NL154061B - Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.Info
- Publication number
- NL154061B NL154061B NL676715014A NL6715014A NL154061B NL 154061 B NL154061 B NL 154061B NL 676715014 A NL676715014 A NL 676715014A NL 6715014 A NL6715014 A NL 6715014A NL 154061 B NL154061 B NL 154061B
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- semiconductor
- manufacturing
- device manufactured
- semiconductor device
- manufactured
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0603—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions
- H01L29/0607—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration
- H01L29/0638—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by particular constructional design considerations, e.g. for preventing surface leakage, for controlling electric field concentration or for internal isolations regions for preventing surface leakage or controlling electric field concentration for preventing surface leakage due to surface inversion layer, e.g. with channel stopper
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/291—Oxides or nitrides or carbides, e.g. ceramics, glass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/028—Dicing
Priority Applications (13)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL6715013A NL6715013A (nl) | 1967-11-04 | 1967-11-04 | |
NL676715014A NL154061B (nl) | 1967-11-04 | 1967-11-04 | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze. |
DE1805826A DE1805826C3 (de) | 1967-11-04 | 1968-10-29 | Verfahren zum Hersteilen von planaren Halbleiterbauelementen |
AT1061968A AT281122B (de) | 1967-11-04 | 1968-10-31 | Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung derselben |
GB51836/68A GB1243355A (en) | 1967-11-04 | 1968-11-01 | Improvements in and relating to semiconductor devices |
SE14874/68A SE354380B (nl) | 1967-11-04 | 1968-11-01 | |
CH1631768A CH483725A (de) | 1967-11-04 | 1968-11-01 | Planare Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung derselben |
ES359847A ES359847A1 (es) | 1967-11-04 | 1968-11-02 | Un dispositivo semiconductor planar. |
FR1592176D FR1592176A (nl) | 1967-11-04 | 1968-11-04 | |
BE723340D BE723340A (nl) | 1967-11-04 | 1968-11-04 | |
US00131252A US3839103A (en) | 1967-11-04 | 1971-04-05 | Semiconductor device and method of manufacturing same |
US00213947A US3772576A (en) | 1967-11-04 | 1971-12-30 | Planar semiconductor device with scribe lines and channel stopper |
JP48067663A JPS5013633B1 (nl) | 1967-11-04 | 1973-06-15 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL6715013A NL6715013A (nl) | 1967-11-04 | 1967-11-04 | |
NL676715014A NL154061B (nl) | 1967-11-04 | 1967-11-04 | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL6715014A NL6715014A (nl) | 1969-05-06 |
NL154061B true NL154061B (nl) | 1977-07-15 |
Family
ID=26644261
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL676715014A NL154061B (nl) | 1967-11-04 | 1967-11-04 | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze. |
NL6715013A NL6715013A (nl) | 1967-11-04 | 1967-11-04 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL6715013A NL6715013A (nl) | 1967-11-04 | 1967-11-04 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US3839103A (nl) |
JP (1) | JPS5013633B1 (nl) |
AT (1) | AT281122B (nl) |
BE (1) | BE723340A (nl) |
CH (1) | CH483725A (nl) |
DE (1) | DE1805826C3 (nl) |
ES (1) | ES359847A1 (nl) |
FR (1) | FR1592176A (nl) |
GB (1) | GB1243355A (nl) |
NL (2) | NL154061B (nl) |
SE (1) | SE354380B (nl) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4819113B1 (nl) * | 1969-08-27 | 1973-06-11 | ||
JPS573225B2 (nl) * | 1974-08-19 | 1982-01-20 | ||
JPS5261333U (nl) * | 1975-10-31 | 1977-05-06 | ||
CH594989A5 (nl) * | 1976-09-03 | 1978-01-31 | Bbc Brown Boveri & Cie | |
US4076558A (en) * | 1977-01-31 | 1978-02-28 | International Business Machines Corporation | Method of high current ion implantation and charge reduction by simultaneous kerf implant |
US4665420A (en) * | 1984-11-08 | 1987-05-12 | Rca Corporation | Edge passivated charge-coupled device image sensor |
US4835592A (en) * | 1986-03-05 | 1989-05-30 | Ixys Corporation | Semiconductor wafer with dice having briding metal structure and method of manufacturing same |
JP2578600B2 (ja) * | 1987-04-28 | 1997-02-05 | オリンパス光学工業株式会社 | 半導体装置 |
US5237197A (en) * | 1989-06-26 | 1993-08-17 | University Of Hawaii | Integrated VLSI radiation/particle detector with biased pin diodes |
DE58909785D1 (de) * | 1989-11-28 | 1997-04-10 | Siemens Ag | Halbleiterscheibe mit dotiertem Ritzrahmen |
ATE106489T1 (de) * | 1990-06-21 | 1994-06-15 | Chiang Mu Long | Eckenschutz für wände, träger, stützen etc. |
FR2694410B1 (fr) * | 1992-07-30 | 1994-10-28 | Sgs Thomson Microelectronics | Procédé de test de la résistance par carré de couches diffusées. |
DE19539527C2 (de) * | 1995-10-24 | 2001-02-22 | August Braun | Winkelleiste mit Armierungsmaterial für den Putz auf einer Wärmedämmung |
US11682667B2 (en) * | 2017-06-27 | 2023-06-20 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Memory cell including cell transistor including control gate and charge accumulation layer |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL282779A (nl) * | 1961-09-08 | |||
US3197681A (en) * | 1961-09-29 | 1965-07-27 | Texas Instruments Inc | Semiconductor devices with heavily doped region to prevent surface inversion |
NL294370A (nl) * | 1963-06-20 | |||
GB993388A (en) * | 1964-02-05 | 1965-05-26 | Standard Telephones Cables Ltd | Improvements in or relating to semiconductor devices |
US3395320A (en) * | 1965-08-25 | 1968-07-30 | Bell Telephone Labor Inc | Isolation technique for integrated circuit structure |
-
1967
- 1967-11-04 NL NL676715014A patent/NL154061B/nl not_active IP Right Cessation
- 1967-11-04 NL NL6715013A patent/NL6715013A/xx unknown
-
1968
- 1968-10-29 DE DE1805826A patent/DE1805826C3/de not_active Expired
- 1968-10-31 AT AT1061968A patent/AT281122B/de not_active IP Right Cessation
- 1968-11-01 CH CH1631768A patent/CH483725A/de not_active IP Right Cessation
- 1968-11-01 GB GB51836/68A patent/GB1243355A/en not_active Expired
- 1968-11-01 SE SE14874/68A patent/SE354380B/xx unknown
- 1968-11-02 ES ES359847A patent/ES359847A1/es not_active Expired
- 1968-11-04 FR FR1592176D patent/FR1592176A/fr not_active Expired
- 1968-11-04 BE BE723340D patent/BE723340A/xx unknown
-
1971
- 1971-04-05 US US00131252A patent/US3839103A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-12-30 US US00213947A patent/US3772576A/en not_active Expired - Lifetime
-
1973
- 1973-06-15 JP JP48067663A patent/JPS5013633B1/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3772576A (en) | 1973-11-13 |
SE354380B (nl) | 1973-03-05 |
DE1805826B2 (de) | 1976-04-22 |
NL6715014A (nl) | 1969-05-06 |
AT281122B (de) | 1970-05-11 |
JPS5013633B1 (nl) | 1975-05-21 |
BE723340A (nl) | 1969-05-05 |
FR1592176A (nl) | 1970-05-11 |
NL6715013A (nl) | 1969-05-06 |
ES359847A1 (es) | 1970-10-01 |
CH483725A (de) | 1969-12-31 |
GB1243355A (en) | 1971-08-18 |
US3839103A (en) | 1974-10-01 |
DE1805826C3 (de) | 1978-06-01 |
DE1805826A1 (de) | 1969-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL160143C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een afgesloten neutro- nengenerator. | |
NL152114B (nl) | Werkwijze voor de vervaardiging van een meerlaagshalfgeleiderinrichting en met deze werkwijze vervaardigde halfgeleiderinrichting. | |
NL161616C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting. | |
NL156631B (nl) | Inrichting voor het vervaardigen van biaxiaal verstrekte slangfoelies. | |
NL142526B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen omvattende een halfgeleiderlichaam met nauwkeurig vastgestelde halfgeleidergebieden en afstanden daartussen. | |
NL162789C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting. | |
NL181696C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting met tenminste een halfgeleiderelement in een voor de halfgeleiderelementen gemeenschappelijk halfgeleiderlichaam. | |
NL158541B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van laminaten. | |
NL163369C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting. | |
NL143167B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van gestrekte polypropeenfoelies. | |
NL143072B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL154061B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze. | |
NL162511B (nl) | Geintegreerde halfgeleiderschakeling met een laterale transistor en werkwijze voor het vervaardigen van de geintegreerde halfgeleiderschakeling. | |
NL157749C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffect- transistor en veldeffecttransistor vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL162011B (nl) | Inrichting voor het opbouwen van een banddeel. | |
NL140101B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL154866B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting alsmede halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens de werkwijze. | |
NL146522B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van georienteerde foelies van polyethyleentereftalaat. | |
NL158298B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een gemigreerde seismische registratie, en inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze. | |
NL162710C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een ladder en een met behulp van de werkwijze vervaardigde ladder. | |
NL154945B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van katalysatorvormstukken. | |
BE750088A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting | |
NL162865B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een ritssluiting. | |
NL151558B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
NL158323C (nl) | Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderinrichting. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
V1 | Lapsed because of non-payment of the annual fee | ||
NL80 | Information provided on patent owner name for an already discontinued patent |
Owner name: PHILIPS |