NL178173C - Inrichting voor het aanbrengen van een dunne laag op het oppervlak van een voorwerp. - Google Patents

Inrichting voor het aanbrengen van een dunne laag op het oppervlak van een voorwerp.

Info

Publication number
NL178173C
NL178173C NLAANVRAGE7114556,A NL7114556A NL178173C NL 178173 C NL178173 C NL 178173C NL 7114556 A NL7114556 A NL 7114556A NL 178173 C NL178173 C NL 178173C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
applying
thin layer
thin
layer
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7114556,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL7114556A (nl
NL178173B (nl
Inventor
Jean Spitz
Jean-Claude Viquie
Original Assignee
Commissariat Energie Atomique
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Commissariat Energie Atomique filed Critical Commissariat Energie Atomique
Publication of NL7114556A publication Critical patent/NL7114556A/xx
Publication of NL178173B publication Critical patent/NL178173B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL178173C publication Critical patent/NL178173C/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B17/00—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups
    • B05B17/04—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods
    • B05B17/06—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations
    • B05B17/0607—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers
    • B05B17/0615—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers spray being produced at the free surface of the liquid or other fluent material in a container and subjected to the vibrations
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Special Spraying Apparatus (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
NLAANVRAGE7114556,A 1970-10-23 1971-10-22 Inrichting voor het aanbrengen van een dunne laag op het oppervlak van een voorwerp. NL178173C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7038371A FR2110622A5 (nl) 1970-10-23 1970-10-23

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7114556A NL7114556A (nl) 1972-04-25
NL178173B NL178173B (nl) 1985-09-02
NL178173C true NL178173C (nl) 1989-10-16

Family

ID=9063211

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7114556,A NL178173C (nl) 1970-10-23 1971-10-22 Inrichting voor het aanbrengen van een dunne laag op het oppervlak van een voorwerp.

Country Status (9)

Country Link
US (1) US3840391A (nl)
JP (1) JPS5515545B1 (nl)
CA (1) CA952770A (nl)
CH (1) CH546830A (nl)
DE (1) DE2151809C3 (nl)
FR (1) FR2110622A5 (nl)
GB (1) GB1362803A (nl)
IT (1) IT942738B (nl)
NL (1) NL178173C (nl)

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7700808A (nl) * 1977-01-27 1978-07-31 Philips Nv Werkwijze voor de vervaardiging van ijzer- oxidefotomaskers en ijzeroxidemaskers verkre- gen volgens deze werkwijze.
US4167045A (en) * 1977-08-26 1979-09-11 Interface Biomedical Laboratories Corp. Cardiac and vascular prostheses
US4526808A (en) * 1979-07-05 1985-07-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for applying liquid to a yarn
US4290384A (en) * 1979-10-18 1981-09-22 The Perkin-Elmer Corporation Coating apparatus
US4309456A (en) * 1980-09-23 1982-01-05 Rca Corporation Method and apparatus for coating recorded discs with a lubricant
US4431684A (en) * 1981-06-02 1984-02-14 E. I. Du Pont De Nemours & Co. Ultrasonic vibrator for applying finish to yarn
FR2531880A1 (fr) * 1982-08-18 1984-02-24 Commissariat Energie Atomique Procede de fabrication de couches minces
EP0173715B1 (en) * 1984-02-13 1992-04-22 SCHMITT, Jerome J. III Method and apparatus for the gas jet deposition of conducting and dielectric thin solid films and products produced thereby
KR910005880B1 (ko) * 1984-10-29 1991-08-06 아메리칸 텔리폰 앤드 텔레그라프 캄파니 석판화 기술을 이용한 장치 및 그 제조방법
US4689247A (en) * 1986-05-15 1987-08-25 Ametek, Inc. Process and apparatus for forming thin films
US4950499A (en) * 1987-01-27 1990-08-21 The Foxboro Company Method of making a compliant fluid-impermeable element
JPH0280303A (ja) * 1987-06-04 1990-03-20 Tonen Corp 超伝導体薄膜の形成方法及びその為の装置
JP2702131B2 (ja) * 1987-06-12 1998-01-21 キヤノン株式会社 画像読取装置及び該装置を有する画像情報読取装置
JP2584774B2 (ja) * 1987-06-12 1997-02-26 キヤノン株式会社 密着型光電変換装置
US5034372A (en) * 1987-12-07 1991-07-23 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Plasma based method for production of superconductive oxide layers
EP0420596B1 (en) * 1989-09-26 1996-06-19 Canon Kabushiki Kaisha Gas feeding device and deposition film forming apparatus employing the same
FR2669246A1 (fr) * 1990-11-16 1992-05-22 Centre Nat Rech Scient Procede sol-gel de depot de couches minces par pulverisation ultrasonore.
DE4138722C2 (de) * 1991-11-21 1994-05-26 Dresden Ev Inst Festkoerper Verfahren zum Verdampfen eines Stoffes für einen sich anschließenden Verarbeitungsprozeß
US5736195A (en) * 1993-09-15 1998-04-07 Mobium Enterprises Corporation Method of coating a thin film on a substrate
US5403617A (en) * 1993-09-15 1995-04-04 Mobium Enterprises Corporation Hybrid pulsed valve for thin film coating and method
GB9412676D0 (en) * 1994-06-23 1994-08-10 Jem Smoke Machine Co Improvements in or relating to a method of creating an effect
US5534314A (en) * 1994-08-31 1996-07-09 University Of Virginia Patent Foundation Directed vapor deposition of electron beam evaporant
US5571332A (en) * 1995-02-10 1996-11-05 Jet Process Corporation Electron jet vapor deposition system
US6027673A (en) * 1995-11-21 2000-02-22 The Aerospace Corporation Method of making indium oxide microspheres for antistatic coatings
JPH09184080A (ja) 1995-12-27 1997-07-15 Vacuum Metallurgical Co Ltd 超微粒子による薄膜形成方法、およびその薄膜形成装置
FR2758744B1 (fr) 1997-01-30 1999-02-19 Commissariat Energie Atomique Systeme d'alimentation en liquide pour appareil dans lequel est maintenu un niveau constant
US20030068509A1 (en) * 1997-05-01 2003-04-10 Ashish Shah Ruthenium-containing oxide ultrasonically coated substrate for use in a capacitor and method of manufacture
US20010024700A1 (en) * 1997-05-01 2001-09-27 Asbish Shah Ruthenium-containing ultrasonically coated substrate for use in a capacitor and method of manufacture
US5894403A (en) * 1997-05-01 1999-04-13 Wilson Greatbatch Ltd. Ultrasonically coated substrate for use in a capacitor
US5920455A (en) * 1997-05-01 1999-07-06 Wilson Greatbatch Ltd. One step ultrasonically coated substrate for use in a capacitor
US20010026850A1 (en) * 1997-05-01 2001-10-04 Ashish Shah Method for providing a coated substrate for use in a capacitor by a one step ultrasonic deposition process
US20030070920A1 (en) * 1997-05-01 2003-04-17 Ashish Shah Electrode for use in a capacitor
US6012647A (en) * 1997-12-01 2000-01-11 3M Innovative Properties Company Apparatus and method of atomizing and vaporizing
US6045864A (en) 1997-12-01 2000-04-04 3M Innovative Properties Company Vapor coating method
US6685762B1 (en) * 1998-08-26 2004-02-03 Superior Micropowders Llc Aerosol method and apparatus for making particulate products
AT409462B (de) * 1998-10-08 2002-08-26 Thallner Erich Vorrichtung zum belacken von substraten
US6174651B1 (en) 1999-01-14 2001-01-16 Steag Rtp Systems, Inc. Method for depositing atomized materials onto a substrate utilizing light exposure for heating
US6569249B1 (en) 2000-04-18 2003-05-27 Clemson University Process for forming layers on substrates
CN1251809C (zh) * 2000-10-17 2006-04-19 尼奥弗托尼克斯公司 通过反应沉积形成涂覆的装置及方法
US7308185B2 (en) * 2004-12-13 2007-12-11 Asml Holding N.V. Ultra-thin high-precision glass optic
JP4871177B2 (ja) * 2006-03-28 2012-02-08 コリア インスティチュート オブ エナジー リサーチ 超音波振動方式を用いたカーボンナノチューブ合成方法とその装置
PL211804B1 (pl) * 2007-03-05 2012-06-29 Inst Optyki Stosowanej Nebulizer ultradźwiękowy
US8287938B1 (en) * 2008-05-20 2012-10-16 Ingo Scheer Method to produce a coating and to fine-tune the coating morphology
FI20095651A0 (fi) * 2009-06-10 2009-06-10 Beneq Oy Menetelmä ja laitteisto lasisubstraatin pinnoittamiseksi
DE102010055042B4 (de) * 2010-12-17 2013-06-06 Eads Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Bildung eines Elektrolytfilmes auf einer Elektrodenoberfläche
US20150053786A1 (en) * 2013-08-21 2015-02-26 Trimble Navigation Limited Intelligent precision irrigation system
CH712376A1 (de) * 2016-04-19 2017-10-31 Camag Derivatisierungsgerät und -verfahren.
JP2020188170A (ja) * 2019-05-15 2020-11-19 トヨタ自動車株式会社 ミスト生成装置及び成膜装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2512743A (en) * 1946-04-01 1950-06-27 Rca Corp Jet sprayer actuated by supersonic waves
FR1450684A (fr) * 1965-07-07 1966-06-24 Commissariat Energie Atomique Procédé et dispositif de génération d'aérosols à partir d'un liquide

Also Published As

Publication number Publication date
NL7114556A (nl) 1972-04-25
GB1362803A (en) 1974-08-07
JPS5515545B1 (nl) 1980-04-24
US3840391A (en) 1974-10-08
DE2151809B2 (de) 1974-03-28
DE2151809C3 (de) 1974-11-14
CH546830A (fr) 1974-03-15
FR2110622A5 (nl) 1972-06-02
NL178173B (nl) 1985-09-02
CA952770A (en) 1974-08-13
DE2151809A1 (de) 1972-04-27
IT942738B (it) 1973-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL178173C (nl) Inrichting voor het aanbrengen van een dunne laag op het oppervlak van een voorwerp.
NL165938C (nl) Inrichting voor het behandelen van een dunne laag mate- riaal.
NL180604C (nl) Inrichting voor het aanbrengen van een dunne film op een substraat.
NL169275C (nl) Inrichting voor het aanbrengen van een dik vloeibaar medium op een oppervlak.
NL7415450A (nl) Inrichting voor het opbrengen van dunne lagen.
NL174478C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een plakmiddel en werkwijze voor het aanbrengen van een kleeflaag aan de achterzijde van getufte tapijten.
BE773546A (nl) Kleefinrichting voor het verbinden van materiaalbanen
NL155954B (nl) Inrichting voor het aanbrengen van dekplaatjes op objectglaasjes.
NL155166B (nl) Werkwijze voor het instellen van een voorwerp ten opzichte van een inrichting en inrichting voor het toepassen van deze werkwijze.
NL162743C (nl) Inrichting voor het bepalen van de oppervlaktelading van een elektreet.
NL152183B (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een siliconenrubber op een substraat.
NL169628C (nl) Regelinrichting voor het lastonafhankelijk besturen van hydraulische aandrijfapparaten.
NL7511873A (nl) Inrichting voor het vormen van een dunne laag.
NL161679B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een mengsel geschikt voor het aanbrengen van een afdekkende laag op een verdampbare vloeistof.
BE768626A (nl) Verbeterde werkijze voor het epoxyderen van olefinen met hydroperoxyde
NL155897B (nl) Inrichting voor de vervaardiging van genaalde vliesstoffen met een pool.
NL147693B (nl) Inrichting voor het van elkaar verwijderen van twee op elkaar liggende dunne lagen.
NL139689B (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een dunne kunststofbekledingslaag op een onderlaag.
NL154290B (nl) Inrichting voor het hydromechanisch terugwinnen van een vloeistof die zich in een dunne laag op het oppervlak van een andere vloeistoflaag bevindt.
BE773306A (nl) Inrichting voor het snijden van filmbanden
NL156448B (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een gladde metalen film op ten minste een oppervlak van een stevig lichaam, alsmede voorwerp voorzien van een dergelijke film.
NL147957B (nl) Inrichting voor het elektrostatisch aanbrengen van een bedekkingslaag op voorwerpen.
NL141582B (nl) Werkwijze en inrichting voor het afzetten van een dunne laag op een oppervlak.
NL159513B (nl) Werkwijze voor het met een alkeen alkyleren van een iso-alkaan.
NL162420B (nl) Werkwijze voor het bekleden van een geleidend substraat.

Legal Events

Date Code Title Description
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
R1B Notice of opposition during period of laying open
NP1G Patent granted (not automatically) [patent specification modified]
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent