JP7086506B2 - 超音波霧化装置 - Google Patents

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Description

本発明は、超音波振動子を用いて原料溶液を微細なミストに霧化(ミスト化)し、当該ミストを外部に搬送する超音波霧化装置に関するものである。
電子デバイスの作製の現場において、超音波霧化装置が利用されることがある。当該電子デバイス製造の分野では、超音波霧化装置は、超音波振動子から発振される超音波を利用して溶液をミスト化し、ミスト化された溶液を搬送ガスによって外部へと送り出す。当該外部に搬送された原料溶液ミストが基板に噴霧されることにより、基板上には、電子デバイス用の薄膜が成膜される。
成膜で使用する原料溶液に様々な溶媒が使用されており、超音波振動子が腐食することを防止するため、原料溶液と超音波振動子とが接触しないダブルチャンバー方式が用いられる。ダブルチャンバー方式では、超音波振動子と原料溶液とを隔てるべく、底面に超音波振動子が設けられる水槽とは別に、原料溶液を収容するセパレータカップが用いられる。セパレータカップは、超音波を透過させる必要があり、ポリエチレンやポリプロピレン(PP)など、超音波を透過しやすい材料が構成材料として用いられる。また、ポリエチレンやポリプロピレンは、成形しやすい特徴も有している。
上記したダブルチャンバー方式の超音波霧化装置として例えば特許文献1で開示された霧化装置がある。
国際公開第2015/019468号
一般に、原料溶液の溶媒として溶解性の高い溶媒であるトルエンやエーテルなどが用いられる。なぜなら、トルエンやエーテルは樹脂溶解性が高い性質を有するからである。
しかし、従来の超音波霧化装置において、原料溶液の溶媒としてトルエンやエーテルと用いた場合、溶媒の樹脂溶解性が高いため、ポリエチレンやポリプロピレンを構成材料としたセパレータカップが膨潤・変形して原料溶液のリークが発生したり、セパレータカップに穴が開いたりしてしまう。
その結果、従来の超音波霧化装置は、原料溶液の収容安定性が悪くなるため、適度の霧化量の原料溶液ミストを生成できないという問題点があった。
本発明では、上記のような問題点を解決し、原料溶液に対する耐性に優れ、かつ、適度な霧化量の原料溶液ミストを生成することができる超音波霧化装置を提供することを目的とする。
この発明における超音波霧化装置は、原料溶液を収容するセパレータカップを下方に有する容器と、前記容器内において前記セパレータカップの上方に設けられ、内部が空洞の内部空洞構造体と、内部に超音波伝達媒体を収容する水槽とを備え、前記水槽及び前記セパレータカップは、前記セパレータカップの底面が前記超音波伝達媒体に浸るように位置決めされ、前記水槽の底面に設けられる少なくとも一つの超音波振動子をさらに備え、前記セパレータカップは、構成材質がPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)であり、全体の厚みが均一であり、薄膜条件を満足し、前記薄膜条件は、「厚みが0.5mm以下である」ことを特徴とする。

請求項1記載の本願発明の超音波霧化装置におけるセパレータカップの底面の構成材質はフッ素樹脂である。フッ素樹脂は幅広い溶媒に対して比較的高い耐性を有する特性がある。このため、超音波霧化装置のセパレータカップは原料溶液に対して比較的高い耐性を発揮することができる。
さらに、請求項1記載の本願発明のセパレータカップは、「厚みが0.5mm以下である」という薄膜条件を満足することにより、底面における超音波の透過性を高めているため、適度な霧化量で原料溶液ミストを生成することができる。


その結果、請求項1記載の本願発明は、原料溶液に対する耐性に優れ、かつ、適度な霧化量の原料溶液ミストを生成することができる効果を奏する。
この発明の目的、特徴、局面、及び利点は、以下の詳細な説明と添付図面とによって、より明白となる。
この発明の実施の形態1である超音波霧化装置の構成を示す説明図(その1)である。 実施の形態1の超音波霧化装置の構成を示す説明図(その2)である。 実施の形態1の効果を示すグラフである。 実施の形態2である超音波霧化装置の断面構造を示す説明図である。 図4で示したセパレータカップの底面の平面構造を示す平面図である。 従来の超音波霧化装置の構成を示す説明図(その1)である。 従来の超音波霧化装置の構成を示す説明図(その2)である。 従来の超音波霧化装置の断面構造を示す説明図である。 図8で示したセパレータカップの底面の平面構造を示す平面図である。
<実施の形態1>
図1及び図2はそれぞれこの発明の実施の形態1である超音波霧化装置101の構成を模式的に示す説明図である。図1は初期状態時(その1)、図2は原料溶液ミストMTの生成時(その2)を示している。
図1及び図2に示すように、超音波霧化装置101は、容器1、ミスト化器である超音波振動子2、内部空洞構造体3及びガス供給部4を備えている。さらに、図1及び図2に示すように、容器1は上部カップ11及びセパレータカップ12が接続部5により結合された構造を呈している。
上部カップ11は、内部に空間が形成される容器であれば、どのような形状であっても良い。超音波霧化装置101では、上部カップ11は略円筒形状であり、上部カップ11内には、平面視円状に形成された側面に囲まれた空間が形成されている。
一方、セパレータカップ12内には、原料溶液15が収容される。セパレータカップ12の構成材質はフッ素樹脂の一つであるPTFE(ポリテトラフルオロエチレン(Poly Tetra Fluoro Ethylene))であり、全体の厚みが均一で0.5mmを有している。すなわち、セパレータカップ12は構成材料がPTFEで、厚みが0.5mmの底面BP1を有している。
このように、実施の形態1のセパレータカップ12は、「底面BP1の厚みが0.5mm以下である」という薄膜条件を満足することを特徴としている。
また、実施の形態1では、超音波振動子2は、セパレータカップ12内の原料溶液15に対して超音波を印加することにより、原料溶液15をミスト化(霧化)している。4つの超音波振動子2(図1,図2は2個のみ示す)は、水槽10の底面に配設されている。なお、超音波振動子2の数は、4つに限定されず、1つでも2つ以上であってもよい。
内部空洞構造体3は、内部に空洞を有する構造体である。容器1の上部カップ11の上面部には、開口部が形成されており、図1及び図2に示すように、当該開口部を介して、内部空洞構造体3が上部カップ11内に挿通されるように配設されている。ここで、開口部に内部空洞構造体3が挿通されている状態において、内部空洞構造体3と上部カップ11との間は密閉されている。つまり、内部空洞構造体3と上部カップ11の上記開口部との間は、シールされている。
内部空洞構造体3の形状は、内部に空洞が形成される形状のものであれば、どのような形状を採用しても良い。図1及び図2の構成例では、内部空洞構造体3は、底面を有さない、フラスコ形状の断面形状を有している。より具体的に、図1に示す内部空洞構造体3では、管部3Aと、円錐台部3Bと、円筒部3Cとから構成されている。
管部3Aは、円筒形状の管路部であり、当該管部3Aは、上部カップ11の上面に設けられた開口部から挿通されるように、上部カップ11外から上部カップ11内へと至っている。より具体的には、管部3Aは、上部カップ11の外側に配設される上管部と、上部カップ11に内に配設される下管部とに区分される。そして、上管部は上部カップ11の上面外側から取り付けられ、下管部は上部カップ11の上面内側から取り付けられ、これらが取り付けられている状態において、上管部と下管部とは、上部カップ11の上面に配設された開口部を通じて、連通している。管部3Aの一方端は、上部カップ11の外に存する、たとえば、原料溶液ミストMTを利用して薄膜を成膜する薄膜成膜装置内へと接続される。他方、管部3Aの他方端は、上部カップ11内において、上記円錐台部3Bの上端側に接続される。
円錐台部3Bは、外観(側壁面)が円錐台形状であり、内部には空洞が形成されている。上記円錐台部3Bは、上面及び底面が開放されている。つまり、内部に形成されている空洞を閉じており、かつ、上面及び底面を有さない。円錐台部3Bは、上部カップ11内に存しており、円錐台部3Bの上端側は、上記の通り、管部3Aの他方端と接続(連通)されており、当該円錐台部3Bの下端部側は、円筒部3Cの上端側と接続されている。
ここで、円錐台部3Bは、上端側から下端側に向けて、末広がりの断面形状を有する。つまり、円錐台部3Bの上端側の側壁の径が最も小さく(管部3Aの径と同じ)、円錐台部3Bの下端側の側壁の径が最も大きく(円筒部3Cの径と同じ)、円錐台部3Bの側壁の径は、上端側から下端側に向けて、滑らかに大きくなる。
円筒部3Cは、円筒形状を有する部分であり、当該円筒部3Cの上端側は、上記の通り、円錐台部3Bの下端側と接続(連通)されており、円筒部3Cの下端側は、上部カップ11の底面に面している。ここで、図1の構成例では、円筒部3Cの下端側は、解放されている(つまり、底面を有さない)。
ここで、図1及び図2の構成例では、内部空洞構造体3における、管部3Aから円錐台部3Bを経て円筒部3Cへと延びる方向の中心軸は、上部カップ11の円筒形状の中心軸と略一致している。なお、内部空洞構造体3は一体構造であっても、図1及び図2に示すように、管部3Aの一部を構成する上管部、管部3Aの他部を構成する下管部、円錐台部3B及び円筒部3Cの各部材を組み合わせて構成されても良い。図1の構成例では、上部カップ11の外上面に上管部の下端部が接続され、上部カップ11の内上面に下管部の上端部が接続され、当該下管部の下端部に、円錐台部3B及び円筒部3Cから成る部材が接続されることにより、複数の部材から成る内部空洞構造体3が構成されている。
上記形状の内部空洞構造体3が上部カップ11の内部に挿通されるように配設されることにより、上部カップ11内は、二つの空間に区分される。一つ目の空間は、内部空洞構造体3の内部に形成される空洞部である。以下、この空洞部を「ミスト化空間3H」と称する。ミスト化空間3Hは、内部空洞構造体3の内側面により囲まれた空間となる。
二つ目の空間が、上部カップ11の内面と内部空洞構造体3の外側面とにより形成される空間である。以下、この空間を「ガス供給空間1H」と称する。このように、上部カップ11内はミスト化空間3Hとガス供給空間1Hとに区画される。
また、ミスト化空間3Hとガス供給空間1Hとは円筒部3Cの下方開口部を介してつながっている。
また、図1及び図2の構成例では、内部空洞構造体3の形状と上部カップ11の形状とから分かるように、ガス供給空間1Hは、上部カップ11の上部側が最も広く、上部カップ11の下側に進むに連れて、狭くなっている。つまり、管部3Aの外側面と上部カップ11の内側面とにより囲まれる部分のガス供給空間1Hが最も広く、円筒部3Cの外側面と上部カップ11の内側面とに囲まれる部分のガス供給空間1Hが最も狭くなっている。
ガス供給部4は、上部カップ11の上面に配設されている。ガス供給部4からは、超音波振動子2によりミスト化された原料溶液ミストMT(図2参照)を、内部空洞構造体3の管部3Aを介して外部へと搬送するためのキャリアガスG4が供給される。キャリアガスG4として、たとえば高濃度の不活性ガスを採用することができる。また、図1及び図2に示すように、ガス供給部4には、供給口4aが設けられており、容器1内に存する供給口4aから、キャリアガスG4が容器1のガス供給空間1H内に供給される。
ガス供給部4から供給されたキャリアガスG4は、ガス供給空間1H内に供給され、当該ガス供給空間1H内に充満した後、円筒部3Cの下方開口部を介して、ミスト化空間3Hへと導入される。
また、実施の形態1の超音波霧化装置101では、容器1のセパレータカップ12は、カップ状であり、内部に原料溶液15を収容している。セパレータカップ12の底面BP1は側面部から中央に向かって緩やかに傾斜しており、所定の曲率を有する球面状に形成されている。
また、水槽10は超音波伝達媒体である超音波伝達水9で充填されている。超音波伝達水9は、水槽10の底面に配設された超音波振動子2から発生した超音波振動を、セパレータカップ12内の原料溶液15へと伝達する機能を有している。
つまり、超音波伝達水9は、超音波振動子2から印加された超音波の振動エネルギーをセパレータカップ12内に伝達できるように、水槽10内に収容されている。
前述したように、セパレータカップ12の底面BP1には、ミスト化される原料溶液15が収容されており、原料溶液15の液面15Aは、接続部5の配設位置よりも下側に位置している(図1及び図2参照)。
そして、セパレータカップ12は底面BP1全体が超音波伝達水9に浸るように、セパレータカップ12及び水槽10は位置決め設定されている。すなわち、セパレータカップ12の底面BP1は、水槽10の底面に接することなく、水槽10の底面の上方に配置されて、セパレータカップ12の底面BP1と水槽10の底面との間に超音波伝達水9が存在する。
このような構成の超音波霧化装置101において、超音波振動子2が超音波振動を印加すると、超音波の振動エネルギーが超音波伝達水9及びセパレータカップ12の底面BP1を介して、セパレータカップ12内の原料溶液15に伝達される。
すると、図2に示すように、液面15Aから液柱6が立上り、原料溶液15は、液粒及びミストへと移行し、ミスト化空間3H内で原料溶液ミストMTが得られる。ガス供給空間1H内で生成された原料溶液ミストMTは、ガス供給部4から供給されたキャリアガスG4によって管部3Aの上部開口部を介して外部に供給される。
図6及び図7はそれぞれ従来の超音波霧化装置200の構成を模式的に示す説明図である。図6は初期状態時(その1)、図7は原料溶液ミストMTの生成時(その2)を示している。
以下、図1及び図2で示した実施の形態1の超音波霧化装置101と同様な箇所は同一符号を付して説明を要略する。
超音波霧化装置101の容器1に対応する容器51は上部カップ61及びセパレータカップ62の組合せ構造により構成される。上部カップ61は上部カップ11と同様に構成される。
実施の形態1のセパレータカップ12に対応する従来のセパレータカップ62は、構成材料として、超音波を透過しやすいポリプロピレン(PP)を採用し、全体の厚みが均一で1.0mmを有している。
セパレータカップ62の厚みをできるだけ薄くして超音波の透過性を維持し(超音波による振動エネルギーの減衰を抑え)、かつ、セパレータカップ62の形状を維持するように、セパレータカップ62の厚みはで1.0mmに設定されている。
図3は実施の形態1の効果を示すグラフである。図3はキャリアガスG4の流量[L/min]を横軸とし、生成される原料溶液ミストMTの霧化量[g/min]を縦軸で示している。
図3では、原料溶液15として34℃の蒸留水を用い、TDK社の型式NB-59S-09S-0の超音波振動子2を水槽10の底面に4個配置し、4個の超音波振動子2の振動周波数1.6MHzに設定して行った実験結果を示している。なお、キャリアガスG4として窒素ガスを用いている。
図3において、霧化量変化L1はセパレータカップ12の構成材料がPTFEであり、底面BP1の膜厚tが0.3mmの場合を示している。霧化量変化L2はセパレータカップ12の構成材料がPTFEであり、底面BP1の膜厚tが0.5mmの場合を示している。霧化量変化L3はセパレータカップ12の構成材料がPTFEであり、底面BP1の膜厚tが0.6mmの場合を示している。すなわち、霧化量変化L1~L3は実施の形態1の超音波霧化装置101に関する実験結果である。
一方、霧化量変化L4は、セパレータカップ62の構成材料がPPであり、底面BP6の膜厚tが1.0mmの場合を示している。すなわち、霧化量変化L4は従来の超音波霧化装置200に関する実験結果である。
図3の霧化量変化L3に示すように、セパレータカップ12の構成材料としてPTFEを採用し、かつ、底面BP1の膜厚が0.6mmである場合、セパレータカップ12の底面BP1における超音波の透過性が優れず、原料溶液ミストMTを実質的に得ることができない。
しかし、図3の霧化量変化L2のように、底面BP1の膜厚を0.5mmに設定すると、すなわち、底面BP1が上記薄膜条件を満足すると、セパレータカップ12の底面BP1における超音波の透過性が改善され、有効な霧化量で原料溶液ミストMTを得ることができる。
さらに、図3の霧化量変化L1のように、底面BP1の膜厚を0.3mmに設定すると、セパレータカップ12の底面BP1における超音波の透過性が大幅に改善され、霧化量変化L4で示す従来の超音波霧化装置200を上回る霧化量で原料溶液ミストMTを得ることができる。
図3の実験結果からわかるように、セパレータカップ12の構成材料として採用したPTFEは、膜厚を0.5mm以下に設定すれば、超音波の透過性は、原料溶液ミストMTの霧化量が実用レベルに達することが確認された。
さらに、セパレータカップ12の構成材料として採用したPTFEは、膜厚を0.3mm以下に設定すれば、超音波の透過性が原料溶液ミストMTの霧化量が従来を超える高水準に達することが確認された。
なお、超音波の透過性は音響インピーダンスで決まる。PTFEに限らず、フッ素樹脂の音響インピーダンスは1.15[×10kg/ms]前後であるため、セパレータカップ12の構成材料をフッ素樹脂にすれば、図3で示す場合と同様な結果が得られるものと推測される。
以上のように、実施の形態1の超音波霧化装置101は、セパレータカップ12の「底面BP1の厚みが0.5mm以下である」という薄膜条件を満足する構成を基本構成とし、セパレータカップ12の「底面BP1の厚みが0.3mm以下である」という限定薄膜条件を満足する構成を限定構成としている。すなわち、上記薄膜条件は上記限定薄膜条件を含んでいる。
上述したように、実施の形態1の超音波霧化装置101におけるセパレータカップ12の構成材質は、フッ素樹脂であるPTFEである。PTFEに代表されるフッ素樹脂は幅広い溶媒に対して比較的高い耐性を有する特性がある。このため、超音波霧化装置101のセパレータカップ12は原料溶液15に対して比較的高い耐性を発揮することができる。
さらに、実施の形態1の基本構成は、セパレータカップ12は「底面BP1の厚みが0.5mm以下である」という薄膜条件を満足することにより、底面BP1における超音波の透過性を高めているため、実用レベルの霧化量で原料溶液ミストMT生成することができる。
その結果、実施の形態1の超音波霧化装置101の基本構成は、原料溶液15に対する耐性に優れ、かつ、適度な霧化量の原料溶液ミストMTを生成することができる効果を奏する。
さらに、実施の形態1の超音波霧化装置101の限定構成のセパレータカップ12は「底面BP1の厚みが0.3mm以下である」という限定薄膜条件を満足することにより、底面BP1における超音波の透過性をより高め、さらに高い霧化量の原料溶液ミストMTを生成することができる。
<実施の形態2>
図4はこの発明の実施の形態2である超音波霧化装置102におけるセパレータカップ12Bの断面構造を示す説明図である。図5は図4で示したセパレータカップ12Bの底面BP2の平面構造を示す平面図である。図5では底面BP2側から視た平面図を示している。
図4及び図5において、実施の形態1の超音波霧化装置101と同様な構成部は、同一符号を付して説明を適宜省略し、実施の形態2の特徴箇所を中心に説明する。
図4及び図5に示すように、セパレータカップ12Bは実施の形態1のセパレータカップ12と異なり、底面BP2は均一な膜厚ではなく、2種類の膜厚を有している。以下、この点を詳述する。
底面BP2は、0.5mm以下の比較的薄い膜厚の4つの薄膜領域R1と、0.5mmを超える比較的厚い膜厚の厚膜領域R2に区分されている。
4つの薄膜領域R1は4つの超音波振動子2に対応して設定される。4つの薄膜領域R1はそれぞれ、対応する超音波振動子2から印加される超音波が透過する超音波透過領域の全体を含む領域に設定されている。そして、底面BP2において、4つの薄膜領域R1以外の全領域が厚膜領域R2に設定される。また、セパレータカップ12の側面及び上面の膜厚も厚膜領域R2と同一の膜厚に設定される。
このように、セパレータカップ12Bの底面BP2は、4つの超音波振動子2に対応する4つの薄膜領域R1を有している。4つの薄膜領域R1はそれぞれ、4つの超音波振動子2のうち対応する超音波振動子2から発生する超音波を透過させる超音波透過領域を含んでいる。
そして、実施の形態2の超音波霧化装置102のセパレータカップ12Bは、4つの薄膜領域R1の厚さ(≦0.5mm)を、他の領域の厚さ(>0.5mm)より薄く設定している。
このように、実施の形態2のセパレータカップ12Bの底面において、4つの薄膜領域R1はそれぞれ「厚みが0.5mm以下である」という薄膜条件を満足し、厚膜領域R2は上記薄膜条件を満足していない。
図8は従来の超音波霧化装置200の断面構造を示す説明図である。図9は図8で示したセパレータカップ62の底面BP6の平面構造を示す平面図である。図9では底面BP6側から視た平面図を示している。
図8及び図9において、図6及び図7で示した超音波霧化装置200と同様な構成部は、同一符号を付して説明を適宜省略する。
図8及び図9に示すように、セパレータカップ62は底面BP6においても均一な膜厚を有している。すなわち、底面BP6は、1.0mmで均一に設定される。また、セパレータカップ62の側面及び上面の膜厚も同一の膜厚(1.0mm)に設定される。
このように、実施の形態2の超音波霧化装置102は、セパレータカップ12Bの底面BP2において、4つの薄膜領域R1(少なくとも一つの薄膜領域)は上記薄膜条件を満足し、4つの薄膜領域R1以外の他の領域である厚膜領域R2は上記薄膜条件を満足しないことを特徴としている。
実施の形態2の超音波霧化装置102は、上記特徴を有することにより、セパレータカップ12Bおいて、厚膜領域R2の膜厚を、0.5mmを超えて比較的厚く設定することにより、原料溶液15に対する耐性を最大限に高めることができる。
さらに、実施の形態2の超音波霧化装置102は、実施の形態1の超音波霧化装置101と同様、各々が超音波透過領域を含む4つの薄膜領域R1は「厚みが0.5mm以下である」という薄膜条件を満足している。
このため、実施の形態2の超音波霧化装置102は、実施の形態1の超音波霧化装置101と同様、適度な霧化量で原料溶液ミストMTを生成することができる効果を奏する。
なお、実施の形態1の限定構成のように、4つの薄膜領域R1の厚みを0.3mm以下に設定して、限定薄膜条件を満足させることにより、実施の形態2においても、さらに高い霧化量の原料溶液ミストMTを生成することができることは勿論である。
この発明は詳細に説明されたが、上記した説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。
1 容器
2 超音波振動子
3 内部空洞構造体
4 ガス供給部
9 超音波伝達水
10 水槽
12,12B セパレータカップ
15 原料溶液
101,102 超音波霧化装置
BP1,BP2 底面
R1 薄膜領域
R2 厚膜領域

Claims (3)

  1. 原料溶液を収容するセパレータカップを下方に有する容器と、
    前記容器内において前記セパレータカップの上方に設けられ、内部が空洞の内部空洞構造体と、
    内部に超音波伝達媒体を収容する水槽とを備え、前記水槽及び前記セパレータカップは、前記セパレータカップの底面が前記超音波伝達媒体に浸るように位置決めされ、
    前記水槽の底面に設けられる少なくとも一つの超音波振動子をさらに備え、
    前記セパレータカップは、構成材質がPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)であり、全体の厚みが均一であり、薄膜条件を満足し、
    前記薄膜条件は、「厚みが0.5mm以下である」ことを特徴とする、
    超音波霧化装置。
  2. 請求項1記載の超音波霧化装置であって、
    前記薄膜条件は、「厚みが0.3mm以下である」という限定薄膜条件を含む、
    超音波霧化装置。
  3. 原料溶液を収容するセパレータカップを下方に有する容器と、
    前記容器内において前記セパレータカップの上方に設けられ、内部が空洞の内部空洞構造体と、
    内部に超音波伝達媒体を収容する水槽とを備え、前記水槽及び前記セパレータカップは、前記セパレータカップの底面が前記超音波伝達媒体に浸るように位置決めされ、
    前記水槽の底面に設けられる少なくとも一つの超音波振動子をさらに備え、
    前記セパレータカップは、構成材質がフッ素樹脂であり厚みが薄膜条件を満足する底面を有し、
    前記薄膜条件は、「底面の厚みが0.5mm以下である」であり、
    前記セパレータカップの底面は、前記少なくとも一つの超音波振動子に対応する少なくとも一つの薄膜領域を有し、前記少なくとも一つの薄膜領域はそれぞれ、前記少なくとも一つの超音波振動子のうち対応する超音波振動子から印加される超音波を透過させる超音波透過領域を含み、
    前記セパレータカップの底面において、前記少なくとも一つの薄膜領域は前記薄膜条件を満足し、前記少なくとも一つの薄膜領域以外の他の領域は前記薄膜条件を満足しないことを特徴とする、
    超音波霧化装置。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7460298B1 (ja) 2022-12-20 2024-04-02 東芝三菱電機産業システム株式会社 超音波霧化装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005111328A (ja) 2003-10-06 2005-04-28 Konishi Seiko Kk 携帯用超音波霧化装置
JP2005305233A (ja) 2004-04-19 2005-11-04 Shizuo Fujita 成膜用霧化装置
JP2007181808A (ja) 2005-10-12 2007-07-19 Akira Tomono 霧発生装置
JP2012075577A (ja) 2010-09-30 2012-04-19 Sanyo Electric Co Ltd 過酸化水素水の霧化装置
WO2015019468A1 (ja) 2013-08-08 2015-02-12 東芝三菱電機産業システム株式会社 霧化装置
JP2016190172A (ja) 2015-03-30 2016-11-10 株式会社Flosfia 霧化装置および成膜装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5568576U (ja) * 1978-11-01 1980-05-12
JPS6082164A (ja) * 1983-10-08 1985-05-10 Omron Tateisi Electronics Co 超音波霧化装置
FR2690634B1 (fr) * 1992-04-29 1994-10-14 Chronotec Dispositif de micro-pulvérisation générée par ondes ultra-sonores.
JPH0615757U (ja) * 1992-07-23 1994-03-01 ティーディーケイ株式会社 超音波霧化器
JP2000271517A (ja) * 1999-03-25 2000-10-03 Kao Corp 超音波噴霧装置
JP4079912B2 (ja) * 2004-06-04 2008-04-23 松下電器産業株式会社 食器洗浄機
JP4774040B2 (ja) * 2005-03-11 2011-09-14 明 伴野 霧発生装置、および、霧放出演出装置
IL183643A0 (en) * 2007-06-04 2007-10-31 Shira Inc P D Ltd Nebulizer particularly useful for converting liquids to fine sprays at extremely low rates
WO2012043682A1 (ja) * 2010-09-30 2012-04-05 三洋電機株式会社 過酸化水素水の霧化装置、滅菌物質発生装置、ガス発生装置およびアイソレータ
WO2015115006A1 (ja) * 2014-01-31 2015-08-06 株式会社良品計画 超音波霧化装置、超音波加湿器、及び、超音波芳香揮散器
JP2016189922A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 株式会社フコク 霧化ユニット及びこの霧化ユニットに装着する霧化液充填容器、並びにこれらを組み立てた超音波霧化装置
TWI566838B (zh) * 2016-01-08 2017-01-21 Prec Machinery Research&Development Center Ultrasonic compound rotary atomization mechanism
JP6577443B2 (ja) * 2016-11-02 2019-09-18 東芝三菱電機産業システム株式会社 霧化装置
JP6932237B2 (ja) * 2018-02-27 2021-09-08 シャープ株式会社 霧化装置および調湿装置
WO2020241150A1 (ja) * 2019-05-27 2020-12-03 シャープ株式会社 超音波霧化装置および調湿装置
JP7228160B2 (ja) * 2019-06-03 2023-02-24 株式会社デンソー ミスト生成装置、成膜装置、及び成膜装置を用いた成膜方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005111328A (ja) 2003-10-06 2005-04-28 Konishi Seiko Kk 携帯用超音波霧化装置
JP2005305233A (ja) 2004-04-19 2005-11-04 Shizuo Fujita 成膜用霧化装置
JP2007181808A (ja) 2005-10-12 2007-07-19 Akira Tomono 霧発生装置
JP2012075577A (ja) 2010-09-30 2012-04-19 Sanyo Electric Co Ltd 過酸化水素水の霧化装置
WO2015019468A1 (ja) 2013-08-08 2015-02-12 東芝三菱電機産業システム株式会社 霧化装置
JP2016190172A (ja) 2015-03-30 2016-11-10 株式会社Flosfia 霧化装置および成膜装置

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