DE2718254C3
(de)
*
|
1977-04-25 |
1980-04-10 |
Hoechst Ag, 6000 Frankfurt |
Strahlungsempfindliche Kopiermasse
|
US4189323A
(en)
*
|
1977-04-25 |
1980-02-19 |
Hoechst Aktiengesellschaft |
Radiation-sensitive copying composition
|
DE2829511A1
(de)
*
|
1978-07-05 |
1980-01-24 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern
|
DE2829512A1
(de)
*
|
1978-07-05 |
1980-01-17 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern
|
JPS5569265A
(en)
*
|
1978-11-15 |
1980-05-24 |
Hitachi Ltd |
Pattern-forming method
|
US4308368A
(en)
*
|
1979-03-16 |
1981-12-29 |
Daicel Chemical Industries Ltd. |
Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide
|
US4299906A
(en)
*
|
1979-06-01 |
1981-11-10 |
American Hoechst Corporation |
Light-sensitive color proofing film with surfactant in a light-sensitive coating
|
DE2928636A1
(de)
*
|
1979-07-16 |
1981-02-12 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern
|
US4356252A
(en)
*
|
1979-12-26 |
1982-10-26 |
E. I. Du Pont De Nemours And Company |
Photosensitive negative-working tonable element
|
DE3023201A1
(de)
*
|
1980-06-21 |
1982-01-07 |
Hoechst Ag, 6000 Frankfurt |
Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
|
DE3038605A1
(de)
*
|
1980-10-13 |
1982-06-03 |
Hoechst Ag, 6000 Frankfurt |
Verfahren zur herstellung von reliefkopien
|
DE3039926A1
(de)
*
|
1980-10-23 |
1982-05-27 |
Hoechst Ag, 6000 Frankfurt |
Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial
|
US4365019A
(en)
*
|
1981-08-06 |
1982-12-21 |
Eastman Kodak Company |
Positive-working resist quinone diazide containing composition and imaging method having improved development rates
|
DE3144499A1
(de)
*
|
1981-11-09 |
1983-05-19 |
Hoechst Ag, 6230 Frankfurt |
Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
|
DE3151078A1
(de)
*
|
1981-12-23 |
1983-07-28 |
Hoechst Ag, 6230 Frankfurt |
Verfahren zur herstellung von reliefbildern
|
DE3374088D1
(en)
*
|
1982-04-23 |
1987-11-19 |
Autotype Int Ltd |
Photopolymers
|
US4491628A
(en)
*
|
1982-08-23 |
1985-01-01 |
International Business Machines Corporation |
Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile groups pendant from polymer backbone
|
DE3236560A1
(de)
|
1982-10-02 |
1984-04-05 |
Hoechst Ag, 6230 Frankfurt |
Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial und verfahren zur herstellung einer photoresistschablone
|
DE3582697D1
(de)
*
|
1984-06-07 |
1991-06-06 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitende strahlungsempfindliche beschichtungsloesung.
|
DE3445276A1
(de)
*
|
1984-12-12 |
1986-06-19 |
Hoechst Ag, 6230 Frankfurt |
Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform
|
US4737426A
(en)
*
|
1985-05-15 |
1988-04-12 |
Ciba-Geigy Corporation |
Cyclic acetals or ketals of beta-keto esters or amides
|
CA1308596C
(en)
*
|
1986-01-13 |
1992-10-13 |
Rohm And Haas Company |
Microplastic structures and method of manufacture
|
US4912018A
(en)
*
|
1986-02-24 |
1990-03-27 |
Hoechst Celanese Corporation |
High resolution photoresist based on imide containing polymers
|
US4837124A
(en)
*
|
1986-02-24 |
1989-06-06 |
Hoechst Celanese Corporation |
High resolution photoresist of imide containing polymers
|
US4968581A
(en)
*
|
1986-02-24 |
1990-11-06 |
Hoechst Celanese Corporation |
High resolution photoresist of imide containing polymers
|
DE3613632A1
(de)
*
|
1986-04-23 |
1987-10-29 |
Hoechst Ag |
Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
|
DE3621376A1
(de)
*
|
1986-06-26 |
1988-01-07 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
JP2719909B2
(ja)
*
|
1986-07-02 |
1998-02-25 |
コニカ株式会社 |
感光性組成物および感光性平版印刷版
|
DE3628720A1
(de)
*
|
1986-08-23 |
1988-02-25 |
Hoechst Ag |
Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck
|
DE3635303A1
(de)
|
1986-10-17 |
1988-04-28 |
Hoechst Ag |
Verfahren zur abtragenden modifizierung von mehrstufig aufgerauhten traegermaterialien aus aluminium oder dessen legierungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplatten
|
JPS63265242A
(ja)
*
|
1987-04-23 |
1988-11-01 |
Fuji Photo Film Co Ltd |
多色画像形成方法
|
US4775609A
(en)
*
|
1987-05-18 |
1988-10-04 |
Hoescht Celanese Corporation |
Image reversal
|
DE3716848A1
(de)
*
|
1987-05-20 |
1988-12-01 |
Hoechst Ag |
Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials
|
US4810613A
(en)
*
|
1987-05-22 |
1989-03-07 |
Hoechst Celanese Corporation |
Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists
|
US5081001A
(en)
*
|
1987-05-22 |
1992-01-14 |
Hoechst Celanese Corporation |
Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists
|
US4962171A
(en)
*
|
1987-05-22 |
1990-10-09 |
Hoechst Celanese Corporation |
Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists
|
DE3717933A1
(de)
*
|
1987-05-27 |
1988-12-08 |
Hoechst Ag |
Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von hochwaermebestaendigen reliefstrukturen
|
DE3725741A1
(de)
*
|
1987-08-04 |
1989-02-16 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
|
DE3725949A1
(de)
*
|
1987-08-05 |
1989-02-16 |
Hoechst Ag |
Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung von negativen reliefkopien
|
DE3730787A1
(de)
*
|
1987-09-13 |
1989-03-23 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
DE3730785A1
(de)
*
|
1987-09-13 |
1989-03-23 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
DE3821585A1
(de)
*
|
1987-09-13 |
1989-03-23 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung
|
DE3730783A1
(de)
*
|
1987-09-13 |
1989-03-23 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
DE3737734A1
(de)
*
|
1987-11-06 |
1989-05-18 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch
|
DE3810631A1
(de)
*
|
1988-03-29 |
1989-10-12 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial mit hohem waermestand
|
DE3810632A1
(de)
*
|
1988-03-29 |
1989-10-12 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
|
DE3827901A1
(de)
*
|
1988-08-17 |
1990-02-22 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
JPH02119032U
(ja)
*
|
1989-03-06 |
1990-09-25 |
|
|
DE3907953A1
(de)
*
|
1989-03-11 |
1990-09-13 |
Hoechst Ag |
Strahlungshaertbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung
|
DE3907954A1
(de)
*
|
1989-03-11 |
1990-09-13 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung
|
DE69029104T2
(de)
|
1989-07-12 |
1997-03-20 |
Fuji Photo Film Co Ltd |
Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
|
US5220037A
(en)
*
|
1989-07-22 |
1993-06-15 |
Basf Aktiengesellschaft |
Sulfonium salts and use thereof
|
DE3930086A1
(de)
*
|
1989-09-09 |
1991-03-21 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
DE3930087A1
(de)
*
|
1989-09-09 |
1991-03-14 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
EP0422628A3
(en)
*
|
1989-10-13 |
1992-02-26 |
E.I. Du Pont De Nemours And Company |
Photosensitive element
|
GB8923459D0
(en)
*
|
1989-10-18 |
1989-12-06 |
Minnesota Mining & Mfg |
Positive-acting photoresist compositions
|
JP2571136B2
(ja)
*
|
1989-11-17 |
1997-01-16 |
日本ゼオン株式会社 |
ポジ型レジスト組成物
|
DE4002397A1
(de)
*
|
1990-01-27 |
1991-08-01 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
TW202504B
(ja)
*
|
1990-02-23 |
1993-03-21 |
Sumitomo Chemical Co |
|
DE4007924A1
(de)
*
|
1990-03-13 |
1991-09-19 |
Basf Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch
|
US5071731A
(en)
*
|
1990-04-10 |
1991-12-10 |
E. I. Du Pont De Nemours And Company |
Aqueous processable photosensitive element with an elastomeric layer
|
JPH0480758A
(ja)
*
|
1990-07-23 |
1992-03-13 |
Fuji Photo Film Co Ltd |
感光性組成物
|
DE4032162A1
(de)
*
|
1990-10-10 |
1992-04-16 |
Basf Ag |
Strahlungsempfindliches gemisch, enthaltend saeurelabile gruppierungen und verfahren zur herstellung von reliefmustern und reliefbildern
|
US5085972A
(en)
*
|
1990-11-26 |
1992-02-04 |
Minnesota Mining And Manufacturing Company |
Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins
|
US5225316A
(en)
*
|
1990-11-26 |
1993-07-06 |
Minnesota Mining And Manufacturing Company |
An imagable article comprising a photosensitive composition comprising a polymer having acid labile pendant groups
|
JPH04204848A
(ja)
*
|
1990-11-30 |
1992-07-27 |
Matsushita Electric Ind Co Ltd |
微細パターン形成方法
|
JP2919142B2
(ja)
*
|
1990-12-27 |
1999-07-12 |
株式会社東芝 |
感光性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
|
DE4110057A1
(de)
*
|
1991-03-27 |
1992-10-01 |
Hoechst Ag |
Verfahren zur herstellung eines mehrfarben-pruefbildes und hierfuer geeignetes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
DE4112968A1
(de)
*
|
1991-04-20 |
1992-10-22 |
Hoechst Ag |
Saeurespaltbare verbindungen, diese enthaltendes positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
DE4112969A1
(de)
*
|
1991-04-20 |
1992-10-22 |
Hoechst Ag |
Saeurespaltbare strahlungsempflindliche verbindungen, diese enthaltendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
DE4112970A1
(de)
*
|
1991-04-20 |
1992-10-22 |
Hoechst Ag |
Saeurespaltbare strahlungsempfindliche verbindungen, diese enthaltendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
|
JPH04328555A
(ja)
*
|
1991-04-26 |
1992-11-17 |
Fuji Photo Film Co Ltd |
ポジ型フオトレジスト組成物
|
JP3030672B2
(ja)
*
|
1991-06-18 |
2000-04-10 |
和光純薬工業株式会社 |
新規なレジスト材料及びパタ−ン形成方法
|
EP0520654A1
(en)
*
|
1991-06-21 |
1992-12-30 |
Hoechst Celanese Corporation |
Deep UV light sensitive positive photoresist compositions
|
DE69218393T2
(de)
*
|
1991-12-16 |
1997-10-16 |
Matsushita Electric Ind Co Ltd |
Resistmaterial
|
JP2944296B2
(ja)
|
1992-04-06 |
1999-08-30 |
富士写真フイルム株式会社 |
感光性平版印刷版の製造方法
|
DE4242051A1
(de)
*
|
1992-12-14 |
1994-06-16 |
Hoechst Ag |
N,N-Disubstituierte Sulfonamide und damit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch
|
DE4242050A1
(de)
*
|
1992-12-14 |
1994-06-16 |
Hoechst Ag |
Polymere mit N,N-disubstituierten Sulfonamid-Seitengruppen und deren Verwendung
|
DE69415457T2
(de)
|
1993-09-03 |
1999-07-15 |
Nippon Telegraph And Telephone Corp., Tokio/Tokyo |
Tertiärbutylesterderivate der 4,4-bis (4'Hydroxyphenyl)pentansäure und diese enthaltende positive Photoresiste
|
GB9326150D0
(en)
*
|
1993-12-22 |
1994-02-23 |
Alcan Int Ltd |
Electrochemical roughening method
|
DE4414897A1
(de)
*
|
1994-04-28 |
1995-11-02 |
Hoechst Ag |
Aromatische Diazoniumsalze und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen
|
DE4414896A1
(de)
*
|
1994-04-28 |
1995-11-02 |
Hoechst Ag |
Positiv arbeitendes strahlungempfindliches Gemisch
|
JPH0876380A
(ja)
|
1994-09-06 |
1996-03-22 |
Fuji Photo Film Co Ltd |
ポジ型印刷版組成物
|
DE4444669A1
(de)
*
|
1994-12-15 |
1996-06-20 |
Hoechst Ag |
Strahlungsempfindliches Gemisch
|
JPH0954437A
(ja)
|
1995-06-05 |
1997-02-25 |
Fuji Photo Film Co Ltd |
化学増幅型ポジレジスト組成物
|
JP3591672B2
(ja)
|
1996-02-05 |
2004-11-24 |
富士写真フイルム株式会社 |
ポジ型感光性組成物
|
US6060222A
(en)
*
|
1996-11-19 |
2000-05-09 |
Kodak Polcyhrome Graphics Llc |
1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
|
WO2001021611A1
(fr)
*
|
1999-09-17 |
2001-03-29 |
Kansai Paint Co., Ltd. |
Polyorthoester et composition reticulable contenant ce compose
|
JP3969909B2
(ja)
|
1999-09-27 |
2007-09-05 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型フォトレジスト組成物
|
JP3963624B2
(ja)
|
1999-12-22 |
2007-08-22 |
富士フイルム株式会社 |
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
|
JP3848077B2
(ja)
*
|
2000-11-20 |
2006-11-22 |
キヤノン株式会社 |
分解性樹脂組成物およびその処理方法
|
US20050084797A1
(en)
*
|
2003-10-16 |
2005-04-21 |
Agfa-Gevaert |
Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
|
JP4396443B2
(ja)
|
2004-08-18 |
2010-01-13 |
コニカミノルタエムジー株式会社 |
感光性平版印刷版の製造方法及び使用方法
|
WO2008038460A1
(fr)
*
|
2006-09-25 |
2008-04-03 |
Jsr Corporation |
Composition de résine photosensible
|
WO2008149966A1
(ja)
*
|
2007-06-08 |
2008-12-11 |
Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. |
ポジ型感放射線性樹脂組成物
|
TWI500600B
(zh)
|
2009-05-19 |
2015-09-21 |
Honshu Chemical Ind |
三苯酚類及其單酯取代物之製造方法及4-醯基芳烷基苯酚衍生物
|
US8632943B2
(en)
|
2012-01-30 |
2014-01-21 |
Southern Lithoplate, Inc. |
Near-infrared sensitive, positive-working, image forming composition and photographic element containing a 1,1-di[(alkylphenoxy)ethoxy]cyclohexane
|
US8846981B2
(en)
|
2012-01-30 |
2014-09-30 |
Southern Lithoplate, Inc. |
1,1-di[(alkylphenoxy)ethoxy]cyclohexanes
|