NL2001094A1 - Werkwijze en inrichting voor het stabiliseren van het gemiddelde afgegeven stralingsvermogen van een gepulseerd uitgevoerde stralingsbron. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor het stabiliseren van het gemiddelde afgegeven stralingsvermogen van een gepulseerd uitgevoerde stralingsbron.

Info

Publication number
NL2001094A1
NL2001094A1 NL2001094A NL2001094A NL2001094A1 NL 2001094 A1 NL2001094 A1 NL 2001094A1 NL 2001094 A NL2001094 A NL 2001094A NL 2001094 A NL2001094 A NL 2001094A NL 2001094 A1 NL2001094 A1 NL 2001094A1
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
stabilizing
average emitted
radiation source
pulsed
emitted radiation
Prior art date
Application number
NL2001094A
Other languages
English (en)
Other versions
NL2001094C2 (nl
Inventor
Jesko Brudermann
Juergen Kleinschmidt
Original Assignee
Xtreme Tech Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xtreme Tech Gmbh filed Critical Xtreme Tech Gmbh
Publication of NL2001094A1 publication Critical patent/NL2001094A1/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL2001094C2 publication Critical patent/NL2001094C2/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00—Photographic printing apparatus
    • G03B27/72—Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/10—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
    • G01J1/16—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void using electric radiation detectors
    • G01J1/18—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void using electric radiation detectors using comparison with a reference electric value
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
    • G01J1/4257—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors applied to monitoring the characteristics of a beam, e.g. laser beam, headlamp beam
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J11/00—Measuring the characteristics of individual optical pulses or of optical pulse trains
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70041—Production of exposure light, i.e. light sources by pulsed sources, e.g. multiplexing, pulse duration, interval control or intensity control
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70558—Dose control, i.e. achievement of a desired dose

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
NL2001094A 2006-12-16 2007-12-14 Werkwijze en inrichting voor het stabiliseren van het gemiddelde afgegeven stralingsvermogen van een gepulseerd uitgevoerde stralingsbron. NL2001094C2 (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006060368A DE102006060368B3 (de) 2006-12-16 2006-12-16 Verfahren und Anordnung zur Stabilisierung der mittleren abgegebenen Strahlungsleistung einer gepulst betriebenen Strahlungsquelle
DE102006060368 2006-12-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL2001094A1 true NL2001094A1 (nl) 2008-06-17
NL2001094C2 NL2001094C2 (nl) 2011-01-31

Family

ID=39526726

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2001094A NL2001094C2 (nl) 2006-12-16 2007-12-14 Werkwijze en inrichting voor het stabiliseren van het gemiddelde afgegeven stralingsvermogen van een gepulseerd uitgevoerde stralingsbron.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7974321B2 (nl)
JP (1) JP2008153645A (nl)
DE (1) DE102006060368B3 (nl)
NL (1) NL2001094C2 (nl)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101698141B1 (ko) * 2009-12-08 2017-01-19 삼성전자 주식회사 마스크리스 노광장치 및 그 제어방법
EP3514630B1 (en) * 2013-06-18 2022-06-22 ASML Netherlands B.V. Free electron laser and method of generating an euv radiation beam using the same
US9939732B2 (en) * 2015-10-27 2018-04-10 Cymer, Llc Controller for an optical system
DE102016212928B3 (de) * 2016-07-14 2017-09-07 Trumpf Laser Gmbh Verfahren zur Erzeugung eines Laserpulses und Anordnung zur Erzeugung eines Treiberansteuersignals
JP2022059163A (ja) 2020-10-01 2022-04-13 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法
CN117791287B (zh) * 2024-02-23 2024-04-30 深圳市智鼎自动化技术有限公司 激光脉冲能量控制系统及方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US582621A (en) * 1897-05-18 Combined churn and butter-worker
US3747019A (en) * 1970-07-16 1973-07-17 Union Carbide Corp Method and means for stabilizing the amplitude and repetition frequency of a repetitively q-switched laser
US4804978A (en) * 1988-02-19 1989-02-14 The Perkin-Elmer Corporation Exposure control system for full field photolithography using pulsed sources
JPH02177313A (ja) 1988-12-28 1990-07-10 Canon Inc 露光制御装置
JP3235078B2 (ja) * 1993-02-24 2001-12-04 株式会社ニコン 走査露光方法、露光制御装置、走査型露光装置、及びデバイス製造方法
JP3296448B2 (ja) * 1993-03-15 2002-07-02 株式会社ニコン 露光制御方法、走査露光方法、露光制御装置、及びデバイス製造方法
JPH07254559A (ja) * 1994-01-26 1995-10-03 Canon Inc 走査型露光装置及びそれを用いたデバイス製造方法
JP3451604B2 (ja) * 1994-06-17 2003-09-29 株式会社ニコン 走査型露光装置
US5632739A (en) * 1994-10-13 1997-05-27 The General Hospital Corporation Two-pulse, lateral tissue illuminator
JPH09190966A (ja) 1996-01-08 1997-07-22 Canon Inc 走査型露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
KR100210569B1 (ko) 1995-09-29 1999-07-15 미따라이 하지메 노광방법 및 노광장치, 그리고 이를 이용한 디바이스제조방법
EP0829036B9 (en) * 1996-04-01 2001-07-25 ASM Lithography B.V. Lithographic scanning exposure projection apparatus
US6538723B2 (en) * 1996-08-05 2003-03-25 Nikon Corporation Scanning exposure in which an object and pulsed light are moved relatively, exposing a substrate by projecting a pattern on a mask onto the substrate with pulsed light from a light source, light sources therefor, and methods of manufacturing
US5982800A (en) * 1997-04-23 1999-11-09 Cymer, Inc. Narrow band excimer laser
US5852621A (en) * 1997-07-21 1998-12-22 Cymer, Inc. Pulse laser with pulse energy trimmer
TW448487B (en) * 1997-11-22 2001-08-01 Nippon Kogaku Kk Exposure apparatus, exposure method and manufacturing method of device
JP3807933B2 (ja) 2000-12-14 2006-08-09 株式会社ルネサステクノロジ 投影露光装置及び投影露光方法
DE10209161B4 (de) * 2002-02-26 2009-09-17 Xtreme Technologies Gmbh Verfahren zur Energieregelung von gepulst betriebenen, gasentladungsgepumpten Strahlungsquellen
DE10244105B3 (de) * 2002-02-26 2004-09-16 Xtreme Technologies Gmbh Verfahren zur Energiestabilisierung gasentladungsgepumpter, in definierten Impulsfolgen betriebener Strahlungsquellen
DE10219805B4 (de) * 2002-04-30 2013-03-14 Xtreme Technologies Gmbh Verfahren zur Stabilisierung der Strahlungsleistung einer gepuist betriebenen, auf gasentladungserzeugtem Plasma basierenden Strahlungsquelle
FR2859545B1 (fr) 2003-09-05 2005-11-11 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif de lithographie par rayonnement dans l'extreme utraviolet

Also Published As

Publication number Publication date
DE102006060368B3 (de) 2008-07-31
NL2001094C2 (nl) 2011-01-31
US20080143989A1 (en) 2008-06-19
US7974321B2 (en) 2011-07-05
JP2008153645A (ja) 2008-07-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1032382A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het regelen van diepte van een driedimensionaal beeld.
NL1032562A1 (nl) Inrichting voor het onderdrukken van ongewenste spectrumaandelen bij een plasmagebaseerde EUV-stralingsbron.
DE602006015768D1 (de) Teilchenstrahlgerät mit Ozon-Quelle
NL1031359A1 (nl) Werkwijzen en systemen voor het bewaken van tumorbelasting.
NL1024865A1 (nl) Inrichting voorzien van een aangrijpingsvlak voor wind.
NL1034718A1 (nl) Werkwijze en systeem voor het creeren en gebruiken van een invloed-atlas.
EP2240955A4 (en) PREPARATION OF FLAT SURFACES USING PULSED LASER RADIATION DOTED MATERIALS
NL1032675A1 (nl) Bestralingswerkwijze en apparaat voor onderdompelingslithografie.
DE602007013058D1 (de) Lichtbestrahlungsgerät
NL2001094A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het stabiliseren van het gemiddelde afgegeven stralingsvermogen van een gepulseerd uitgevoerde stralingsbron.
NO20060685L (no) Elektromagnetisk metode pa grunt vann med bruk av styrt kilde
DE602006016598D1 (de) Laserbestrahlungsverfahren und vorrichtung dafür
NL1029269A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het manipuleren van een laserbundel tijdens reflectie.
EP1975720A4 (en) LASER LIGHT SOURCE DEVICE, EXPOSURE METHOD AND EQUIPMENT
DE112006002127A5 (de) Plasmaerzeugungsvorrichtung und Plasmaerzeugungsverfahren
DE502006000047D1 (de) Werkstücktransportvorrichtung
NL1033651A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het uitvoeren van een maximum-intensiteitsprojectie.
NL1032126A1 (nl) Inrichting en werkwijzen voor immersie lithografie.
NL1034729A1 (nl) Werkwijze voor het bedrijven van een lichtbron en daarvoor bestemd toestel voor het bedrijven van een of meerdere lampen.
EP1860648A4 (en) SOUND SOUND SUPPLY AND SOUND SOUND SUPPLY PROCESS
FI20090340A0 (fi) Menetelmä ja laite pyörätuolin liikuttamiseksi
NL1030982A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het automatisch regelen van een audiovolume.
NL2000410A1 (nl) Werkwijzen voor het bepalen van de kwaliteit van een lichtbron.
WO2008123021A2 (ja) 論理式生成装置、及び論理式生成方法
NL1031217A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het stralen van spoorrails.

Legal Events

Date Code Title Description
AD1A A request for search or an international type search has been filed
SD Assignments of patents

Effective date: 20140214