ES446435A1 - Perfeccionamientos introducidos en un procedimiento para producir registros. - Google Patents

Perfeccionamientos introducidos en un procedimiento para producir registros.

Info

Publication number
ES446435A1
ES446435A1 ES446435A ES446435A ES446435A1 ES 446435 A1 ES446435 A1 ES 446435A1 ES 446435 A ES446435 A ES 446435A ES 446435 A ES446435 A ES 446435A ES 446435 A1 ES446435 A1 ES 446435A1
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
radiation
composition
sensitive copying
group
copying composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
ES446435A
Other languages
English (en)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Publication of ES446435A1 publication Critical patent/ES446435A1/es
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/02—Dosimeters
    • G01T1/04—Chemical dosimeters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F3/00—Colour separation; Correction of tonal value
    • G03F3/10—Checking the colour or tonal value of separation negatives or positives
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/016—Diazonium salts or compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

Perfeccionamientos introducidos en un procedimiento para producir registros, caracterizados porque un material de registro sensible a la radiación, compuesto de un soporte y una capa sensible a las radiaciones, que comprende como componentes esenciales, un compuesto (1) que separa ácido durante la irradiación, y un compuesto (2) que contiene al menos un grupo ester de orto-ácido carboxílico o un grupo acetal de amida de ácido carboxílico, se irradia como imagen con radiación actínica, tanto tiempo que aumenta la solubilidad de las partes irradiadas de la capa, especialmente en agua o soluciones acuosas, y porque las partes irradiadas de la capa se eliminan tratándolas con una solución reveladora.
ES446435A 1975-03-27 1976-03-26 Perfeccionamientos introducidos en un procedimiento para producir registros. Expired ES446435A1 (es)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH395375A CH621416A5 (es) 1975-03-27 1975-03-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES446435A1 true ES446435A1 (es) 1978-03-16

Family

ID=4267021

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES446435A Expired ES446435A1 (es) 1975-03-27 1976-03-26 Perfeccionamientos introducidos en un procedimiento para producir registros.

Country Status (17)

Country Link
US (1) US4101323A (es)
JP (1) JPS6020738B2 (es)
AU (1) AU507618B2 (es)
BE (1) BE839974A (es)
BR (1) BR7601873A (es)
CA (1) CA1093368A (es)
CH (1) CH621416A5 (es)
DE (1) DE2610842C3 (es)
DK (1) DK145957C (es)
ES (1) ES446435A1 (es)
FR (1) FR2305757A1 (es)
GB (1) GB1548757A (es)
IE (1) IE43574B1 (es)
IT (1) IT1057380B (es)
NL (1) NL185244C (es)
SE (1) SE412128B (es)
ZA (1) ZA761861B (es)

Families Citing this family (98)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4189323A (en) * 1977-04-25 1980-02-19 Hoechst Aktiengesellschaft Radiation-sensitive copying composition
DE2718254C3 (de) * 1977-04-25 1980-04-10 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Strahlungsempfindliche Kopiermasse
DE2829511A1 (de) * 1978-07-05 1980-01-24 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern
DE2829512A1 (de) * 1978-07-05 1980-01-17 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern
JPS5569265A (en) * 1978-11-15 1980-05-24 Hitachi Ltd Pattern-forming method
DE3009873A1 (de) * 1979-03-16 1980-09-25 Daicel Chem Photoempfindliche masse
US4299906A (en) * 1979-06-01 1981-11-10 American Hoechst Corporation Light-sensitive color proofing film with surfactant in a light-sensitive coating
DE2928636A1 (de) * 1979-07-16 1981-02-12 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch und verfahren zur herstellung von reliefbildern
US4356252A (en) * 1979-12-26 1982-10-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive negative-working tonable element
DE3023201A1 (de) * 1980-06-21 1982-01-07 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
DE3038605A1 (de) * 1980-10-13 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung von reliefkopien
DE3039926A1 (de) * 1980-10-23 1982-05-27 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial
US4365019A (en) * 1981-08-06 1982-12-21 Eastman Kodak Company Positive-working resist quinone diazide containing composition and imaging method having improved development rates
DE3144499A1 (de) * 1981-11-09 1983-05-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
DE3151078A1 (de) * 1981-12-23 1983-07-28 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung von reliefbildern
DE3374088D1 (en) * 1982-04-23 1987-11-19 Autotype Int Ltd Photopolymers
US4491628A (en) * 1982-08-23 1985-01-01 International Business Machines Corporation Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile groups pendant from polymer backbone
DE3236560A1 (de) 1982-10-02 1984-04-05 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial und verfahren zur herstellung einer photoresistschablone
EP0164083B1 (de) * 1984-06-07 1991-05-02 Hoechst Aktiengesellschaft Positiv arbeitende strahlungsempfindliche Beschichtungslösung
DE3445276A1 (de) * 1984-12-12 1986-06-19 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform
US4737426A (en) * 1985-05-15 1988-04-12 Ciba-Geigy Corporation Cyclic acetals or ketals of beta-keto esters or amides
CA1308596C (en) * 1986-01-13 1992-10-13 Rohm And Haas Company Microplastic structures and method of manufacture
US4912018A (en) * 1986-02-24 1990-03-27 Hoechst Celanese Corporation High resolution photoresist based on imide containing polymers
US4968581A (en) * 1986-02-24 1990-11-06 Hoechst Celanese Corporation High resolution photoresist of imide containing polymers
US4837124A (en) * 1986-02-24 1989-06-06 Hoechst Celanese Corporation High resolution photoresist of imide containing polymers
DE3613632A1 (de) * 1986-04-23 1987-10-29 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE3621376A1 (de) * 1986-06-26 1988-01-07 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
JP2719909B2 (ja) * 1986-07-02 1998-02-25 コニカ株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版
DE3628720A1 (de) * 1986-08-23 1988-02-25 Hoechst Ag Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck
DE3635303A1 (de) 1986-10-17 1988-04-28 Hoechst Ag Verfahren zur abtragenden modifizierung von mehrstufig aufgerauhten traegermaterialien aus aluminium oder dessen legierungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplatten
JPS63265242A (ja) * 1987-04-23 1988-11-01 Fuji Photo Film Co Ltd 多色画像形成方法
US4775609A (en) * 1987-05-18 1988-10-04 Hoescht Celanese Corporation Image reversal
DE3716848A1 (de) * 1987-05-20 1988-12-01 Hoechst Ag Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials
US4810613A (en) * 1987-05-22 1989-03-07 Hoechst Celanese Corporation Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists
US4962171A (en) * 1987-05-22 1990-10-09 Hoechst Celanese Corporation Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists
US5081001A (en) * 1987-05-22 1992-01-14 Hoechst Celanese Corporation Blocked monomer and polymers therefrom for use as photoresists
DE3717933A1 (de) * 1987-05-27 1988-12-08 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von hochwaermebestaendigen reliefstrukturen
DE3725741A1 (de) * 1987-08-04 1989-02-16 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
DE3725949A1 (de) * 1987-08-05 1989-02-16 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung von negativen reliefkopien
DE3821585A1 (de) * 1987-09-13 1989-03-23 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung
DE3730783A1 (de) * 1987-09-13 1989-03-23 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3730785A1 (de) * 1987-09-13 1989-03-23 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3730787A1 (de) * 1987-09-13 1989-03-23 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3737734A1 (de) * 1987-11-06 1989-05-18 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch
DE3810631A1 (de) * 1988-03-29 1989-10-12 Hoechst Ag Positiv arbeitendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial mit hohem waermestand
DE3810632A1 (de) * 1988-03-29 1989-10-12 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3827901A1 (de) * 1988-08-17 1990-02-22 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
JPH02119032U (es) * 1989-03-06 1990-09-25
DE3907954A1 (de) * 1989-03-11 1990-09-13 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung
DE3907953A1 (de) * 1989-03-11 1990-09-13 Hoechst Ag Strahlungshaertbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung
EP0410606B1 (en) 1989-07-12 1996-11-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same
US5220037A (en) * 1989-07-22 1993-06-15 Basf Aktiengesellschaft Sulfonium salts and use thereof
DE3930087A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-14 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3930086A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-21 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
EP0422628A3 (en) * 1989-10-13 1992-02-26 E.I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive element
GB8923459D0 (en) * 1989-10-18 1989-12-06 Minnesota Mining & Mfg Positive-acting photoresist compositions
JP2571136B2 (ja) * 1989-11-17 1997-01-16 日本ゼオン株式会社 ポジ型レジスト組成物
DE4002397A1 (de) * 1990-01-27 1991-08-01 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
TW202504B (es) * 1990-02-23 1993-03-21 Sumitomo Chemical Co
DE4007924A1 (de) * 1990-03-13 1991-09-19 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch
US5071731A (en) * 1990-04-10 1991-12-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous processable photosensitive element with an elastomeric layer
JPH0480758A (ja) * 1990-07-23 1992-03-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
DE4032162A1 (de) * 1990-10-10 1992-04-16 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch, enthaltend saeurelabile gruppierungen und verfahren zur herstellung von reliefmustern und reliefbildern
US5225316A (en) * 1990-11-26 1993-07-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company An imagable article comprising a photosensitive composition comprising a polymer having acid labile pendant groups
US5085972A (en) * 1990-11-26 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins
JPH04204848A (ja) * 1990-11-30 1992-07-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 微細パターン形成方法
JP2919142B2 (ja) * 1990-12-27 1999-07-12 株式会社東芝 感光性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
DE4110057A1 (de) * 1991-03-27 1992-10-01 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung eines mehrfarben-pruefbildes und hierfuer geeignetes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE4112969A1 (de) * 1991-04-20 1992-10-22 Hoechst Ag Saeurespaltbare strahlungsempflindliche verbindungen, diese enthaltendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE4112968A1 (de) * 1991-04-20 1992-10-22 Hoechst Ag Saeurespaltbare verbindungen, diese enthaltendes positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE4112970A1 (de) * 1991-04-20 1992-10-22 Hoechst Ag Saeurespaltbare strahlungsempfindliche verbindungen, diese enthaltendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
JPH04328555A (ja) * 1991-04-26 1992-11-17 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型フオトレジスト組成物
JP3030672B2 (ja) * 1991-06-18 2000-04-10 和光純薬工業株式会社 新規なレジスト材料及びパタ−ン形成方法
EP0520654A1 (en) * 1991-06-21 1992-12-30 Hoechst Celanese Corporation Deep UV light sensitive positive photoresist compositions
DE69218393T2 (de) * 1991-12-16 1997-10-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Resistmaterial
JP2944296B2 (ja) 1992-04-06 1999-08-30 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
DE4242050A1 (de) * 1992-12-14 1994-06-16 Hoechst Ag Polymere mit N,N-disubstituierten Sulfonamid-Seitengruppen und deren Verwendung
DE4242051A1 (de) * 1992-12-14 1994-06-16 Hoechst Ag N,N-Disubstituierte Sulfonamide und damit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch
DE69415457T2 (de) 1993-09-03 1999-07-15 Nippon Telegraph And Telephone Corp., Tokio/Tokyo Tertiärbutylesterderivate der 4,4-bis (4'Hydroxyphenyl)pentansäure und diese enthaltende positive Photoresiste
GB9326150D0 (en) * 1993-12-22 1994-02-23 Alcan Int Ltd Electrochemical roughening method
DE4414896A1 (de) * 1994-04-28 1995-11-02 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungempfindliches Gemisch
DE4414897A1 (de) * 1994-04-28 1995-11-02 Hoechst Ag Aromatische Diazoniumsalze und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen
JPH0876380A (ja) 1994-09-06 1996-03-22 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型印刷版組成物
DE4444669A1 (de) 1994-12-15 1996-06-20 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches Gemisch
JPH0954437A (ja) 1995-06-05 1997-02-25 Fuji Photo Film Co Ltd 化学増幅型ポジレジスト組成物
JP3591672B2 (ja) 1996-02-05 2004-11-24 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物
US6060222A (en) * 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
DE60012353T2 (de) * 1999-09-17 2005-07-21 Kansai Paint Co., Ltd., Amagasaki Polyorthoester und härtbare zusammensetzung, die diese enthalten
JP3969909B2 (ja) 1999-09-27 2007-09-05 富士フイルム株式会社 ポジ型フォトレジスト組成物
JP3963624B2 (ja) 1999-12-22 2007-08-22 富士フイルム株式会社 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
JP3848077B2 (ja) * 2000-11-20 2006-11-22 キヤノン株式会社 分解性樹脂組成物およびその処理方法
US20050084797A1 (en) * 2003-10-16 2005-04-21 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
JP4396443B2 (ja) 2004-08-18 2010-01-13 コニカミノルタエムジー株式会社 感光性平版印刷版の製造方法及び使用方法
JP5024292B2 (ja) * 2006-09-25 2012-09-12 Ｊｓｒ株式会社 感光性樹脂組成物
WO2008149966A1 (ja) * 2007-06-08 2008-12-11 Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. ポジ型感放射線性樹脂組成物
US9090547B2 (en) 2009-05-19 2015-07-28 Honshu Chemical Industry Co., Ltd. Method for producing trisphenols and monoester-substituted products thereof, and 4-acylaralkylphenol derivatives
US8846981B2 (en) 2012-01-30 2014-09-30 Southern Lithoplate, Inc. 1,1-di[(alkylphenoxy)ethoxy]cyclohexanes
US8632943B2 (en) 2012-01-30 2014-01-21 Southern Lithoplate, Inc. Near-infrared sensitive, positive-working, image forming composition and photographic element containing a 1,1-di[(alkylphenoxy)ethoxy]cyclohexane

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1070863A (en) * 1964-06-12 1967-06-07 Gevaert Photo Prod Nv Light-sensitive photographic materials
GB1359472A (en) * 1970-09-01 1974-07-10 Agfa Gevaert Photographic recording and reproduction of information
US3753718A (en) * 1972-02-04 1973-08-21 Scott Paper Co Photosensitive medium comprising a cyclic acetal of furfural, a lower haloalkane, and silica
US3779778A (en) * 1972-02-09 1973-12-18 Minnesota Mining & Mfg Photosolubilizable compositions and elements

Also Published As

Publication number Publication date
US4101323A (en) 1978-07-18
IE43574B1 (en) 1981-04-08
FR2305757B1 (es) 1978-04-14
JPS51120714A (en) 1976-10-22
BR7601873A (pt) 1976-09-28
DK136476A (da) 1976-09-28
JPS6020738B2 (ja) 1985-05-23
CA1093368A (en) 1981-01-13
DE2610842B2 (de) 1978-06-15
FR2305757A1 (fr) 1976-10-22
SE7602345L (sv) 1976-09-28
AU1243176A (en) 1977-10-06
NL185244C (nl) 1990-02-16
IE43574L (en) 1976-09-27
DK145957B (da) 1983-04-25
NL185244B (nl) 1989-09-18
BE839974A (fr) 1976-09-24
NL7603032A (nl) 1976-09-29
IT1057380B (it) 1982-03-10
DK145957C (da) 1983-09-26
CH621416A5 (es) 1981-01-30
DE2610842A1 (de) 1976-09-30
GB1548757A (en) 1979-07-18
AU507618B2 (en) 1980-02-21
ZA761861B (en) 1977-03-30
DE2610842C3 (de) 1979-02-22
SE412128B (sv) 1980-02-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES446435A1 (es) Perfeccionamientos introducidos en un procedimiento para producir registros.
JPS52131544A (en) Phenoxymalonic acid derivatives and herbicides containing them
JPS5241184A (en) Composition of defoaming agent
JPS5273731A (en) Forming of photographic image
JPS5218675A (en) Conveyer belt device
JPS5333153A (en) Cleaning device for copier
JPS5276879A (en) Counting device for number of exposure times of electron beam exposure device
JPS51145558A (en) Stabilizer composition for halogen containing resins
JPS52136140A (en) Disubstituted alkoxybenzene derivatives and their salts
JPS51120118A (en) Stationary picture recording reproducing device
JPS51116669A (en) Film cassette for an electron microscope or other apparatus
ES450879A1 (es) Un metodo para la preparacion directa de derivados n-acilo de acidos ceto alfaamino-fanima.
JPS528860A (en) System for revising the changing of dates and days
GB1521927A (en) Acid addition salts of 1,3-propanediamine-n,n'diacetic acid and its 2-hydroxy derivative and the 2-hydroxy derivative
JPS5227295A (en) Electrophoresis display unit
JPS5265298A (en) Synthesis of novel 2-substituted-thioadenosine-n-oxides
JPS5218830A (en) Homoisotwistylamines antiviral agents for animals
JPS51124416A (en) Information display apparatus
JPS5336232A (en) Developing composition for lith type photographic light sensitive material
JPS5251333A (en) Process for prepaation of bezylalcohol derivatives
JPS5240549A (en) Rubber composition capable of preventing vulcanization-reverse
JPS51140621A (en) Image-forming photosensitive composition
JPS5219744A (en) Method for stabilizing a halogen- containing resin
JPS5283870A (en) Cephalosprin compounds
JPS5277035A (en) Preparation of cyclopentanonecarboxylic acid ester dervatives

Legal Events

Date Code Title Description
FD1A Patent lapsed

Effective date: 19980202