NL1022544A1 - Lithografiewerkwijze met meervoudige belichting en systeem voor het verschaffen van een verbeterde overlappingsnauwkeurigheid. - Google Patents

Lithografiewerkwijze met meervoudige belichting en systeem voor het verschaffen van een verbeterde overlappingsnauwkeurigheid.

Info

Publication number
NL1022544A1
NL1022544A1 NL1022544A NL1022544A NL1022544A1 NL 1022544 A1 NL1022544 A1 NL 1022544A1 NL 1022544 A NL1022544 A NL 1022544A NL 1022544 A NL1022544 A NL 1022544A NL 1022544 A1 NL1022544 A1 NL 1022544A1
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
providing improved
lithography method
multiple exposure
exposure lithography
overlap accuracy
Prior art date
Application number
NL1022544A
Other languages
English (en)
Other versions
NL1022544C2 (nl
Inventor
Joon-Soo Park
Chang-Min Park
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of NL1022544A1 publication Critical patent/NL1022544A1/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL1022544C2 publication Critical patent/NL1022544C2/nl

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605—Workpiece metrology
    • G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
    • G03F7/70633—Overlay, i.e. relative alignment between patterns printed by separate exposures in different layers, or in the same layer in multiple exposures or stitching
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
    • G03F7/70433—Layout for increasing efficiency or for compensating imaging errors, e.g. layout of exposure fields for reducing focus errors; Use of mask features for increasing efficiency or for compensating imaging errors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
    • G03F7/70466—Multiple exposures, e.g. combination of fine and coarse exposures, double patterning or multiple exposures for printing a single feature

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
NL1022544A 2002-03-27 2003-01-31 Lithografiewerkwijze met meervoudige belichting en systeem voor het verschaffen van een verbeterde overlappingsnauwkeurigheid. NL1022544C2 (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2002-0016820A KR100416618B1 (ko) 2002-03-27 2002-03-27 오버레이 정확도가 향상된 다중노광 방법 및 이를 기록한기록매체
KR20020016820 2002-03-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL1022544A1 true NL1022544A1 (nl) 2003-09-30
NL1022544C2 NL1022544C2 (nl) 2005-03-22

Family

ID=28450088

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1022544A NL1022544C2 (nl) 2002-03-27 2003-01-31 Lithografiewerkwijze met meervoudige belichting en systeem voor het verschaffen van een verbeterde overlappingsnauwkeurigheid.

Country Status (5)

Country Link
US (2) US6960414B2 (nl)
JP (1) JP4326243B2 (nl)
KR (1) KR100416618B1 (nl)
NL (1) NL1022544C2 (nl)
TW (1) TWI222101B (nl)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005022600A2 (en) * 2003-08-29 2005-03-10 Inficon Lt, Inc. Method and systems for processing overlay data
DE10344645B4 (de) * 2003-09-25 2008-08-07 Qimonda Ag Verfahren zur Durchführung einer Doppel- oder Mehrfachbelichtung
US7333173B2 (en) * 2004-04-06 2008-02-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Method to simplify twin stage scanner OVL machine matching
KR100818420B1 (ko) * 2006-12-27 2008-04-01 동부일렉트로닉스 주식회사 오버레이 계측 방법
KR101864164B1 (ko) 2011-05-18 2018-06-04 삼성전자주식회사 노광 시스템과, 이 시스템으로 제조되는 포토마스크 및 웨이퍼
US9958790B2 (en) 2013-12-19 2018-05-01 Asml Netherlands B.V. Inspection methods, substrates having metrology targets, lithographic system and device manufacturing method
US11764062B2 (en) * 2017-11-13 2023-09-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method of forming semiconductor structure
KR20210007275A (ko) 2019-07-10 2021-01-20 삼성전자주식회사 오버레이 보정 방법, 및 그 보정 방법을 기초로 한 포토리소그라피 방법, 반도체 소자 제조방법 및 스캐너 시스템
CN113703282B (zh) * 2021-08-02 2022-09-06 联芯集成电路制造(厦门)有限公司 光罩热膨胀校正方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100500199B1 (ko) * 1995-05-29 2005-11-01 가부시키가이샤 니콘 마스크패턴을겹쳐서노광하는노광방법
JP3245556B2 (ja) 1997-11-18 2002-01-15 日本電気株式会社 ミックスアンドマッチ露光方法
JP2000021749A (ja) 1998-06-30 2000-01-21 Canon Inc 露光方法および露光装置

Also Published As

Publication number Publication date
NL1022544C2 (nl) 2005-03-22
US7463333B2 (en) 2008-12-09
US6960414B2 (en) 2005-11-01
KR100416618B1 (ko) 2004-02-05
US20030186141A1 (en) 2003-10-02
JP4326243B2 (ja) 2009-09-02
KR20030077863A (ko) 2003-10-04
TW200304669A (en) 2003-10-01
US20060019184A1 (en) 2006-01-26
JP2003297742A (ja) 2003-10-17
TWI222101B (en) 2004-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1028856A1 (nl) Werkwijze voor het coderen van een film.
NL1027187A1 (nl) Een masker voor inspectie van een belichtingsinrichting, een werkwijze voor inspectie van een belichtingsinrichting, en een belichtingsinrichting.
NL1028595A1 (nl) Werkwijze voor het vormen van een fotogevoelig patroon, halfgeleiderinrichting gebruikmakend van deze werkwijze en belichtingsinrichting daarvan.
NL1027673A1 (nl) Werkwijze voor genereren van resultaatbeelden van een onderzoeksobject.
NL1029167A1 (nl) Werkwijzen en systemen voor gegevensintegratie.
NL1024858A1 (nl) Werkwijze en systeem voor luchtwegmeting.
NL1029344A1 (nl) Detector voor straling toepassende beeldvormingssystemen.
NL1021335A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het verwerken van een uitvoer van een beeldsensor.
NL1032675A1 (nl) Bestralingswerkwijze en apparaat voor onderdompelingslithografie.
NL1029357A1 (nl) Werkwijze en systeem voor driedimensionale reconstructie van beelden.
NL1026270A1 (nl) Werkwijze en systeem voor versnelde beeldvorming onder gebruikmaking van parallelle MRI.
NL1028888A1 (nl) Inrichting voor ontvlechten en werkwijze met gebruikmaking van gedetecteerde lijnbibber.
NO20042945L (no) Innretning for persontransport pa et seilbaneanlegg
NL1026665A1 (nl) Reticule, inrichting voor het bewaken van een optisch stelsel, werkwijze voor het bewaken van een optisch stelsel en werkwijze voor het vervaardigen van een reticule.
NL1026914A1 (nl) Fotomasker, lithografiewerkwijze, en werkwijze voor het vervaardigen van het fotomasker.
NL1019180A1 (nl) Werkwijze voor het vaststellen en automatisch opheffen van faseconflicten op alternerende fasemaskers.
NL1024870A1 (nl) Onvertraagd maskeringssysteem en werkwijze voor beelden.
NL1027730A1 (nl) Werkwijze voor het converteren van een bestandsysteem format en inrichting daarvan.
NL1027362A1 (nl) Systemen en werkwijzen voor het ijken van spoelgevoeligheidsprofielen.
NL1023611A1 (nl) Beeldschermsysteem en werkwijze voor het elimineren van overblijvende beelden daarin.
NL1024195A1 (nl) Inspectiewerkwijze voor een belichtingsinrichting en een belichtingsinrichting.
NL1022544A1 (nl) Lithografiewerkwijze met meervoudige belichting en systeem voor het verschaffen van een verbeterde overlappingsnauwkeurigheid.
NL1022281A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het wikkelen van een buigzame leiding.
NL1026366A1 (nl) Zeer doelmatig projectiesysteem en werkwijze voor het vormen van een kleurenbeeld door gebruik daarvan.
NL1025480A1 (nl) Inspectiewerkwijze, processor en werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.

Legal Events

Date Code Title Description
AD1A A request for search or an international type search has been filed
RD2N Patents in respect of which a decision has been taken or a report has been made (novelty report)

Effective date: 20041118

PD2B A search report has been drawn up
MK Patent expired because of reaching the maximum lifetime of a patent

Effective date: 20230130