet 20 med fugtig luft eller fødes separat.

Temperaturen af glasset i belægm'ngszonen kan ligge kendeligt over den specificerede lave grænse på 550°C, men i overensstemmelse med almindelig praksis for glasbelægning ved kemisk dampaflejringsteknik 25 bør temperaturen af glasset på det sted, hvor aflejringen sker, ikke være så høj, at glasset ér i en bl'ød til stand.

De potentielle fordele ved udøvelse af opfindelsen opnås bedst, når den bruges til dannelse af belægninger ved høje aflejringshastighe-30 der. Meget vigtige udførelsesformer for opfindelsen er dem, hvor koncentrationerne af tintetrachlorid og vanddamp i belægningszonen er sådanne, at tinoxidbelægningen dannes med en hastighed på mindst 800 Å/sek. På grund af de høje aflejringshastigheder, som kan opnås, kan opfindelsen med stor fordel anvendes til dannelse af en tinoxid-35 belægning på et bånd af flydegias, når det kommer fra flydetanken. I visse sådanne anvendelser af opfindelsen belægges et bånd af flyde-glas med tinoxid ved kontaktning af båndet med et gasformigt medium som tidligere specificeret heri, i et område langs glasbåndbanen, hvor temperaturen af glasset ligger i området på fra 550° til 650°C,

’7 DK 154823 B

hvor glasbåndet har en hastighed på mindst 6 m/min, og hvor de momentane mængder og koncentrationerne af tintetrachlorid og vanddamp i gasmediet, hvorfra tinoxidbelægningen sker, er sådanne, at belægningen dannes på substratet ved en hastighed på mindst 800 5 A/sek.

Når man belægger et bånd af fl ydegi as, eller ved enhver anden anvendelse af fremgangsmåden ifølge den foreliggende opfindelse, kan belægningen, der dannes ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen, 10 dannes direkte på glasset eller på en tidligere dannet belægning.

For eksempel kan en tinoxidbelægning dannes ved fremgangsmåden ifølge opfindelsen på en relativt tynd underbelægning af andet materiale, hvilket kan være til hjælp til undgåelse af uklarhed på grund af strukturelle fænomener ved en grænseflade.

15

Fremgangsmåden ifølge opfindelsen kan selvfølgelig udføres gentagne gange under dannelse af et tinoxidlag oven på et andet.

Visse udførelsesformer for fremgangsmåden ifølge opfindelsen vil nu 20 blive beskrevet, alene ved hjælp af eksempler. I disse eksempler henvises til apparatet, der er vist i den medfølgende diagramtegning, som er et vertikalt tværsnitsbillede af en belægningsstation langs båndbanen af glas, der er dannet ved en flydeproces.

25 Eksempel 1

Det illustrerede belægningsapparat blev brugt til belægning af et glasbånd 1, der glider på et bad af smeltet tin i den ved pil 2 angivne retning fra en flydetank (ikke vist), i hvilken glasbåndet 30 dannes ved en flydeproces. Glasbåndet havde en hastighed på 12 meter per minut og blev ved belægningsstationen understøttet af valser 3.

Belægningsstationen ligger i et kammer 4 i en horisontal gang, der har et ildfast loft 5, en ildfast undervæg 6 og ildfaste sidevægge, 35 hvoraf kun én, betegnet 7, ses på tegningen. Enderne af kammeret dannes af forskydelige ildfaste skærme 8,9. Belægningsapparatet opstilles på et sted mellem flydetanken og en udglødningsgang. Alternativt kunne et sådant belægningsapparat opstilles inden i en del af udglødningsgangen.

DK 154823 B

8

Belægningsapparatet omfatter tre føderør 10,11,12, hvorigennem gasstrømme kan ledes ind i belægningskammeret. Den nederste del af disse rør er bøjet nedad og fremad i den retning glasbåndet glider, i en vinkel på 45° i forhold til den horisontale retning. Udtøm-5 ningsenderne af rørene åbner ind i en snæver strømningspassage 13, der dels er afgrænset af afskærmningen 14 og dels af topoverfladen af glasbåndet.

Afskærmingen 14 strækker sig over i alt væsentligt den fulde bredde 10 af glasbåndet, og rørene 10,11,12 har i horisontale planer aflange, rektangulære tværsnit, deres bredde (målt vinkelret på tegningens plan) er kun lidt mindre end den tilsvarende dimension af afskærmningen. De skråtstillede udledningsendestykker af disse rør afgrænser spalteformede udledningsmundinger, fra hvilke gasstrømme strøm-15 mer i form af lag, der strækker sig over hovedsagelig den fulde indre bredde af strømningspassagen 13.

Toppen af afskærmningen 14 skråner en smule nedad i gasstrømsretningen, således at gasstrømspassagen 13 aftager lidt i højde hen 20 imod den gasudgangsende, i hvilken den er forbundet til en skorsten 15. Længden af reaktoren, fra gasudledningsenden af rør 12 til skorstenen 15, er ca. 2 meter, og dens højde varierer fra 40 mm ved dens indgangsende til 10 mm ved dens udgangsende. Skorstenen 15 er internt opdelt af skillevægge, såsom 16, i et stort antal udstrøm-25 ningsgange fordelt i side-til-side relationer tværs over hovedsagelig hele bredden af gasudstrømningsbanen.

Temperaturen af glasbåndet i regionen neden for indgangsenden af strømningspassagen 13 var ca. 580°C.

30

Nitrogen forvarmet til 500°C fødtes fra en kilde (ikke vist) gennem røret 10 for på denne måde at tjene som en slags pneumatisk skærm, der isolerer passagen 13 fra de gasser, der befinder sig i kammeret 4 uden for afskærmningen 14.

35

Tintetrachloriddamp indblandet i en strøm af nitrogen ved 450°C fødtes kontinuerligt gennem rør 11 for på denne måde at udledes som en strøm, der strømmer på langs af passagen 13. Tintetrachloriddampen blev dannet ved at sprøjte flydende tetrachlorid ind i en

DK 154823 B

9 forvarmet nitrogenstrøm.

Røret 12 blev kontinuerligt forsynet med en gasblanding ved 450°C og omfattede luft, vanddamp og flussyre. Formålet med flussyren var at 5 dope belægningen, der dannes på glasbåndet, med fluor-ioner for på denne måde at øge belægningens fjern-infrarøde reflektivitet. Tilførslen af gas gennem rør 12 hjælper med til at bevæge eller presse den reaktive strøm, der indeholder tintetrachlorid, hen imod overfladen af glasset.

10

Som et resultat af den kontinuerlige afgivelse af gasstrømme, som overfor beskrevet, ind i passagen 13 blev der i den ende af gangen, imod hvilken strømmen løber, mellem udstrømningsenden af røret 12 og skorstenen 15, opretholdt en gasstrøm, der indeholder tintetrachlo-15 rid og vanddamp (samm.en med flussyre). Denne gasblanding danner et i alt væsentligt turbulensfrit lag. De relative mængder af de forskellige gasarter, der'fødes ind i passagen 13 fra rørene 10, 11 og 12, var per tidsenhed sådanne, at der i passagen 13 i glasniveauet efter den spalteformede udtømningsåbning for røret 12, opretholdtes et _3 20 tintetrachlorid-partialtryk på 5 x 10 atm. og et vanddampparti al-tryk på 125 x 10 atm. Tinoxid blev aflejret på det glidende glasbånd fra den del af passagen 13, hvorimod strømmen går. Overskudsgasser blev kontinuerligt udtømt fra belægningsstedet via skorstenen 15.

25

En belægning af tinoxid, der var 8000 Å tyk, dannedes på det glidende glasbånd. Dette svarer til en aflejringshastighed på 1200 Å/sek. Undersøgelse af den dannede belægning viste, at den var fri for indre uklarhed til trods for den store tinoxidaflejringshastighed.

30

Eksempel 2

Idet der anvendtes et belægningsapparat som beskrevet i eksempel 1, blev belægningsoperationen udført, medens der blev opretholdt 35 partialtryk af SnCl^ og HgO som anført i den efterfølgende tabel, der også viser de tilsvarende aflejringshastigheder for tinoxidbe-lægningen:

DK 154823 B

10

Partialtryk af Partialtryk af Aflejringshastighed

SnCl4 (atm) H20 (atm) (Å/sek.) 5 2 x 10"3 10 x 10‘3 400 6 x 10“3 10 X 10‘3 560 6 x 10"3 55 x 10‘3 1100 10 x 10'3 160 x 10"3 2500 10

Det fremgår af denne tabel, at de sidste to sæt betingelser er de mest tilfredsstillende til opnåelse af høje aflejringshastigheder.

De er eksempler på den foretrukne fremgangsmåde ifølge opfindelsen.

15 Ved modifikation kan en del af afskærmningen 14, som dækker reaktionszonen mellem udtømningsenden af rør 12 og skorstenen 15, udgøres af en sintret metalplade, og tør luft kan leveres gennem denne plade på en sådan måde, at der dannes en luftpude, som isolerer den reaktive gasstrøm fra reaktorvæggen og forhindrer den i at blive 20 tilstoppet.

I de foregående eksempler udøves opfindelsen ved at bringe det reaktive gasmedium til at strømme langs substratoverfladen, der belægges. Skønt foretrukket, er denne fremgangsmåde ikke essentiel.

25 For eksempel kan tintetrachloriddamp og vanddamp og flussyre blæses i separate strømme hen imod glasbåndet og på denne måde blandes i en zone, i hvilken de får kontakt med glasset og fra hvilken overskudsgas, inklusive reaktionsprodukter, fjernes i retningen væk fra glasbåndet.

30 35

Claims (15)

1. Fremgangsmåde til dannelse af en tinoxidbelægning på en over- 5 flade af et glassubstrat eller på en tidligere dannet belægning herpå, hvilken fremgangsmåde omfatter, at en sådan overflade, medens den er ved hævet temperatur, kontaktes med et gasformigt, vanddamphol digt medium, der indeholder tintetrachlorid, som undergår kemisk reaktion og/eller sønderdeling under dannelse af tinoxidbe-10 lægningen, kendetegnet ved, at det gasformige medium indeholder tintetrachlorid i en koncentration, der svarer til et -3 -2 partialtryk på fra 2,5 x 10 til 10 atm., og indeholder vanddamp _3 i en koncentration, der svarer til et partialtryk på fra 50 x 10 _3 atm. til 200 x 10 atm., og bringes i kontakt med overfladen, 15 medens temperaturen af det gasformige medium er mindst 300°C, og temperaturen af glasset, hvor denne kontakt finder sted, er over 550°C, men ikke så høj, at glasset befinder sig i en blød tilstand.

2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, at det 20 gasformige medium bringes til at strømme langs substratoverfladen, der belægges.

3. Fremgangsmåde ifølge krav 2, k e n d e t e g n e t ved, at det gasformige medium bringes til at strømme langs substratoverfladen, 25 der belægges, som et i alt væsentligt turbulensfrit lag langs en strømningspassage; som til dels afgrænses af glasoverfladen, og som fører til en udtømningskanal, hvorigennem resterende medium fjernes fra overfladen.

4. Fremgangsmåde ifølge krav 3, kendetegnet ved, at højden af strømningspassagen (målt vinkelret på substratoverfladen) ikke på noget punkt overskrider 40 mm.

5. Fremgangsmåde ifølge krav 3 eller 4, kendetegnet 35 ved, at højden af strømningspassagen aftager i gasstrømsretningen, i det mindste over en endedel af dens længde, der fører frem til udtømningskanalen.

6. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 3-5, DK 154823 B kendetegnet ved, at strøinningspassagen i det mindste over den største del af sin længde tilspidser i retningen for gasstrømmen derigennem, hvorhos tilspidsningsvinklen er 10° eller mindre.

7. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 2-6, kendetegnet ved, at det gasformige medium, der strømmer langs substratoverfladen, i det mindste delvis hidrører fra en gasstrøm, som nærmer sig overfladen langs en bane, der danner en vinkel på 45°eller mindre med substratoverfladen. 10

8. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, kendetegnet ved, at, tintetrachloridet og vanddampen tilføres belægningszonen i separate gasstrømme, således at de kommer i kontakt i nærheden af den substratoverflade, der belægges. 15

9. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, kendetegnet ved, at tintetrachloriddampen leveres til glassubstratet i en strøm af nitrogen som bæregas.

10. Fremgangsmåde ifølge krav 9, kendetegnet ved, at en nitrogenstrøm, der indeholder tintetrachloriddamp, bringes til at strømme langs den overflade, der belægges, og en luftstrøm, der indeholder vanddamp, føres ind i denne strøm på et sted, hvor den strømmer langs den omtalte overflade. 25

11. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst at de foregående krav, kendetegnet ved, at et doneringsmiddel blandet med fugtig luft fødes til den substratoverflade, der belægges.

12. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, kendetegnet ved, at koncentrationerne af tintetra-chlorid og vanddamp i belægningszonen er sådanne, at der dannes en tinoxidbelægning med en hastighed på mindst 800 Å/sek.

13. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående krav, kendetegnet ved, at glassubstratet er et bånd af flydegi as, der bevæger sig fra en flydetank.

14. Fremgangsmåde ifølge krav 13, kendetegnet ved, at DK 154823 B båndet af flydegi as kontaktes med det gasformige medium i et område langs glasbåndets bane, hvor temperaturen af glasset ligger i området mellem 550° og 650°C, at glasbåndet har en hastighed på mindst 6 m/min, og at de øjeblikkelige mængder og koncentrationer af 5 tintetrachlorid og vanddamp i det gasformige medium, fra hvilke tinoxidaflejringen finder sted, er sådanne, at belægningen dannes på substratet med en hastighed på mindst 800 Å/sek.

15. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af de foregående 10 krav, kendetegnet ved, at tinoxidbelægningen dannes på en tidligere dannet relativt tynd belægning af et andet materiale på glassubstratet. 15 20 25 30 35