NL151214B - Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting bedekt met een passiverende laag op het halfgeleideroppervlak, alsmede aldus vervaardigde inrichting. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting bedekt met een passiverende laag op het halfgeleideroppervlak, alsmede aldus vervaardigde inrichting.

Info

Publication number
NL151214B
NL151214B NL686815728A NL6815728A NL151214B NL 151214 B NL151214 B NL 151214B NL 686815728 A NL686815728 A NL 686815728A NL 6815728 A NL6815728 A NL 6815728A NL 151214 B NL151214 B NL 151214B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
semiconductor
passiving
manufacture
well
layer
Prior art date
Application number
NL686815728A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL6815728A (enExample
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Publication of NL6815728A publication Critical patent/NL6815728A/xx
Publication of NL151214B publication Critical patent/NL151214B/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H10W74/40—Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their materials
    • H10W74/43—Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their materials comprising oxides, nitrides or carbides, e.g. ceramics or glasses
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H10W74/10—Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition
    • H10W74/131—Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition the semiconductor body being only partially enclosed
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
    • H10W74/40—Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their materials
NL686815728A 1967-11-06 1968-11-05 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting bedekt met een passiverende laag op het halfgeleideroppervlak, alsmede aldus vervaardigde inrichting. NL151214B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP42070969A JPS4830786B1 (enExample) 1967-11-06 1967-11-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL6815728A NL6815728A (enExample) 1969-05-08
NL151214B true NL151214B (nl) 1976-10-15

Family

ID=13446844

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL686815728A NL151214B (nl) 1967-11-06 1968-11-05 Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting bedekt met een passiverende laag op het halfgeleideroppervlak, alsmede aldus vervaardigde inrichting.

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPS4830786B1 (enExample)
DE (1) DE1807106B2 (enExample)
FR (1) FR1590530A (enExample)
GB (1) GB1179069A (enExample)
NL (1) NL151214B (enExample)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS501872B1 (enExample) * 1970-01-30 1975-01-22

Also Published As

Publication number Publication date
DE1807106B2 (en) 1970-06-25
FR1590530A (enExample) 1970-04-13
JPS4830786B1 (enExample) 1973-09-22
DE1807106A1 (de) 1969-06-19
NL6815728A (enExample) 1969-05-08
GB1179069A (en) 1970-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL170901C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL161305C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL141329B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een maskerlaag van siliciumnitride, alsmede aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting.
NL154560B (nl) Werkwijze voor het reinigen van het oppervlak van een op een halfgeleider aangebrachte metaallaag door kathodeverstuiving, alsmede met deze werkwijze vervaardigde halfgeleiderinrichting.
NL163370C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting met een geleiderpatroon.
NL142287B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL144201B (nl) Werkwijze voor het bekleden van het oppervlak van een substraat.
NL142386B (nl) Werkwijze voor het verhogen van de slijtvastheid van een glasoppervlak, alsmede aldus gevormde voorwerpen.
NL161302C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL158025B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL161617C (nl) Halfgeleiderinrichting met vlak oppervlak en werkwijze voor het vervaardigen daarvan.
NL7414007A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL149859B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een ohms contact, alsmede halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL158541B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van laminaten.
NL181696B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met tenminste een halfgeleiderelement in een voor de halfgeleiderelementen gemeenschappelijk halfgeleiderlichaam.
NL142283B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met een op het halfgeleideroppervlak aangebrachte laag siliciumoxyde.
NL139079C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een cellulair voorwerp met een reliefoppervlak.
NL163369C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL143072B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL161619C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL154061B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.
NL151213B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een planaire halfgeleiderinrichting, voorzien van een vrijwel uitsluitend uit palladium bestaande laag, alsmede de aldus vervaardigde halfgeleiderinrichting.
NL161920B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting, waarbij de roostervervorming t.g.v. doteerstoffen wordt gecompenseerd.
NL154866B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting alsmede halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens de werkwijze.
NL161919C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting, die een p,n-overgang bevat.