NL7512238A - Werkwijze voor het neerslaan van elektrodemateri- aal op een halfgeleider en halfgeleiderinrichting volgens deze werkwijze verkregen. - Google Patents

Werkwijze voor het neerslaan van elektrodemateri- aal op een halfgeleider en halfgeleiderinrichting volgens deze werkwijze verkregen.

Info

Publication number
NL7512238A
NL7512238A NL7512238A NL7512238A NL7512238A NL 7512238 A NL7512238 A NL 7512238A NL 7512238 A NL7512238 A NL 7512238A NL 7512238 A NL7512238 A NL 7512238A NL 7512238 A NL7512238 A NL 7512238A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
semiconductor
procedure
electrode material
obtained according
device obtained
Prior art date
Application number
NL7512238A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Nat Res Dev
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from GB4508174A external-priority patent/GB1465567A/en
Application filed by Nat Res Dev filed Critical Nat Res Dev
Publication of NL7512238A publication Critical patent/NL7512238A/xx

Links

Classifications

    • H10P50/617—
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/12—Semiconductors
    • H10P14/47—
    • H10P32/16—
    • H10P34/422—
    • H10P52/00—
    • H10P95/00—
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/143—Electron beam

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Led Devices (AREA)
NL7512238A 1974-10-17 1975-10-17 Werkwijze voor het neerslaan van elektrodemateri- aal op een halfgeleider en halfgeleiderinrichting volgens deze werkwijze verkregen. NL7512238A (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB4508174A GB1465567A (en) 1974-10-17 1974-10-17 Deposition of materials onto semiconductors
GB3673175 1975-09-05

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7512238A true NL7512238A (nl) 1976-04-21

Family

ID=26263225

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7512238A NL7512238A (nl) 1974-10-17 1975-10-17 Werkwijze voor het neerslaan van elektrodemateri- aal op een halfgeleider en halfgeleiderinrichting volgens deze werkwijze verkregen.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4024029A (cg-RX-API-DMAC10.html)
JP (1) JPS5191664A (cg-RX-API-DMAC10.html)
CA (1) CA1047654A (cg-RX-API-DMAC10.html)
DE (1) DE2546697A1 (cg-RX-API-DMAC10.html)
FR (1) FR2288389A1 (cg-RX-API-DMAC10.html)
NL (1) NL7512238A (cg-RX-API-DMAC10.html)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4147564A (en) * 1977-11-18 1979-04-03 Sri International Method of controlled surface texturization of crystalline semiconductor material
US4144139A (en) * 1977-11-30 1979-03-13 Solarex Corporation Method of plating by means of light
DE2755418A1 (de) * 1977-12-13 1979-06-21 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur herstellung eines halbleiter-bauelements
US4217183A (en) * 1979-05-08 1980-08-12 International Business Machines Corporation Method for locally enhancing electroplating rates
US4379022A (en) * 1979-05-08 1983-04-05 International Business Machines Corporation Method for maskless chemical machining
JPS575383A (en) * 1980-06-13 1982-01-12 Fujitsu Ltd Manufacture of semiconductor device
US4507181A (en) * 1984-02-17 1985-03-26 Energy Conversion Devices, Inc. Method of electro-coating a semiconductor device
GB2188774B (en) * 1986-04-02 1990-10-31 Westinghouse Electric Corp Method of forming a conductive pattern on a semiconductor surface
US5171608A (en) * 1990-09-28 1992-12-15 The Unites States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method of pattern transfer in photolithography using laser induced metallization
US5882435A (en) * 1993-09-30 1999-03-16 Siemens Solar Gmbh Process for the metal coating of solar cells made of crystalline silicon
US6902659B2 (en) * 1998-12-01 2005-06-07 Asm Nutool, Inc. Method and apparatus for electro-chemical mechanical deposition
US6413388B1 (en) * 2000-02-23 2002-07-02 Nutool Inc. Pad designs and structures for a versatile materials processing apparatus
US6534116B2 (en) * 2000-08-10 2003-03-18 Nutool, Inc. Plating method and apparatus that creates a differential between additive disposed on a top surface and a cavity surface of a workpiece using an external influence
EP1063696B1 (en) * 1999-06-22 2007-08-22 Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum Vzw A method for improving the quality of a metal-containing layer deposited from a plating bath
US6355153B1 (en) * 1999-09-17 2002-03-12 Nutool, Inc. Chip interconnect and packaging deposition methods and structures
US6921551B2 (en) * 2000-08-10 2005-07-26 Asm Nutool, Inc. Plating method and apparatus for controlling deposition on predetermined portions of a workpiece
US20040170753A1 (en) * 2000-12-18 2004-09-02 Basol Bulent M. Electrochemical mechanical processing using low temperature process environment
US7172497B2 (en) * 2001-01-05 2007-02-06 Asm Nutool, Inc. Fabrication of semiconductor interconnect structures
US7250104B2 (en) * 2003-08-08 2007-07-31 Novellus Systems, Inc. Method and system for optically enhanced metal planarization
US20050230262A1 (en) * 2004-04-20 2005-10-20 Semitool, Inc. Electrochemical methods for the formation of protective features on metallized features
US20060183321A1 (en) * 2004-09-27 2006-08-17 Basol Bulent M Method for reduction of gap fill defects
US8500985B2 (en) * 2006-07-21 2013-08-06 Novellus Systems, Inc. Photoresist-free metal deposition
US7732329B2 (en) * 2006-08-30 2010-06-08 Ipgrip, Llc Method and apparatus for workpiece surface modification for selective material deposition
US20080237048A1 (en) * 2007-03-30 2008-10-02 Ismail Emesh Method and apparatus for selective electrofilling of through-wafer vias
US20080277285A1 (en) * 2007-05-08 2008-11-13 Interuniversitair Microelektronica Centrum Vzw (Imec) Bipolar electroless processing methods

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1295071A (fr) 1960-07-05 1962-06-01 Siemens Ag Procédé pour déposer par électrolyse des couches minces sur des supports
US3294583A (en) * 1962-06-14 1966-12-27 Sprague Electric Co Process of coating a silicon semiconductor with indium using an ion beam
USB436421I5 (cg-RX-API-DMAC10.html) * 1965-01-27
US3458368A (en) * 1966-05-23 1969-07-29 Texas Instruments Inc Integrated circuits and fabrication thereof
US3529961A (en) * 1966-12-27 1970-09-22 Gen Electric Formation of thin films of gold,nickel or copper by photolytic deposition
US3506545A (en) * 1967-02-14 1970-04-14 Ibm Method for plating conductive patterns with high resolution
US3516855A (en) * 1967-05-29 1970-06-23 Ibm Method of depositing conductive ions by utilizing electron beam
US3551213A (en) * 1968-09-04 1970-12-29 Bell Telephone Labor Inc Geometrically selective ion bombardment by means of the photoelectric effect

Also Published As

Publication number Publication date
DE2546697A1 (de) 1976-04-29
JPS5191664A (cg-RX-API-DMAC10.html) 1976-08-11
FR2288389A1 (fr) 1976-05-14
CA1047654A (en) 1979-01-30
US4024029A (en) 1977-05-17
FR2288389B1 (cg-RX-API-DMAC10.html) 1982-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7512238A (nl) Werkwijze voor het neerslaan van elektrodemateri- aal op een halfgeleider en halfgeleiderinrichting volgens deze werkwijze verkregen.
NL7506594A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting en halfgeleiderinrichting ver- vaardigd met behulp van de werkwijze.
NL7604632A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een half- geleiderinrichting en een halfgeleiderinrich- ting volgens deze werkwijze verkregen.
NL7510903A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgelei- derinrichting, en inrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL7506519A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffekt- transistor, en veldeffekttransistor vervaardigd vol- gens deze werkwijze.
NL163438C (nl) Inrichting voor het bekleden van baanvormig materiaal.
BE848249A (nl) Apparaat voor het kops verbinden van materiaalbanen,
NL7512514A (nl) Werkwijze ter vervaardiging van een halfgeleider- inrichting, en inrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL166954C (nl) Werkwijze voor het bereiden van thermoplastische polyurethanelastomeren.
NL7613440A (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7601576A (nl) Werkwijze voor het maken van een halfgeleider- -inrichting.
NL7405556A (nl) Inrichting voor het verspreiden van materiaal.
NL7509291A (nl) Inrichting en werkwijze voor het bewerken van lichtgevoelig materiaal.
NL7416779A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een bipolai- re transistor en bipolaire transistor vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL7611057A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.
NL7614594A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfge- leiderinrichting en een halfgeleiderinrichting op deze wijze verkregen.
NL7513100A (nl) Inrichting voor het verwerken van een langgerekt stuk materiaal.
NL7509484A (nl) Inrichting voor de vervaardiging van zakken.
BE821356A (nl) Inrichting voor het vervormen van plaatsvormig materiaal
NL165891C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleider- inrichting.
NL7505920A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bereiden van methanol.
NL178567C (nl) Inrichting voor het over een zone verspreiden van fijnverdeeld materiaal.
NL7509360A (nl) Werkwijze voor het vormen van een vaste-fazein- richting.
NL7612257A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfge- leiderinrichting alsmede een volgens deze werk- wijze vervaardigde halfgeleiderinrichting.
NL7508024A (nl) Werkwijze voor het verwerken van zilverkleurbleek- materialen.

Legal Events

Date Code Title Description
BV The patent application has lapsed