NL1030796C2 - Werkwijze voor het vormen van een dwarselement voor een duwband voor een continu variabele transmissie. - Google Patents

Description

WERKWIJZE VOOR HET VORMEN VAN EEN DWARSELEMENT VOOR EEN DUWBAND VOOR EEN CONTINU VARIABELE TRANSMISSIE

De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het 5 vormen van een dwarselement dat bestemd is om deel uit te maken van een in zichzelf gesloten duwband voor een continu variabele transmissie met twee poelies voor het opspannen van de duwband, welk dwarselement twee hoofdlichaamsvlakken en een zich tussen de hoofdlichaamsvlakken uitstrekkend omtreksvlak heeft, waarbij een 10 hoofdlichaamsvlak is voorzien van hoger gelegen contactgebieden; waarin het dwarselement tijdens een stansbeweging uit basismateriaal wordt gestanst onder toepassing van een snijorgaan, een ondersteuningsorgaan en een matrijs met een opneemruimte voor het opnemen van het te stansen dwarselement, het 15 ondersteuningsorgaan en een uiteinde van het snij orgaan; en - waarin tijdens een stansbeweging het te stansen dwarselement is ingeklemd tussen het snij orgaan en het ondersteuningsorgaan die daarbij ten opzichte van de matrijs bewegen zodat het te stansen dwarselement uit het basismateriaal wordt gesneden.

20 Een duwband voor een continu variabele transmissie is algemeen bekend. Een dergelijke duwband omvat doorgaans twee oneindige, in zichzelf gesloten lintvormige dragers voor het dragen van een relatief groot aantal dwarselementen. De dwarselementen zijn beweegbaar over de gehele omtrek van de dragers aangebracht, 25 waarbij ze tijdens bedrijf in staat zijn tot het doorgeven van krachten die samenhangen met een beweging van de duwband.

In de hiernavolgende beschrijving van het dwarselement refereren de genoemde richtingen aan de situatie waarin het dwarselement deel uitmaakt van de duwband. Een lengterichting van 30 het dwarselement komt overeen met een omtreksrichting van de duwband. Een verticale of hoogterichting van het dwarselement komt overeen met een radiale richting van de duwband. Een breedterichting van het dwarselement komt overeen met een richting haaks op zowel de lengterichting als de hoogterichting. De 35 aanduiding van een willekeurig dwarselement als volgend dwarselement of vorig dwarselement ten opzichte van een aangrenzend dwarselement houdt verband met een bewegingsrichting van de duwband.

10 3 0 7 9 $ 2

Het dwarselement is in breedterichting aan weerszijden voorzien van uitsparingen voor het opnemen van de dragers. Ten behoeve van het ondersteunen van de dragers omvat het dwarselement dragervlakken. Ten behoeve van contact tussen het dwarselement en 5 poelieschijven van een poelie van een continu variabele transmissie is het dwarselement in breedterichting aan weerszijden voorzien van in de richting van de dragervlakken divergerende poelieschijf-contactvlakken. De in het hiernavolgende gebezigde begrippen "boven" en "onder" zijn gerelateerd aan de richting van divergentie; deze 10 wordt gedefinieerd als van onder naar boven.

Het dwarselement omvat in hoogterichting van onder naar boven achtereenvolgens een basisgedeelte, een nekgedeelte en een topgedeelte, waarbij de afmetingen in breedterichting van het nekgedeelte relatief klein zijn. Het basisgedeelte omvat de 15 dragervlakken en de poelieschijf-contactvlakken. In de duwband bevindt het basisgedeelte zich aan de zijde van de binnenomtrek van de duwband, terwijl het topgedeelte zich aan de zijde van de buitenomtrek van de duwband bevindt.

Het dwarselement heeft twee hoofdlichaamsvlakken, te weten 20 een voorvlak en een achtervlak, die zich in hoofdzaak evenwijdig ten opzichte van elkaar uitstrekken, in hoofdzaak haaks op de lengterichting. Het voorvlak van het dwarselement is bestemd om in de duwband aan te liggen tegen het achtervlak van een volgend dwarselement, terwijl het achtervlak van het dwarselement is 25 bestemd om in de duwband aan te liggen tegen het voorvlak van een vorig dwarselement. Voor een goed en eenduidig gedefinieerd contact is het bekend om op de hoofdlichaamsvlakken een aantal contactgebieden te definiëren, die hoger zijn gelegen dan de contactgebieden omringende delen van het respectievelijke 30 hoofdlichaamsvlak. Met andere woorden, ter plaatse van de contactgebieden is het dwarselement iets dikker dan elders.

Tussen de twee hoofdlichaamsvlakken strekt zich een omtreksvlak uit, waar de dragervlakken en de poelieschijf-contactvlakken deel van uitmaken.

35 Op het voorvlak van het dwarselement is een nop aangebracht, terwijl in het achtervlak van het dwarselement een kuil is aangebracht. De posities van de nop en de kuil corresponderen met elkaar, waarbij de nop en de kuil doorgaans op het topgedeelte 1030796 3 gepositioneerd zijn. In de duwband bevindt de nop van een willekeurig dwarselement zich althans gedeeltelijk in de kuil van een volgend dwarselement, zodat een onderlinge verschuiving van aangrenzende dwarselementen in een vlak haaks op de omtreksrichting 5 van de duwband wordt voorkomen.

Uit de Europese octrooiaanvrage met publicatienummer 1554507 is het bekend· om drie contactgebieden aan te brengen op het voorvlak van het dwarselement, waarvan er één centraal in het topgedeelte is gelegen nabij een bovenrand van het dwarselement en 10 waarvan er twee in het basisgedeelte zijn gelegen nabij de zijranden aan weerszijden daarvan. De drie contactgebieden zijn daarbij minimaal hoger gelegen dan de, de contactgebieden omringende delen van het voorvlak. Beschreven is een werkwijze waarin de drie contactgebieden worden gevormd tijdens de 15 stansbeweging door met een daartoe geschikt vormgegeven ondersteuningsorgaan de dikte van het basismateriaal buiten de contactgebieden te verminderen door materiaal weg te drukken, oftewel koud om te vormen.

De bekende werkwijze is in de praktijk minder geëigend 20 gebleken voor het vormen van met name het bovenste contactgebied in het topgedeelte van het dwarselement. Gebleken is dat de voor het wegdrukken van het basismateriaal benodigde kracht nadelig hoog kan oplopen waardoor er versnelde slijtage van het stansgereedschap optreedt. Daarnaast laat de nauwkeurigheid van het bekende 25 stansproces te wensen over, in het bijzonder indien het dit bovenste contactgebied relatief klein is en bijvoorbeeld alleen boven de genoemde nop is gedefinieerd met beperkte hoogte- en dwarsafmetingen. Dit, terwijl nu juist de nauwkeurigheid in de afmetingen van de dwarselementen van groot belang is voor het 30 functioneren van de drijfriem. In het bijzonder is het belangrijk dat de dikte van zowel een enkelvoudig dwarselement als de afzonderlijke dwarselementen in de drijfriem ter plaatse van de drie contactgebieden zo goed mogelijk constant en reproduceerbaar is en dat de dikte van de dwarselementen buiten die gebieden 35 betrouwbaar kleiner is, zodat de dwarselementen zich goed gedefinieerd, parallel en recht achter elkaar in de duwband kunnen opstellen.

1030796 4

Een belangrijk doel van de uitvinding is het verbeteren van het stansproces in relatie tot de daarin optredende krachten en de nauwkeurigheid van de afmetingen van de dwarselementen.

Daartoe verschaft de uitvinding de werkwijze voor het vormen 5 van een dwarselement volgens de conclusie 1, waarbij het basismateriaal ter plaatse van het lager gelegen gebied dus dunner is dan daarbuiten. Een belangrijk voordeel van een dergelijke nieuwe opzet van het basismateriaal is, dat tijdens de stansbeweging veel minder materiaal door het ondersteuningsorgaan 10 moet worden weggedrukt. Hierdoor kan de benodigde, tussen het snijorgaan en het ondersteuningsorgaan uit te oefenen klemkracht in een aanzienlijke mate kan worden gereduceerd, hetgeen ten goede komt aan zowel de standtijd van het gereedschap als aan de nauwkeurigheid van het stansproces. Bij voorkeur bevindt een 15 onderrand van het lager gelegen gebied zich daarbij in het nekgedeelte van het te stansen dwarselement, zodat er tijdens de stansbeweging een minimale hoeveelheid materiaal wordt weggedrukt.

Volgens de uitvinding is een bovenrand van het lager gelegen gebied bij voorkeur zodanig in het basismateriaal gepositioneerd, 20 dat er tussen dit gebied en de respectievelijke contactgebieden nog een hoeveelheid basismateriaal dient te worden weggedrukt tijdens de stansbeweging. Een dergelijke opzet van het basismateriaal heeft als voordeel dat de nauwkeurigheid waarmee het bovenste contactgebied wordt gevormd niet, althans niet in hoofdzaak, 25 afhankelijk is van de nauwkeurigheid waarmee enerzijds het lager gelegen gebied in het basismateriaal kan worden aangebracht, of waarmee anderzijds het basismateriaal tussen het snijorgaan en het ondersteuningsorgaan kan worden geplaatst.

30 De uitvinding zal nader worden toegelicht aan de hand van de hiernavolgende beschrijving van de uitvinding onder verwijzing naar de tekening, waarin gelijke verwijzingscijfers gelijke of vergelijkbare onderdelen aanduiden, en waarin: figuur 1 schematisch een zijaanzicht toont van een continu 35 variabele transmissie met duwband; figuur 2 een vooraanzicht toont van een dwarselement voor een duwband voor een continu variabele transmissie; 1030796 5 figuur 3 een zijaanzicht toont van het in figuur 2 getoonde dwarselement; figuur 4 een schematische weergave vormt van een bekende stansinrichting voor de productie van dwarselementen; 5 figuur 5 een zogenaamd ondersteuningsorgaan van de bekende stansinrichting schematisch weergeeft; figuur 6 een strook basismateriaal voor toepassing in de werkwijze voor het vormen van een dwarselement volgens de uitvinding toont; en 10 figuur 7 schematisch een eerste en een tweede detail van een mogelijke opzet van de werkwijze volgens de uitvinding toont.

Figuur 1 toont schematisch een continu variabele transmissie, zoals voor gebruik in een motorvoertuig. De continu variabele 15 transmissie is in zijn algemeenheid aangeduid met het verwijzingscijfer 1.

De continu variabele transmissie 1 omvat twee op afzonderlijke poelie-assen 2, 3 aangebrachte poelies 4, 5. Een oneindige, in zichzelf gesloten duwband 6 is om de poelies 4, 5 20 aangebracht en dient voor het overdragen van koppel tussen de poelie-assen 2, 3. Elk van de poelies 4, 5 omvat twee poelieschijven, waarbij de duwband 6 tussen deze twee poelieschijven is gepositioneerd en ingeklemd, zodat met behulp van wrijving een kracht tussen de poelies 4, 5 en de duwband 6 kan 25 worden overgedragen.

De bekende duwband 6 omvat twee oneindige dragers 7, beide opgebouwd uit een aantal concentrische ringen. Over de gehele lengte van de dragers 7 zijn dwarselementen 10 aangebracht, waarbij de dwarselementen 10 onderling tegen elkaar aanliggen en in 30 omtreksrichting beweegbaar ten opzichte van de dragers 7 zijn. Ter wille van de eenvoud is in figuur 1 slechts een aantal van deze dwarselementen 10 getoond.

Figuren 2 en 3 tonen het dwarselement 10, respectievelijk in voor- en in zijaanzicht. Een voorvlak van het dwarselement 10 is in 35 zijn algemeenheid aangeduid met het verwijzingscijfer 11, terwijl een achtervlak van het dwarselement 10 in zijn algemeenheid is aangeduid met het verwijzingscijfer 12. In het hiernavolgende wordt 1030/96 6 zowel het voorvlak 11 als het achtervlak 12 ook wel aangeduid als hoofdlichaamsvlak 11, 12.

Het dwarselement 10 omvat in hoogterichting achtereenvolgens een basisgedeelte 13, een relatief smal nekgedeelte 14 en een min 5 of meer pijlpuntvormig topgedeelte 15. In de duwband 6 bevindt het basisgedeelte 13 zich aan de zijde van de binnenomtrek van de duwband 6, terwijl het topgedeelte 15 zich aan de zijde van de buitenomtrek van de duwband 6 bevindt. Het dwarselement 10 definieert twee uitsparingen 16 aan weerszijden van het nekgedeelte 10 14 tussen het basisgedeelte 13 en het topgedeelte 15, elk bestemd voor het opnemen van een drager 7 van de drijfriem 6.

Op het voorvlak 11 van het dwarselement 10 is een nop 17 aangebracht. De nop 17 bevindt zich in het getoonde voorbeeld op het topgedeelte 15 en correspondeert met een kuil 18 in het 15 achtervlak 12. De kuil 18 is in figuur 3 met een streeplijn weergegeven. In de duwband 6 bevindt de nop 17 van het dwarselement 10 zich althans gedeeltelijk in de kuil 18 van een voorgaand dwarselement 10. De nop 17 en de corresponderende kuil 18 dienen om onderlinge verschuiving van aangrenzende dwarselementen 10 in een 20 vlak haaks op de omtreksrichting van de duwband 6 te voorkomen, althans te beperken.

Op het voorvlak 11 van het dwarselement 10 in het basisgedeelte 13 daarvan is tevens een zogenaamde kantellijn 19 aangebracht in de vorm van een afgeronde rand, die een overgang 25 vormt tussen twee onder een kleine hoek ten opzichte van elkaar gelegen delen van het voorvlak 11. Daarnaast is in het basisgedeelte 13 een zogenaamde trap 20 aangebracht, die een overgang vormt tussen twee delen van het basisgedeelte met een onderscheidenlijke dikte. De kantellijn 19 en de trap 20 maken een 30 onderling kantellen van twee aangrenzende dwarselement 10 mogelijk.

Op het voorvlak 11 zijn verder hoger gelegen contactgebieden 22, 21a, 21b gedefinieerd, die in figuur 2 als gearceerde vlakken zijn weergegeven. Ter plaatse van die contactgebieden 22, 21a, 21b is de dikte van het dwarselement 10 grotere dan daarbuiten. De 35 contactgebieden 22, 21a, 21b dienen voor het tot stand brengen van contact van het dwarselement 10 met een aangrenzend dwarselement 10 in een duwband 6 op gecontroleerde en nauwkeurig gedefinieerde wijze. Een eerste oftewel bovenste contactgebied 22 bevindt zich op 1030796 7 het topgedeelte 15 van het dwarselement 10 en is boven de nop 17 daarvan gesitueerd. Tweede oftwel onderste contactgebieden 21a, 21b bevinden zich op het basisgedeelte 13 van het dwarselement 10 aan weerszijden daarvan.

5 Het bekende dwarselement 10 wordt doorgaans in een stansproces uitgesneden en gevormd, welk stansproces bijvoorbeeld is beschreven in de reeds genoemde publicatie EP-A-1554507. De figuur 4 illustreert de daaruit bekende stansinrichting in doorsnede. In de figuur is een deel 51 van het dwarselement 10, 10 bijvoorbeeld het nekgedeelte 14, in doorsnede zichtbaar, zoals dat uit het een strook basismateriaal 52 wordt gesneden tijdens de stansbeweging. Hiertoe is het basismateriaal 52 ingeklemd tussen klemdelen 35, 45 van de stansinrichting, ofwel tussen een leiplaat 35 (Engels: "guide plate") en een matrijs 45 (Engels: "cutting 15 die") van de stansinrichting. Het te vormen dwarselement 10 inclusief het deel 51 daarvan is daarbij ingeklemd tussen een snijorgaan 30 (Engels: "punch") en een zogenaamde uitwerper oftewel ondersteuningsorgaan 40 (Engels: "ejector"). De kracht waarmee de ondersteuningsorgaan 40 tegen het dwarselement 10 duwt is beduidend 20 kleiner dan die van de snijorgaan 30, zodat het geheel van snijorgaan 30, ondersteuningsorgaan 40 en dwarselement 10 ten opzichte van de klemdelen 35, 45 naar beneden beweegt, zodanig dat het dwarselement 16 door de randen van de matrijs 45 uit basismateriaal 52 wordt gesneden.

25 De genoemde drie contactgebieden 22, 21a, 21b op het voorvlak 10 van het dwarselement 10 worden gevormd tijdens de stansbeweging door de dikte van het basismateriaal 52 buiten de contactgebieden 22, 21a, 21b te reduceren. Daartoe wordt op die plaatsen (extra) druk uitgeoefend met een daartoe geschikt vormgegeven 30 ondersteuningsorgaan 40, zodat lokaal het materiaal in eniger mater wordt verdrongen, waarbij het te verdringen materiaal wegvloeit naar, bijvoorbeeld, de randen van het dwarselement 10. Het naar het te vormen dwarselement 10 gerichte werkvlak 41 van het ondersteuningsorgaan 40 is daartoe ter plaatse van de te verdringen 35 delen van het dwarselement 10 voorzien van hoger gelegen werkvlakdelen 41a, terwijl de werkvlakdelen 41b ter plaatse van de te vormen contactgebieden 22, 21a, 21b lager zijn gelegen. Een op deze wijze vormgegeven ondersteuningsorgaan 40 is in de figuur 5 in 1030796 8 een perspectivisch aanzicht op schematische wijze weergegeven. Omwille van de eenvoud zijn de eveneens te vormen kantellijn 19 en trap 20 niet verwerkt in de figuur.

Gebleken is ondermeer, dat de voor het bekende stansproces 5 benodigde krachten ongewenst hoog zijn en dat de nauwkeurigheid van het bekende stansproces in de praktijk te wensen overlaat, in het bijzonder ten aanzien van de dikte van de tussen de contactgebieden 22, 21a en 21b gelegen dunnere gebieden van het dwarselement 10. Conform het inzicht dat aan de onderhavige uitvinding ten grondslag 10 ligt worden de voornoemde problemen tenminste mede veroorzaakt door de relatief grote hoeveelheid materiaal dat dient te worden verdrongen tijdens de stansbeweging, hetgeen wordt geïllustreerd dóór de grote oppervlakteverhouding tussen de hoger gelegen delen 41a en de lager gelegen delen 41b van het werkvlak 41 van het 15 ondersteuningsorgaan 40.

Volgens de uitvinding kan een belangrijke verbetering worden bereikt door in het oppervlak van het basismateriaal 52 een lager gelegen gebied 53 te voorzien, ter plaatse waarvan het basismateriaal 52 dus van een geringere dikte is voorzien dan 20 daarbuiten, en wel zodanig dat dit lager gelegen gebied 53 zich tussen het bovenste contactgebied 22 en de onderste contactgebieden 21a, 21b van het te stansen dwarselement 10 bevindt. Een belangrijk voordeel van een dergelijke nieuwe opzet van het basismateriaal 52 is dat tijdens de stansbeweging veel minder materiaal door het 25 ondersteuningsorgaan 40 moet worden weggedrukt. Een dergelijke opzet van het basismateriaal 52 is geïllustreerd in de figuur 6.

De figuur 6 toont een strook basismateriaal 52 zowel in doorsnede (figuur A) als in bovenaanzicht (figuur B) . In het bovenaanzicht (figuur B) is tevens de contour 54 van reeds uit de 30 strook 52 gestanste dwarselementen 10 zichtbaar, alsmede de posities 55 van de dwarselementen 10 die worden gestanst in één stansbeweging. In dit voorbeeld worden op vier posities 55 gelijktijdig gestanst, waarbij er telkens twee dwarselementen 10 tegenover elkaar zijn gelegen. Na elke stansbeweging worden de 35 gestanste dwarselementen 10 verwijderd en wordt de strook basismateriaal 52 tussen het snijorgaan 30 en het ondersteuningsorgaan 40 door opgeschoven (van links naar rechts in de figuur 6B), zodat er in een volgende stansbeweging weer nieuwe 1030796 9 dwarselementen 10 uit de strook basismateriaal 52 kunnen worden gestanst.

In de figuur 6 is te zien dat er een lager gelegen, i.c. strookvormig, gebied 53 in het oppervlak van het basismateriaal 52 5 is voorzien, alwaar de dikte van het basismateriaal 52 geringer is dan daarbuiten, en welk gebied 53 aan weerszijden grenst aan hoger gelegen, dikkere gebieden 56 van het basismateriaal 52. Het lager gelegen gebied 53 bevindt zich juist onder het bovenste contactgebied 22 van het te stansen dwarselement 10. In de figuur 10 6, strekt het lager gelegen gebied 53 zich uit tot ongeveer halverwege het nekgedeelte 14 van het dwarselement 10. Volgens de uitvinding dient het lager gelegen gebied 53 daarbij ongeveer 1 mm van het basisgedeelte 13 verwijderd te blijven ten behoeve van de op het ondersteuningsorgaan 40 werkende krachtenbalans tijdens de 15 stansbeweging. Volgens de uitvinding bevindt het lager gelegen gebied 53 zich bij voorkeur rond de 0.05 mm onder de hoger gelegen gebieden 56, d.w.z. ter plaatse van het lager gelegen gebied 53 is het basismateriaal 52 zo'n 0.05 mm dunner dan daarnaast.

Bovendien is het volgens de uitvinding van voordeel dat het 20 lager gelegen gebied 53 zodanig in het basismateriaal 52 is gepositioneerd, dat er tussen dit gebied 53 en het bovenste contactgebied 22 nog een strook 57 van het basismateriaal 52 dient te worden weggedrukt tijdens de stansbeweging. Een dergelijke opzet van het stansproces is geïllustreerd in de figuur 7, welke op 25 schematische wijze en in doorsnede een deel van het ondersteuningsorgaan 40 alsmede van het te stansen basismateriaal 52 laat zien.

De getoonde werkwijze heeft als voordeel dat de nauwkeurigheid waarmee het bovenste contactgebied 22 wordt gevormd 30 niet, althans niet in hoofdzaak, afhankelijk is van de nauwkeurigheid waarmee enerzijds het lager gelegen gebied 53 in het basismateriaal 52 kan worden aangebracht, of waarmee anderzijds het basismateriaal 52 tussen het snij orgaan 30 en het ondersteuningsorgaan 40 kan worden gepositioneerd. Volgens de 35 uitvinding is een afstand tussen het hoger gelegen deel 41a van het werkvlak 41 van het ondersteuningsorgaan 40 en het lager gelegen gebied 53 in het basismateriaal 52 van ongeveer 0.1 mm daartoe afdoende.

1030796 10

Tenslotte wordt opgemerkt, dat er, zoals overigens beoogd met de toepassing van het lager gelegen gebied 53, beduidend minder materiaalvloei optreedt tijdens de stansbeweging. In het bijzonder ook in het voorvlak 11 van het dwarselement 10 op en nabij de 5 locatie waar de nop 17 wordt gevormd door samenwerking tussen een vanuit het snijorgaan naar het basismateriaal 52 gerichte pin (niet weergegeven) en een uitsparing 42 (eveneens weergegeven in de figuur 5) in het ondersteuningsorgaan 40. In de praktijk is gebleken dat de nop 17 zich daardoor minder makkelijk laat vormen, 10 althans dat er aan het achtervlak 12 rondom de kuil 18 een materiaal tekort kan optreden waardoor er aldaar een ongewenste verdunning van het dwarselement 10 ontstaat, die zich daarbij over een relatief groot oppervlak uitstrekt. De onderhavige uitvinding voorziet derhalve in een aanvullende verbetering van de werkwijze 15 voor het vormen van een dwarselement, welke eveneens is geïllustreerd in de figuur 7.

Conform de uitvinding is het ondersteuningsorgaan 40 rondom de nopvormende uitsparing 42 van een, i.c. ringvormige verdikking 43 voorzien. Met behulp van deze verdikking 43 wordt plaatselijk, 20 d.w.z. langs de omtrek van de te vormen nop 17 alsnog materiaalvloei in het lager gelegen gebied 53 van het basismateriaal 52 opgewekt, waarbij een hoeveelheid materiaal wordt weggedrukt dat de vorming van de nop 17 kan ondersteunen. Bij voorkeur wordt met de verdikking 43 een zodanige hoeveelheid van 25 het basismateriaal 52 weggedrukt dat het achtervlak 12 van het dwarselement 10 rondom de kuil 18 nagenoeg vlak blijft. Bij voorkeur is de buitendiameter van de ringvormige verdikking 43 daartoe zodanig gekozen dat deze zich in het stansproces tot voorbij het lager gelegen gebied 53 in het basismateriaal 52 30 uitstrekt (niet weergegeven).

10 3 0 7 9 6

Claims (5)

1. Werkwijze voor het vormen van een dwarselement (10) dat bestemd is om deel uit te maken van een in zichzelf gesloten 5 duwband (6) voor een continu variabele transmissie (1) met twee poelies (4, 5) voor het opspannen van de duwband (6) , welk dwarselement (10) twee hoofdlichaamsvlakken (11, 12) en een zich tussen de hoofdlichaamsvlakken uitstrekkend omtreksvlak heeft en in hoogte richting is opgebouwd uit een basisgedeelte (13), een 10 smaller nekgedeelte (14) en een topgedeelte (15), waarbij een hoofdlichaamsvlak (11; 12) in het topgedeelte (15) van het dwarselement (10) is voorzien van een hoger gelegen bovenste contactgebied (22) en waarbij een hoofdlichaamsvlak (11; 12) in het basisgedeelte (13) van het dwarselement (10) is voorzien van een 15 hoger gelegen onderste contactgebied (21a; 21b); - waarin het dwarselement (10) tijdens een stansbeweging uit basismateriaal (52) wordt gestanst onder toepassing van een snijorgaan (30), een ondersteuningsorgaan (40) en een matrijs (45) met een opneemruimte voor het opnemen van het te stansen 20 dwarselement (51; 10), het ondersteuningsorgaan (40) en een uiteinde van het snijorgaan (3 0) , - en waarin tijdens een stansbeweging het te stansen dwarselement (51; 10) is ingeklemd tussen het snijorgaan (30) en het ondersteuningsorgaan (40) die daarbij ten opzichte van de matrijs 25 (45) bewegen, waarbij het te stansen dwarselement (51; 10) uit het basismateriaal (52) wordt gesneden, met het kenmerk, dat het oppervlak van het basismateriaal (52) is voorzien van een lager gelegen gebied (53) dat zich uitstrekt tussen het bovenste contactgebied (22) en het onderste contactgebied (21a; 21b) van het 30 te stansen dwarselement (51; 10).

2. Werkwijze volgens de conclusie 1, met het kenmerk, dat het lager gelegen gebied (53) strookvorming in de langsrichting van een strook van het basismateriaal (52) is voorzien. 35

3. Werkwijze volgens de conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat een dwarsafmeting van het lager gelegen gebied (53) in de hoogte richting van het te stansen dwarselement (51; 10) kleiner is dan 1030796 een afstand tussen het bovenste contactgebied (22) en het onderste contactgebied (21a; 21b) in die richting, waarbij er aan weerszijden van het lager gelegen gebied (53) nog een hoeveelheid van het basismateriaal (52) dient te worden weggedrukt tijdens de 5 stansbeweging.

4. Werkwijze volgens de conclusie 1, 2 of 3, met het kenmerk, dat het lager gelegen gebied (53) zich uitstrekt tot in het nekgedeelte (14) van het te stansen dwarselement (51; 10). 10

5. Werkwijze volgens één der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat een naar het te stansen dwarselement (51; 10) gerichte werkvlak (41) van het ondersteuningsorgaan (40) is voorzien van een uitsparing (42) langs de buitenomtrek waarvan het 15 ondersteuningsorgaan (40) is voorzien van een verdikking (43), die tenminste boven omringende delen (41a) van het werkvlak (41) uitsteekt. 1030796