JP2016190172A - 霧化装置および成膜装置 - Google Patents
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Abstract
Description
また、本発明者らは、上記知見を得た後、さらに検討を重ねて本発明を完成させるに至った。
[1] 無底の筒状体と、超音波伝達液を収容し、前記超音波伝達液に少なくとも前記筒状体の底面部を浸漬させる超音波伝達液槽と、前記超音波伝達液槽に設けられ、前記筒状体の底面部に対して超音波を照射する超音波振動子とを具備し、超音波透過性基材を介して前記筒状体と前記超音波伝達液槽とが嵌合または螺合されることにより、前記筒状体が霧化用原料液を収容可能となるように、前記筒状体の底面部が前記超音波透過性基材によって閉塞されることを特徴とする霧化装置。
[2] 超音波透過性基材が高分子フィルムである前記[1]記載の霧化装置。
[3] 超音波透過性基材が、フッ素系樹脂を主成分として含む前記[1]または[2]に記載の霧化装置。
[4] フッ素系樹脂が、ポリテトラフルオロエチレン、変性ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体およびエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体から選ばれる少なくとも1種である前記[3]記載の霧化装置。
[5] 筒状体が、円筒状もしくは略円筒状または多角形筒状もしくは略多角形筒状である前記[1]〜[4]のいずれかに記載の霧化装置。
[6] 霧化用原料液が金属を含む前記[1]〜[5]のいずれかに記載の霧化装置。
[7] 金属が、ガリウム、アルミニウムおよびインジウムから選ばれる1種または2種以上の金属である前記[6]記載の霧化装置。
[8] 成膜用霧化装置である前記[1]〜[7]のいずれかに記載の霧化装置。
[9] 成膜室と霧化装置とを少なくとも具備する成膜装置であって、前記霧化装置が、前記[1]〜[8]のいずれかに記載の霧化装置であることを特徴とする成膜装置。
[10] ミストCVD装置である前記[9]記載の成膜装置。
なお、本発明においては、前記筒状体の内部を密閉状態にするのが好ましく、密閉空間を形成することにより、霧化効率やミストの制御性をより良好なものとすることができる。
なお、本発明においては、前記超音波伝達液槽の内部を密閉状態にするのが好ましく、密閉空間を形成することにより、霧化効率やミストの制御性をより良好なものとすることができる。
また、前記霧化用原料液は、1種類であってもよいし、2種類以上であってもよい。例えば、2種類以上の原料液を用いる場合には、少なくとも1種類は無機化合物を含む原料液であり、他の種類は有機化合物を含む原料液であってもよい。
(1)筒状体と超音波伝達液槽との嵌合または螺合により、超音波透過性基材が筒状体の底面を閉塞し、超音波透過性基材が安定した筒状体の底面を形成するので、優れた霧化効率とミストの良好な制御性を充分に発揮させることができる。また、均質なミストを生成可能であり、特に成膜に適したミストを生成することができる。
(2)超音波透過性基材は消耗品として用いることができるので、長期にわたり、安定して使用することができるという効果を奏する。また、筒状体の底面部を超音波透過性基材で容易に閉塞できるので、超音波透過性基材の交換等のメンテナンスも簡便に行うことができる。
(3)筒状体と超音波伝達液槽との嵌合または螺合により、超音波透過性基材が筒状体の底面を閉塞している構成は、霧化装置の小型化に適しており、汎用性においても優れた効果を発揮できる。また、このような構成は、ミストの運搬が容易であり、成膜用霧化装置として特に優れている。またさらに、前記筒状体を密閉式にした場合には、霧化用原料液の揮発や不純物(コンタミ)の混入を防止することができ、霧化効率やミストの制御性が、より優れたものとなる。また、前記超音波伝達液槽を密閉式にした場合には、超音波伝達液の揮発や不純物(コンタミ)の混入を防止することができ、霧化効率やミストの制御性が、より優れたものとなる。
図2は、蓋5の上面図を模式的に示している。上面からは、蓋ナット52と固定用部材56とが見えており、キャリアガス供給管およびミスト供給管を貫通させるための穴が2カ所設けられている。
図7の超音波振動子21は、円盤状の圧電素子の両面に電極を備えており、振動子固定具21aを用いて、槽本体22の底面に設置される。
1a 発振器
2 超音波伝達液槽
2a 槽本体
2b 固定用ナット
2s 超音波伝達液
3 筒状体
3s 霧化用原料液
4 高分子フィルム
5 蓋
5a 蓋ナット
5b 蓋本体
6 キャリアガス供給管
7 ミスト供給管
8 成膜室
8a ヒータ
8b 基板
8c 排気口
9 キャリアガス供給手段
9a バルブ
10 霧化装置
21 超音波振動子
21a 振動子固定具
22 槽本体
23 Oリング
24 高分子フィルム
25 固定用ナット
51 蓋本体
52 蓋ナット
53 ミスト供給管用Oリング
54 キャリアガス供給管用Oリング
55 固定用部材
81 ホットプレート
82 基板
83 排気管
87 ミスト供給管
88 成膜室
Claims (10)
- 無底の筒状体と、超音波伝達液を収容し、前記超音波伝達液に少なくとも前記筒状体の底面部を浸漬させる超音波伝達液槽と、前記超音波伝達液槽に設けられ、前記筒状体の底面部に対して超音波を照射する超音波振動子とを具備し、超音波透過性基材を介して前記筒状体と前記超音波伝達液槽とが嵌合または螺合されることにより、前記筒状体が霧化用原料液を収容可能となるように、前記筒状体の底面部が前記超音波透過性基材によって閉塞されることを特徴とする霧化装置。
- 超音波透過性基材が高分子フィルムである請求項1記載の霧化装置。
- 超音波透過性基材が、フッ素系樹脂を主成分として含む請求項1または2に記載の霧化装置。
- フッ素系樹脂が、ポリテトラフルオロエチレン、変性ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体およびエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体から選ばれる少なくとも1種である請求項3記載の霧化装置。
- 筒状体が、円筒状もしくは略円筒状または多角形筒状もしくは略多角形筒状である請求項1〜4のいずれかに記載の霧化装置。
- 霧化用原料液が金属を含む請求項1〜5のいずれかに記載の霧化装置。
- 金属が、ガリウム、アルミニウムおよびインジウムから選ばれる1種または2種以上の金属である請求項6記載の霧化装置。
- 成膜用霧化装置である請求項1〜7のいずれかに記載の霧化装置。
- 成膜室と霧化装置とを少なくとも具備する成膜装置であって、前記霧化装置が、請求項1〜8のいずれかに記載の霧化装置であることを特徴とする成膜装置。
- ミストCVD装置である請求項9記載の成膜装置。
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