NL1027808C2 - Werkwijze voor het vormen van een dwarselement voor een duwband voor een continu variabele transmissie. - Google Patents

Description

• ·

Titel: Werkwijze voor het vormen van een dwarselement voor een duwband voor een continu variabele transmissie

De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het vormen van een dwarselement dat bestemd is om deel uit te maken van een in zichzelf gesloten duwband voor een continu variabele transmissie met twee poelies voor het opspannen van de duwband, welk dwarselement 5 twee hoofdlichaamsvlakken en een zich tussen de hoofdlichaamsvlakken uitstrekkend omtreksvlak heeft, waarbij het omtreksvlak twee aan weerszijden van het dwarselement gelegen poelieschijf-contactvlakken voor het tot stand brengen van contact tussen het dwarselement en poelieschijven van een poelie van de continu variabele transmissie 10 omvat; waarbij het dwarselement tijdens een stansbeweging uit basismateriaal wordt gestanst onder toepassing van een snijorgaan, een ondersteuningsorgaan en een matrijs met een opneemruimte voor het opnemen van het te stansen dwarselement, het ondersteuningsorgaan en 15 een uiteinde van het snij orgaan; waarbij tijdens een stansbeweging het te stansen dwarselement is ingeklemd tussen het snij orgaan en het ondersteuningsorgaan, waarbij het snijorgaan, het te stansen dwarselement en het ondersteuningsorgaan enerzijds en de matrijs anderzijds ten opzichte van elkaar 2 0 worden bewogen; waarbij twee profielflanken van de matrijs, die deel uitmaken van een binnenoppervlak van de opneemruimte in de matrijs, zijn voorzien van een profiel om een vooraf gedefinieerd profiel in de poelieschij f -contactvlakken van het dwarselement te vormen; 25 waarbij het profiel in de profielflanken van de matrijs een patroon van om en om gelegen ribbels en groeven omvat, die zich uitstrekken in een richting die overeenkomt met een richting waarin het snijorgaan, het te stansen dwarselement en het ondersteuningsorgaan enerzijds en de matrijs anderzijds tijdens een stansbeweging ten 30 opzichte van elkaar worden bewogen.

Een duwband voor een continu variabele transmissie is algemeen bekend. Een dergelijke duwband omvat doorgaans twee oneindige, in 1027808

• I

2 zichzelf gesloten lintvormige dragers voor het dragen van een relatief groot aantal dwarselementen. De dwarselementen zijn beweegbaar over de gehele omtrek van de dragers aangebracht, waarbij ze tijdens bedrijf in staat zijn tot het doorgeven van krachten die 5 samenhangen met een beweging van de duwband.

In de hiernavolgende beschrijving van het dwarselement refereren de genoemde richtingen aan de situatie waarin het dwarselement deel uitmaakt van de duwband. Een lengterichting van het dwarselement komt overeen met een omtreksrichting van de duwband.

10 Een hoogterichting van het dwarselement komt overeen met een radiale richting van de duwband. Een breedterichting van het dwarselement komt overeen met een richting haaks op zowel de lengterichting als de hoogterichting. De aanduiding van een willekeurig dwarselement als volgend dwarselement of vorig dwarselement ten opzichte van een 15 aangrenzend dwarselement houdt verband met een bewegingsrichting van de duwband.

Het dwarselement is in breedterichting aan weerszijden voorzien van uitsparingen voor het opnemen van de dragers. Ten behoeve van het ondersteunen van de dragers omvat het dwarselement drager-20 vlakken. Ten behoeve van contact tussen het dwarselement en poelie-schijven van een poelie van een continu variabele transmissie is het dwarselement in breedterichting aan weerszijden voorzien van in de richting van de dragervlakken divergerende poelieschijf-contact-vlakken. De in het hiernavolgende gebezigde begrippen "boven" en 25 "onder" zijn gerelateerd aan de richting van divergentie; deze wordt gedefinieerd als van onder naar boven.

Het dwarselement omvat in hoogterichting van onder naar boven achtereenvolgens een basisgedeelte, een nekgedeelte en een top-gedeelte, waarbij de afmetingen in breedterichting van het nek-30 gedeelte relatief klein zijn. Het basisgedeelte omvat de dragervlakken en de poelieschijf-contactvlakken. In de duwband bevindt het basisgedeelte zich aan de zijde van de binnenomtrek van de duwband, terwijl het topgedeelte zich aan de zijde van de buitenomtrek van de duwband bevindt.

35 Het dwarselement heeft twee hoofdlichaamsvlakken, te weten een voorvlak en een achtervlak, die zich in hoofdzaak evenwijdig ten opzichte van elkaar uitstrekken, in hoofdzaak haaks op de lengterichting. Ten minste een gedeelte van het voorvlak van het dwarselement is bestemd om in de duwband aan te liggen tegen ten minste 40 een gedeelte van het achtervlak van een volgend dwarselement, 1027808 3 terwijl ten minste een gedeelte van het achtervlak van het dwars-element is bestemd om in de duwband aan te liggen tegen ten minste een gedeelte van het voorvlak van een vorig dwarselement. Tussen de twee hoofdlichaamsvlakken strekt zich een omtreksvlak uit, waar de 5 dragervlakken en de poelieschijf-contactvlakken deel van uitmaken.

Op het voorvlak van het dwarselement is een nop aangebracht, terwijl in het achtervlak van het dwarselement een kuil is aangebracht. De posities van de nop en de kuil corresponderen met elkaar, waarbij de nop en de kuil doorgaans op het topgedeelte 10 gepositioneerd zijn. In de duwband bevindt de nop van een willekeurig dwarselement zich althans gedeeltelijk in de kuil van een volgend dwarselement, zodat een onderlinge verschuiving van aangrenzende dwarselementen in een vlak haaks op de omtreksrichting van de duwband wordt voorkomen.

15

Voor optimaal contact met de poelieschijven hebben de poelie-schijf-contactvlakken van het dwarselement een profiel dat zich in de lengterichting uitstrekt, en dat bijvoorbeeld gegolfd of getand kan zijn. Het profiel dient o.a. voor het tegengaan van de vorming 20 van een oliefilm tussen de poelieschijf-contactvlakken van het dwarselement en de poelieschijven, waardoor slippen van de duwband ten opzichte van de poelies wordt voorkomen. Een ander gunstig effect van de toepassing van een profiel op de poelieschijf-contactvlakken van het dwarselement is dat geringe onderlinge verschillen 25 in de afmetingen van de dwarselementen van een duwband tijdens het inlopen van duwband en poelies kunnen verminderen, doordat het profiel het mogelijk maakt dat een geringe slijtage van de poelieschij f -contactvlakken plaatsvindt op plaatsen waar de verschillen het grootste zijn. Met andere woorden, poelies en duwband kunnen op 30 elkaar "inslijten", waarna goede grip tussen de poelieschijf-contactvlakken van de dwarselementen van de duwband en de poelieschijven resulteert, en de duwband uitermate stabiel over de poelies geleid wordt.

Wanneer het profiel op de poelieschijf-contactvlakken van het 35 dwarselement bijvoorbeeld gegolfd of getand is, dan omvat het profiel in feite een afwisselend patroon van om en om gelegen ribbels en groeven, waarbij toppen van ribbels initieel een relatief klein oppervlak hebben, en derhalve bij contact met een poelieschijf relatief gemakkelijk enigszins kunnen afslijten, waardoor maat-40 afwijkingen tussen de verschillende dwarselementen in de duwband 1027808

• I

4 worden genivelleerd. In EP 0 994 275 is een aantal op de poelie-schijf-contactvlakken van dwarselementen aangebrachte profielen beschreven, waarbij als voorkeursuitvoeringsvorm een sinusvormig profiel is voorgesteld.

5

Het dwarselement wordt door middel van een stansproces vervaardigd uit plaatvormig basismateriaal. Bij het stansproces worden een snij orgaan en een ondersteuningsorgaan toegepast, waarbij het snij orgaan is bestemd om het dwarselement uit het basismateriaal 10 te snijden onder invloed van een snijkracht, en waarbij het ondersteuningsorgaan is bestemd om het dwarselement tijdens het stansproces te ondersteunen met een ondersteuningskracht en tevens het voorvlak van het dwarselement te vormen door middel van een proces van koude omvorming. De omtrek van zowel het ondersteuningsvlak als 15 het snijvlak is in hoofdzaak gelijk aan de omtrek van het dwarselement. Tijdens het stansproces dringt het snijorgaan onder druk door het basismateriaal, waarbij een onderlinge beweging van het te stansen dwarselement en het basismateriaal wordt toegestaan. Het te stansen dwarselement is dan ingeklemd tussen het snijorgaan en het 20 ondersteuningsorgaan.

Voorts wordt bij het stansproces een matrijs toegepast, die is voorzien van een opneemruimte voor het opnemen van het te stansen dwarselement, het ondersteuningsorgaan en een uiteinde van het snijorgaan. De binnenomtrek van de opneemruimte correspondeert in 25 hoofdzaak met de omtrek van zowel het snijorgaan, het ondersteuningsorgaan en het te stansen dwarselement, zodat de opneemruimte in staat is om het snijorgaan, het ondersteuningsorgaan en het te stansen dwarselement met een uiterst geringe speling op te nemen.

3°

Bij het stansproces worden de vorm en de afmetingen van elk van de poelieschijf-contactvlakken van het dwarselement bepaald door een profielflank van de matrijs. Het gewenste profiel op een poelieschij f-contactvlak wordt bepaald door een profiel op een profiel-35 flank die bestemd is voor het vormen ervan, waarbij het profiel op de profielflank als negatief kan worden beschouwd van het profiel dat als positief op het poelieschijf-contactvlak wordt gevormd.

Zoals reeds eerder opgemerkt, is het profiel op de poelieschijf-contactvlakken volgens de stand van de techniek getand of gegolfd, 40 en bij voorkeur sinusvormig in een richting in hoofdzaak haaks op de 1027808 5 lengterichting. Het profiel op de profielflanken van de matrijs is derhalve eveneens getand of gegolfd, en bij voorkeur sinusvormig in een richting in hoofdzaak haaks op een richting waarin de beweging plaatsvindt die het dwarselement en de matrijs tijdens het stans-5 proces ten opzichte van elkaar maken, en die hiernavolgend zal worden aangeduid als stansbewegingsrichting. Anders gezegd zijn de profielflanken van de matrijs voorzien van om en om gelegen ribbels en groeven, die zich in de stansbewegingsrichting parallel ten opzichte van elkaar uitstrekken.

10

Nauwkeurigheid in de afmetingen van de dwarselementen is van groot belang. In het bijzonder is het belangrijk dat de dikte van een dwarselement, dat wil zeggen de afmeting van het dwarselement in lengterichting, in breedterichting zoveel mogelijk constant is, en 15 dat de posities van de noppen en kuilen op alle dwarselementen gelijk zijn, zodat de dwarselementen zich zo goed mogelijk parallel en recht achter elkaar in de duwband kunnen opstellen.

Diverse onderdelen van een stansinrichting voor het vervaardigen van dwarselementen zijn beweegbaar ten opzichte van 20 elkaar opgesteld. Wanneer de matrijs en het ondersteuningsorgaan ten opzichte van elkaar bewegen, vindt geleiding van het ondersteuningsorgaan mede langs de profielflanken van de matrijs plaats. Aangezien de profielflanken zijn voorzien van een getand of gegolfd, bij voorkeur sinusvormig profiel is het contact tussen het onder-25 steuningsorgaan en de matrijs beperkt tot contactlijnen tussen de toppen van de ribbels van de profielflanken en het ter plaatse vlakke ondersteuningsorgaan.

Gedurende een eerste fase van het stansproces wordt de druk op het snijorgaan en het ondersteuningsorgaan gelijkelijk verhoogd, en 30 vindt op de hoofdlichaamsvlakken van het dwarselement een koude omvorming plaats, ten behoeve van de vorming van o.a. de nop en de kuil van het dwarselement. Ten gevolge van de krachten waaraan het dwarselement tijdens het stansproces onderworpen is, kan het voorkomen dat het dwarselement een neiging tot kantelen ondervindt. Bij 35 een kanteling drukt het ondersteuningsorgaan tegen de profielflanken van de matrijs, waarbij de druk op de toppen van de ribbels van de profielflanken zodanig hoog kan worden, dat een lokale elastische vervorming, ook wel Hertze invering genoemd, van het profiel op de profielflanken optreedt. Hierdoor wordt de stijfheid van de 40 geleiding van het ondersteuningsorgaan in de opneemruimte van de 1027808 6 matrijs verminderd, met als gevolgen dat de posities van de nop en de kuil minder eenduidig zijn gedefinieerd, en dat de dikte van het dwarselement mogelijk niet gelijk is over de breedte van het dwars-element, zodat de diverse dwarselementen mogelijk niet exact 5 parallel en recht achter elkaar liggen wanneer ze opgenomen zijn in een duwband. Deze afwijkingen kunnen bij toepassing van de duwband in een continu variabele transmissie leiden tot extra ongewenste slijtage en belasting van de dwarselementen, met mogelijk breuk als gevolg.

10

Een belangrijk doel van de uitvinding is het verbeteren van de nauwkeurigheid van de afmetingen van de dwarselementen in het algemeen, en van de dikte van een dwarselement en de posities van de nop en de kuil op het dwarselement in het bijzonder. Daartoe 15 verschaft de uitvinding een werkwijze voor het vormen van een dwarselement, waarbij een topdeel van de ribbels van het profiel in de profielflanken van de toegepaste matrijs in hoofdzaak vlak is, en waarbij een daldeel van de groeven van dit profiel concaaf gekromd is.

20 Een voordeel van de toepassing van de werkwijze volgens de uitvinding is dat een groter contactoppervlak tussen het onder-steuningsorgaan en de profielflanken van de matrijs gerealiseerd wordt, zodat de druk op de topdelen van de ribbels kleiner wordt bij gelijkblijvende krachten op het ondersteuningsorgaan. Een kleinere 25 druk leidt tot minder of geen Hertze invering van de ribbels en dus tot een geringere kanteling van het ondersteuningsorgaan. In zijn algemeenheid leidt het toepassen van een profiel op de profiel-flanken van de matrijs met een hoofdzaak vlak topdeel van de ribbels tot verminderde elasticiteit van de profielflanken en daarmee tot 30 een grotere vormvastheid van de opneemruimte van de matrijs en een stijvere constructie van de stansinrichting.

Door de maatregelen van de onderhavige uitvinding kunnen dwarselementen met een grotere nauwkeurigheid worden gestanst. In het bijzonder wordt bereikt dat de nop- en kuilposities beter 35 gedefinieerd zijn, en dat elk dwarselement een gelijkmatiger dikte heeft. Hierdoor zullen de onderlinge posities en de parallelliteit van de dwarselementen in een duwband beter zijn, hetgeen verdere voordelen voor toepassing in een continu variabele transmissie met zich meebrengt, zoals geringere slijtage, efficiëntere overbrenging, 40 hogere maximale belasting, langere levensduur, etc.

1027808 7

Een bijkomend voordeel van het profiel met de ribbels met de in hoofdzaak vlakke topdelen is een verhoogde slijtvastheid van de matrijs. Door geringere lokale drukken op het binnenoppervlak van de opneemruimte van de matrijs zal de matrijs minder snel slijten, en 5 langer met de minimaal vereiste nauwkeurigheid in de stansinrichting kunnen worden gebruikt.

Naast de genoemde voordelen is het mogelijk het profiel op de poelieschijf-contactvlakken van het dwarselement zodanig te vormen, dat topdelen van de ribbels van dit profiel afgerond zijn, en 10 bijvoorbeeld in hoofdzaak sinusvormig zijn. Een dergelijke vorm van de topdelen van de ribbels komt het reeds beschreven inlopen van de duwband op de poelies ten goede. De afgeronde vorm van de topdelen van de ribbels van het profiel op de poelieschijf-contactvlakken van het dwarselement wordt volgens de uitvinding bereikt doordat een 15 daldeel van de groeven van het profiel in de profielflanken van de matrijs die tijdens het stansen van het dwarselement wordt toegepast, concaaf gekromd is.

In een richting haaks op de stansbewegingsrichting is een verhouding tussen een onderlinge afstand tussen de in hoofdzaak 20 vlakke topdelen van de ribbels van het profiel in de profielflanken van de matrijs en een afmeting van de in hoofdzaak vlakke topdelen bij voorkeur 2:1. Met een dergelijk profiel wordt tijdens het stansproces van het dwarselement een goede geleiding van het onder-steuningsorgaan in de matrijs gerealiseerd, terwijl tevens een 25 geschikt profiel in de poelieschijf-contactvlakken van het dwarselement verkregen wordt.

Voorts heeft het de voorkeur wanneer de daldelen van de groeven van het profiel in de profielflanken van de matrijs in een richting haaks op de stansbewegingsrichting in hoofdzaak volgens een sinus 30 gekromd zijn, omdat met een dergelijk profiel in hoofdzaak sinusvormige toppen van het profiel op de poelieschijf-contactvlakken van het dwarselement worden verkregen.

De uitvinding zal nader worden toegelicht aan de hand van de 35 hiernavolgende beschrijving van de uitvinding onder verwijzing naar de tekening, waarin gelijke verwijzingscijfers gelijke of vergelijkbare onderdelen aanduiden, en waarin: figuur 1 schematisch een zijaanzicht toont van een continu variabele transmissie met duwband; 1027808 8 figuur 2 een vooraanzicht toont van een dwarselement voor een duw-band voor een continu variabele transmissie; figuur 3 een zijaanzicht toont van het in figuur 2 getoonde dwarselement; 5 figuur 4 een schematische langsdoorsnede toont van een stansgebied van een stansinrichting alsmede daarin geplaatst basismateriaal; figuur 5a-5d vier opeenvolgende stadia van een stansbeweging tonen; figuur 6 schematisch een bovenaanzicht toont van een matrijs en een daarin opgenomen ondersteuningsorgaan; 10 figuur 7a een detail toont van een profielflank van de in figuur 6 getoonde matrijs, met een bekend profiel; figuur 7b een detail toont van de profielflank van de in figuur 6 getoonde matrijs, met een profiel volgens de uitvinding; en figuur 8 een detail toont van een met de werkwijze volgens de 15 uitvinding verkregen dwarselement.

Figuur 1 toont schematisch een continu variabele transmissie, zoals voor gebruik in een motorvoertuig. De continu variabele transmissie is in zijn algemeenheid aangeduid met het verwijzings-20 cijfer 1.

De continu variabele transmissie 1 omvat twee op afzonderlijke poelie-assen 2, 3 aangebrachte poelies 4, 5. Een oneindige, in zichzelf gesloten duwband 6 is om de poelies 4, 5 aangebracht en dient voor het overdragen van koppel tussen de poelie-assen 2, 3. Elk van 25 de poelies 4, 5 omvat twee poelieschijven, waarbij de duwband 6 tussen genoemde twee poelieschijven is gepositioneerd en ingeklemd, zodat met behulp van wrijving een kracht tussen de poelies 4, 5 en de duwband 6 kan worden overgedragen.

De duwband 6 omvat ten minste één oneindige drager 7 die 30 doorgaans is opgebouwd uit een aantal ringen. Over de gehele lengte van de drager 7 zijn dwarselementen 10 aangebracht, waarbij de dwarselementen 10 onderling tegen elkaar aanliggen en in omtreks-richting beweegbaar ten opzichte van de drager 7 zijn. Ter wille van de eenvoud is in figuur 1 slechts een aantal van deze dwarselementen 35 10 getoond.

Figuren 2 en 3 tonen een dwarselement 10. Een voorvlak van het dwarselement 10 is in zijn algemeenheid aangeduid met het verwijzingscijfer 11, terwijl een achtervlak van het dwarselement 10 40 in zijn algemeenheid is aangeduid met het verwijzingscijfer 12. In 1027808 9 het hiernavolgende wordt zowel het voorvlak 11 als het achtervlak 12 ook wel aangeduid als hoofdlichaamsvlak 11, 12. Tussen de hoofd-lichaamsvlakken 11, 12 strekt zich een omtreksvlak 19 uit.

Het dwarselement 10 omvat in hoogterichting achtereenvolgens 5 een basisgedeelte 13, een relatief smal nekgedeelte 14 en een pijlpuntvormig topgedeelte 15. In de duwband 6 bevindt het basisgedeelte 13 zich aan de zijde van de binnenomtrek van de duwband 6, terwijl het topgedeelte 15 zich aan de zijde van de buitenomtrek van de duwband 6 bevindt. Voorts ligt in een duwband 6 ten minste een gedeelte 10 van het voorvlak 11 van het dwarselement 10 aan tegen ten minste een gedeelte van het achtervlak 12 van een volgend dwarselement 10, terwijl ten minste een gedeelte van het achtervlak 12 van het dwarselement 10 aanligt tegen ten minste een gedeelte van het voorvlak 11 van een voorgaand dwarselement 10. Het basisgedeelte 13 van het 15 dwarselement 10 zoals getoond in figuur 2 omvat bij de overgang naar het nekgedeelte 14 twee dragervlakken 16 die dienen voor het ondersteunen van twee dragers 7. Voorts omvat het basisgedeelte 13 twee poelieschijf-contactvlakken 17. Wanneer het dwarselement 10 over de poelie 4, 5 beweegt, wordt via genoemde poelieschijf-contactvlakken 20 17 contact tussen het dwarselement 10 en contactvlakken van de poelieschijven bewerkstelligd. Tussen de poelieschijf-contactvlakken 17 strekt zich een ondervlak 18 uit. Zowel de dragervlakken 16, de poelieschijf-contactvlakken 17 en het ondervlak 18 maken deel uit van het omtreksvlak 19.

25 Op het voorvlak 11 van het dwarselement 10 is een nop 21 aan gebracht. De nop 21 bevindt zich in het getoonde voorbeeld op het topgedeelte 15, en correspondeert met een kuil in het achtervlak 12. De kuil is in figuur 3 door middel van streeplijnen weergegeven en aangeduid met het verwijzingscijfer 22. In de duwband 6 bevindt de 30 nop 21 van het dwarselement 10 zich althans gedeeltelijk in de kuil 22 van een volgend dwarselement 10. De nop 21 en de corresponderende kuil 22 dienen om onderlinge verschuiving van aangrenzende dwars-elementen 10 in een vlak haaks op de omtreksrichting van de duwband 6 te voorkomen.

35 Het topgedeelte 15 omvat twee opsluitvlakken 23 die tegenover de dragervlakken 16 zijn gelegen. Wanneer het dwarselement 10 in een duwband 6 is opgenomen, dan wordt een ruimte waarin de dragers 7 zich bevinden in radiale richting afgebakend door de dragervlakken 16 enerzijds en door de opsluitvlakken 23 anderzijds. Voorts omvat 40 het topgedeelte 15 twee op elkaar aansluitende bovenvlakken 24, die 1027803 10 elk bij een uiteinde aansluiten op een opsluitvlak 23 van het top-gedeelte 15. Zowel de opsluitvlakken 23 als de bovenvlakken 24 maken deel uit van het omtreksvlak 19.

5 Hieronder zal een op zich bekend stansproces van het dwars- element 10 worden uitgelegd aan de hand van figuren 4 en 5a tot en met 5d.

In figuur 4 zijn een stansgebied van een stansinrichting 60 en 10 daarin geplaatst plaatvormig basismateriaal 50 schematisch weergegeven. De stansinrichting 60 omvat een snijorgaan 30 dat is bestemd voor het uitsnijden van het dwarselement 10 uit het basismateriaal 50. Het snijorgaan 30 is opgenomen in een geleidingsruimte 36 in een geleidingsplaat 35 die als belangrijke functie het 15 geleiden van het snijorgaan 30 tijdens een stansbeweging heeft. In het verlengde van het snijorgaan 30 is een ondersteuningsorgaan 40 opgesteld, dat is bestemd om het dwarselement 10 tijdens het stansproces te ondersteunen en tevens het voorvlak 11 van het dwarselement 10 te vormen door middel van een proces van koude omvorming. 20 De omtrek van zowel het snijorgaan 30 als het ondersteuningsorgaan 40 correspondeert in hoofdzaak met de omtrek van het te stansen dwarselement 10. Het ondersteuningsorgaan 40 is opgenomen in een opneemruimte 46 in een matrijs 45 die als belangrijke functie het tijdens een stansbeweging geleiden van zowel het ondersteunings-25 orgaan 40 als het dwarselement 10 heeft. De binnenomtrek van de opneemruimte 46 correspondeert in hoofdzaak met de omtrek van zowel het snijorgaan 30, het ondersteuningsorgaan 40 en het dwarselement 10. Het basismateriaal 50 bevindt zich initieel tussen het snijorgaan 30 en de geleidingsplaat 35 enerzijds en het ondersteunings-30 orgaan 40 en de matrijs 45 anderzijds. Een gedeelte van het basismateriaal 50 dat zich tussen het snijorgaan 30 en het ondersteuningsorgaan 40 bevindt, is bestemd om het dwarselement 10 te vormen, en zal hiernavolgend worden aangeduid als stansgedeelte 51. Een ander gedeelte van het basismateriaal 50, namelijk het gedeelte 35 dat zich tussen de geleidingsplaat 35 en de matrijs 45 bevindt, zal hiernavolgend worden aangeduid als restgedeelte 52.

De matrijs 45 omvat een matrijsvlak 47 dat als belangrijke functie het ondersteunen van het restgedeelte 52 van het basismateriaal 50 heeft. Een binnenoppervlak van de opneemruimte 46 van 40 de matrijs 45 sluit via een omtreksrand 48 aan op het matrijsvlak 1027808 11 47. Teneinde een goede oppervlaktekwaliteit van het omtreksvlak 19 van het dwarselement 10 te verkrijgen, is de omtreksrand 48 afgeschuind, waarbij zich een afschuiningsvlak 49 tussen het matrijsvlak 47 en het binnenoppervlak van de opneemruimte 46 uitstrekt.

5

In het hiernavolgende wordt een stansbeweging beschreven aan de hand van figuren 5a tot en met 5d, waarin schematisch verschillende opeenvolgende stadia van de stansbeweging zijn weergegeven.

In een eerste stadium of beginstadium, zoals schematisch 10 getoond in figuur 5a, is het stansgedeelte 51 van het basismateriaal 50 ingeklemd tussen het snijorgaan 30 en het ondersteuningsorgaan 40, terwijl het restgedeelte 52 is ingeklemd tussen een geleidings-vlak 37 van de geleidingsplaat 35 en het matrijsvlak 47 van de matrijs 45. Hierbij werken de klemkrachten in een richting in 15 hoofdzaak haaks op het geleidingsvlak 37 en het matrijsvlak 47.

In een tweede stadium, zoals schematisch getoond in figuur 5b, worden de geleidingsplaat 35, het restgedeelte 52 en de matrijs 45 enerzijds en het geheel van snijorgaan 30, stansgedeelte 51 en ondersteuningsorgaan 40 anderzijds onder druk ten opzichte van 20 elkaar bewogen. Hierbij is de bewegingsrichting in hoofdzaak haaks op het geleidingsvlak 37 en het matrijsvlak 47. Als gevolg van de onderlinge beweging dringt het snijorgaan 30 in het basismateriaal 50 en wordt het stansgedeelte 51 in de opneemruimte 46 van de matrijs 45 gedrukt. Tijdens het tweede stadium vindt tevens ter 25 plaatse van het contact van het stansgedeelte 51 en het snijorgaan 30 respectievelijk het ondersteuningsorgaan 40 een proces van koude omvorming plaats, waarbij onder meer de kuil 22 respectievelijk de nop 21 wordt gevormd.

In een derde stadium, zoals schematisch getoond in figuur 5c, 30 raakt als gevolg van de voortgaande onderlinge beweging het stansgedeelte 51 helemaal los van het restgedeelte 52. Hierna worden de matrijs 45 en het ondersteuningsorgaan 40 enerzijds en de geleidingsplaat 35 en het snijorgaan 30 anderzijds van elkaar af bewogen, waarbij het restgedeelte 52 contact blijft houden met het 35 geleidingsvlak 37 en het contact met het matrijsvlak 47 verliest.

In een vierde stadium, zoals schematisch getoond in figuur 5d, is als gevolg van de onderlinge beweging van de matrijs 45 en het ondersteuningsorgaan 40 enerzijds en de geleidingsplaat 35 en het snijorgaan 30 anderzijds het restgedeelte 52 op afstand van het 40 matrijsvlak 47 komen te liggen. Op deze positie kan het restgedeelte 1027803 12 52 worden uitgenomen. Voorts zijn de matrijs 45 en het onder-steuningsorgaan 40 zodanig ten opzichte van elkaar bewogen, dat het stansgedeelte 51 boven het niveau van het matrijsvlak 47 is komen te liggen, zodat het stansgedeelte 51 eveneens kan worden uitgenomen.

5 Hierbij fungeert het ondersteuningsorgaan 40 als uitstootorgaan.

Figuur 6 toont schematisch een dwarsdoorsnede van een matrijs 45 en een ondersteuningsorgaan 40 dat in de matrijs 45 is opgenomen, waarbij de matrijs 45 en het ondersteuningsorgaan 40 beweegbaar ten 10 opzichte van elkaar zijn opgesteld. Zowel de matrijs 45 als het ondersteuningsorgaan 40 maken deel uit van een stansinrichting 60 die bestemd is te worden toegepast voor het vormen van dwars-elementen 10.

Gedeeltes van het binnenoppervlak van de opneemruimte 46 van de 15 matrijs 45 die bepalend zijn voor de vorm en de afmetingen van de poelieschijf-contactvlakken 17 van een te stansen dwarselement 10 worden aangeduid als profielflanken 70. In de profielflanken 70 is een profiel 71 aangebracht, waarmee tijdens het stansproces van het dwarselement 10 een profiel op de poelieschijf-contactvlakken 17 van 20 het dwarselement 10 wordt gevormd. In figuur 6 is het profiel 71 van de profielflanken 70 overdreven groot weergegeven. In het algemeen omvat het profiel 71 op de profielflanken 70 om en om gelegen ribbels en groeven die zich parallel aan elkaar over de profiel-flanken 70 uitstrekken in een richting die gelijk is aan de richting 25 waarin de matrijs 45 en het ondersteuningsorgaan 40 ten opzichte van elkaar beweegbaar zijn.

Volgens de stand van de techniek is het profiel op de poelieschij f -contactvlakken 17 van het dwarselement 10 gegolfd of getand, en is bij voorkeur sinusvormig. Het profiel 71 op de profielflanken 30 70 van de matrijs 45 dat wordt gebruikt om een dergelijk profiel op de poelieschijf-contactvlakken 17 van het dwarselement 10 te vormen, is derhalve eveneens getand of gegolfd, en bij voorkeur sinusvormig.

Het ondersteuningsorgaan 40 is met een geringe speling in de opneemruimte 46 van de matrijs 45 opgenomen. Wanneer de matrijs 45 35 en het ondersteuningsorgaan 40 ten opzichte van elkaar bewegen, vindt geleiding van het ondersteuningsorgaan 40 mede langs de profielflanken 70 van de matrijs 45 plaats.

Figuur 7a toont een detail van een profielflank 70 van de in 40 figuur 6 getoonde matrijs 45, met een bekend en in de praktijk toe- 1027808 ' 13 gepast profiel 71. Het profiel 71 omvat groeven 72 met concaaf gekromde daldelen 73 en ribbels 74 met convex gekromde topdelen 75, waarbij in het getoonde voorbeeld de diverse krommingen van het profiel 71 zodanig gekozen zijn, dat dit een in hoofdzaak sinus-5 vormige dwarsdoorsnede heeft.

Figuur 7b toont een detail van een profielflank 70 van de in figuur 6 getoonde matrijs 45, met een profiel 71 volgens de uitvinding. Dit profiel 71 omvat groeven 72 met concaaf gekromde daldelen 73 en ribbels 74 met in hoofdzaak vlakke topdelen 75. In 10 het weergegeven voorbeeld zijn de daldelen 73 van de groeven 72 in hoofdzaak gekromd volgens een sinus, en is een onderlinge afstand tussen de in hoofdzaak vlakke topdelen 75 van de ribbels 74, in een richting haaks op de richting waarin de ribbels 74 zich uitstrekken, in hoofdzaak twee maal een afmeting van de topdelen 75. Ter 15 illustratie is in figuur 7b een onderlinge afstand tussen twee in hoofdzaak vlakke topdelen 75 van de ribbels 74 aangeduid met een maatpijl A, en is een afmeting van de topdelen aangeduid met een maatpijl B. Uit de figuur blijkt dat de maatpijl A in hoofdzaak twee maal zo lang is als de maatpijl B.

20

Tijdens het stansproces worden op het dwarselement 10 krachten uitgeoefend, waarbij het kan voorkomen dat het dwarselement 10 en het onderliggende ondersteuningsorgaan 40 een neiging tot kantelen ondervinden. Wanneer de profielflanken 70 zijn voorzien van een 25 bekend profiel 71 zoals getoond in figuur 7a, dan zijn de topdelen 75 van de ribbels 74 convex gekromd, waardoor een relatief klein contactoppervlak tussen het ondersteuningsorgaan 40 en de profiel-flanken 70 resulteert. Hierdoor is het mogelijk dat de lokale druk die ten gevolge van een kanteling van het ondersteuningsorgaan 40 op 30 de topdelen 75 van de ribbels 74 wordt uitgeoefend, zodanig hoog is, dat een lokale elastische vervorming, ook wel Hertze invering genoemd, van de ribbels 74 optreedt. Dit heeft als nadeel dat de stijfheid van de geleiding van het ondersteuningsorgaan 40 in de opneemruimte 46 van de matrijs 45 afneemt.

35 Bij een profiel 71 volgens de uitvinding, zoals getoond in figuur 7b, zijn de topdelen 75 van de ribbels 74 in hoofdzaak vlak, waarvoor een relatief groot contactoppervlak tussen het ondersteuningsorgaan 40 en de profielflanken 70 resulteert. Dientengevolge is de druk op de topdelen 75 van de ribbels 74 40 plaatselijk veel kleiner dan het geval is bij bekende profielen 71 1027808 14 met convex gekromde topdelen 75, waarvan in figuur 7a een voorbeeld is getoond. Er zal daarom minder of geen sprake zijn van Hertze in-vering van de topdelen 75 van de ribbels 74. Daarmee is de stijfheid van de geleiding van het ondersteuningsorgaan 40 in de opneemruimte 5 46 van de matrijs 45 verbeterd. Dit heeft als voordelig effect dat de dwarselementen 10 met hogere nauwkeurigheid gevormd kunnen worden, hetgeen de kwaliteit van een duwband 6 waarin de dwarselementen 10 worden opgenomen, ten goede komt.

10 Figuur 8 toont in dwarsdoorsnede een detail van een poelie- schijf-contactvlak 17 van een dwarselement 10 dat is verkregen onder toepassing van een matrijs 45 met profielflanken 70 zoals in detail getoond in figuur 7b. Het poelieschijf-contactvlak 17 is voorzien van een profiel 80, dat een patroon van om en om gelegen ribbels 81 15 en groeven 82 heeft, waarbij de ribbels 81 en groeven 82 zich in de lengterichting van het dwarselement 10 uitstrekken, dat is in een richting in hoofdzaak haaks op de hoofdlichaamsvlakken 11, 12 van het dwarselement 10. De ribbels 81 en groeven 82 zijn tijdens het stansproces gevormd door respectievelijk de groeven 72 en ribbels 74 20 op een profielflank 70 van de matrijs 45. Derhalve hebben de groeven 82 van het profiel 80 op het poelieschijf-contactvlak 17 in hoofdzaak vlakke daldelen 83, en zijn topdelen 84 van de ribbels 81 van dit profiel 80 in hoofdzaak volgens een sinus gekromd.

Wanneer meerdere dwarselementen 10 van het type met een profiel 25 80 zoals getoond in figuur 8 in een duwband 6 van een continu variabele transmissie 1 zijn opgenomen, dan is de convexe kromming van de topdelen 84 van de ribbels 81 van het profiel 80 voordelig met het oog op het inlopen van de duwband 6 op de poelies 4, 5, terwijl de in hoofdzaak vlakke daldelen 83 van de groeven 82 hierbij 30 geen rol van betekenis spelen.

Het zal voor een deskundige duidelijk zijn dat de omvang van de uitvinding niet is beperkt tot de in het voorgaande besproken voorbeelden, maar dat diverse variaties en modificaties daarvan 35 mogelijk zijn zonder af te wijken van de omvang van de uitvinding zoals gedefinieerd in de aangehechte conclusies.

In het voorgaande is een werkwijze beschreven, die geschikt is om te worden toegepast voor het vormen van een dwarselement 10 dat 40 bestemd is om deel uit te maken van een duwband 6 voor een continu 1027808 1 15 variabele transmissie 1, welk dwarselement 10 twee hoofdlichaams-vlakken 11, 12 en een omtreksvlak 19 heeft. Het dwarselement 10 wórdt tijdens een stansbeweging uit basismateriaal 50 gestanst, waarbij onder meer gebruik wordt gemaakt van een ondersteunings-5 orgaan 40 voor het ondersteunen van het dwarselement 10, en van een matrijs 45 met een opneemruimte 46 voor het opnemen van het onder-steuningsorgaan 40 en het vormen van het omtreksvlak 19 van het dwarselement 10. Ten behoeve van het vormen van poelieschijf-contactvlakken 17 van het dwarselement 10, die deel uitmaken van het 10 omtreksvlak 19 van het dwarselement 10, en die dienen voor het tot stand brengen van contact tussen het dwarselement 10 en poelieschi j ven van een poelie 4, 5 van de continu variabele transmissie 1, omvat een binnenoppervlak van de opneemruimte 46 twee profielflanken 70. Teneinde in staat te zijn een profiel 80 van om en om gelegen 15 ribbels 81 en groeven 82 op de poelieschijf-contactvlakken 17 te vormen, zijn de profielflanken 70 van de matrijs 45 eveneens voorzien van een profiel 71, waarbij het profiel 71 op de profielflanken 71 als het ware een negatief is van het profiel 80 dat als positief op het poelieschijf-contactvlak 17 wordt gevormd. Het profiel 71 op 20 de profielflanken 70 omvat derhalve eveneens om en om gelegen ribbels 74 en groeven 72.

Belangrijke kenmerken van de vorm van het profiel 71 op de profielflanken 70 zijn dat daldelen 73 van de groeven 72 concaaf gekromd zijn, terwijl topdelen 75 van de ribbels 74 in hoofdzaak 25 vlak zijn. Door de in hoofdzaak vlakke vorm van de topdelen 75 van de ribbels 74 wordt bereikt, dat gedurende het stansproces een goede geleiding van het ondersteuningsorgaan 40 wordt verkregen, waardoor o.a. de vormnauwkeurigheid van het dwarselement 10 en de positioneringsnauwkeurigheid van een nop 21 en een kuil 22 op het 30 dwarselement 10 verhoogd zijn. Door de concaaf gekromde vorm van de daldelen 73 van de groeven 72 wordt bereikt, dat topdelen 84 van de ribbels 81 van het profiel 80 op de poelieschijf-contactvlakken 17 van het dwarselement 10 convex gekromd zijn, hetgeen bijdraagt aan een goed contact tussen de poelieschijf-contactvlakken 17 en de 35 poelieschijven van de poelies 4, 5 van de continu variabele transmissie 1.

1027808

Claims (12)

1. Werkwijze voor het vormen van een dwarselement (10) dat bestemd is om deel uit te maken van een in zichzelf gesloten duwband (6) voor een continu variabele transmissie (1) met twee poelies (4, 5) voor het opspannen van de duwband (6) , welk dwarselement (10) twee 5 hoofdlichaamsvlakken (11, 12) en een zich tussen de hoofdlichaams-vlakken (11, 12) uitstrekkend omtreksvlak (19) heeft, waarbij het omtreksvlak (19) twee aan weerszijden van het dwarselement (10) gelegen poelieschijf-contactvlakken (17) voor het tot stand brengen van contact tussen het dwarselement (10) en poelieschijven van een 10 poelie (4, 5) van de continu variabele transmissie (1) omvat; waarbij het dwarselement (10) tijdens een stansbeweging uit basismateriaal (50) wordt gestanst onder toepassing van een snijorgaan (30), een ondersteuningsorgaan (40) en een matrijs (45) met een op-neemruimte (46) voor het opnemen van het te stansen dwarselement 15 (10), het ondersteuningsorgaan (40) en een uiteinde van het sni j - orgaan (30); waarbij tijdens een stansbeweging het te stansen dwarselement (10) is ingeklemd tussen het snijorgaan (30) en het ondersteuningsorgaan (40), waarbij het snijorgaan (30), het te stansen dwarselement (10) 20 en het ondersteuningsorgaan (40) enerzijds en de matrijs (45) anderzijds ten opzichte van elkaar worden bewogen; waarbij twee profielflanken (70) van de matrijs (45), die deel uitmaken van een binnenoppervlak van de opneemruimte (46) in de matrijs (45), zijn voorzien van een profiel (71) om een vooraf gedefinieerd 25 profiel (80) in de poelieschijf-contactvlakken (17) van het dwarselement (10) te vormen; waarbij het profiel (71) in de profielflanken (70) van de matrijs (45) een patroon van om en om gelegen ribbels (74) en groeven (72) omvat, die zich uitstrekken in een richting die overeenkomt met een 30 richting waarin het snijorgaan (30) , het te stansen dwarselement (10) en het ondersteuningsorgaan (40) enerzijds en de matrijs (45) anderzijds tijdens een stansbeweging ten opzichte van elkaar worden bewogen; en waarbij een topdeel (75) van de ribbels (74) in hoofdzaak vlak is, 35 en waarbij een daldeel (73) van de groeven (72) concaaf gekromd is. 1027808

2. Werkwijze volgens conclusie 1, waarbij het concaaf gekromde daldeel (73) van de groeven (72) in hoofdzaak volgens een sinus gekromd is, in een richting haaks op de richting waarin de groeven (72) zich uitstrekken. 5

3. Werkwijze volgens conclusie 1 of 2, waarbij, in een richting haaks op de richting waarin de groeven (72) zich uitstrekken, een verhouding tussen een onderlinge afstand tussen de in hoofdzaak vlakke topdelen (75) van de ribbels (74) en een afmeting van de in 10 hoofdzaak vlakke topdelen (75) in hoofdzaak 2:1 is.

4. Matrijs (45), bestemd voor toepassing ten behoeve van een stansproces waarin een dwarselement (10) dat bestemd is om deel uit te maken van een in zichzelf gesloten duwband (6) voor een continu 15 variabele transmissie (1) met twee poelies (4, 5) voor het opspannen van de duwband (6), tijdens een stansbeweging uit basismateriaal (50) wordt gestanst onder verdere toepassing van een snijorgaan (30) en een ondersteuningsorgaan (40), waarbij tijdens eén stansbeweging het te stansen dwarselement (10) is ingeklemd tussen het snijorgaan 20 (30) en het ondersteuningsorgaan (40) , waarbij het snijorgaan (30), het te stansen dwarselement (10) en het ondersteuningsorgaan (40) enerzijds en de matrijs (45) anderzijds ten opzichte van elkaar worden bewogen, en waarbij het dwarselement (10) wordt gevormd met poelieschijf-contactvlakken (17) voor het tot stand brengen van 25 contact tussen het dwarselement (10) en poelieschijven van een poelie (4, 5) van de continu variabele transmissie (1); welke matrijs (45) een opneemruimte (46) voor het opnemen van het te stansen dwarselement (10), het ondersteuningsorgaan (40) en een uiteinde van het snijorgaan (30) heeft, waarbij twee profielflanken 30 (70) van de matrijs (45), die deel uitmaken van een binnenoppervlak van de opneemruimte (46), zijn voorzien van een profiel (71) om een vooraf gedefinieerd profiel (80) in de poelieschijf-contactvlakken (17) van het dwarselement (10) te vormen; waarbij het profiel (71) in de profielflanken (70) van de matrijs 35 (45) een patroon van om en om gelegen ribbels (74) en groeven (72) omvat, die zich in uitstrekken in een richting die overeenkomt met een richting waarin de matrijs (45) in staat is tijdens een stansbeweging ten opzichte van het snijorgaan (30), het te stansen dwarselement (10) en het ondersteuningsorgaan (40) te bewegen; en 1027808 waarbij een topdeel (75) van de ribbels (74) in hoofdzaak vlak is, en waarbij een daldeel (73) van de groeven (72) concaaf gekromd is.

5. Matrijs (45) volgens conclusie 4, waarbij het concaaf gekromde 5 daldeel (73) van de groeven (72) in hoofdzaak volgens een sinus gekromd is, in een richting haaks op de richting waarin de groeven (72) zich uitstrekken.

6. Matrijs (45) volgens conclusie 4 of 5, waarbij, in een richting 10 haaks op de richting waarin de groeven (72) zich uitstrekken, een verhouding tussen een onderlinge afstand tussen de in hoofdzaak vlakke topdelen (75) van de ribbels (74) en een afmeting van de in hoofdzaak vlakke topdelen (75) in hoofdzaak 2:1 is.

7. Stansinrichting (60), omvattende een matrijs (45) volgens een willekeurige der conclusies 4-6.

8. Dwarselement (10), bestemd om deel uit te maken van een in zichzelf gesloten duwband (6) voor een continu variabele transmissie 20 (1) met twee poelies (4, 5) voor het opspannen van de duwband (6), welk dwarselement (10) twee hoofdlichaamsvlakken (11, 12) en een zich tussen de hoofdlichaamsvlakken (11, 12) uitstrekkend omtreks-vlak (19) heeft, waarbij het omtreksvlak (19) twee aan weerszijden van het dwarselement (10) gelegen poelieschijf-contactvlakken (17) 25 voor het tot stand brengen van contact tussen het dwarselement (10) en poelieschijven van een poelie (4, 5) van de continu variabele transmissie (1) omvat; waarbij de poelieschijf-contactvlakken (17) zijn voorzien van een profiel (80) dat een patroon van om en om gelegen ribbels (81) en 30 groeven (82) omvat, waarbij de ribbels (81) en groeven (82) zich in een richting in hoofdzaak haaks ten opzichte van de hoofdlichaamsvlakken (11, 12) uitstrekken; waarbij een daldeel (83) van de groeven (82) in hoofdzaak vlak is, en waarbij een topdeel (84) van de ribbels (81) convex gekromd is. 35

9. Dwarselement (10) volgens conclusie 8, waarbij het concaaf gekromde topdeel (84) van de ribbels (81) in hoofdzaak volgens een sinus gekromd is, in een richting haaks op de richting waarin de ribbels (81) zich uitstrekken. 1027808 '

10. Dwarselement (10) volgens conclusie 8 of 9, waarbij, in een richting haaks op de richting waarin de groeven (82) zich uitstrekken, een verhouding tussen een onderlinge afstand tussen de in hoofdzaak vlakke daldelen (83) van de groeven (82) en een afmeting 5 van de in hoofdzaak vlakke daldelen (83) in hoofdzaak 2:1 is.

11. Duwband (6) voor een continu variabele transmissie (1), omvattende een dwarselement (10) volgens een willekeurige der conclusies 8-10. 10

12. Continu variabele transmissie (1), omvattende een duwband (6) volgens conclusie 11. 1027808