NL1007367C2 - Werkwijze voor de vervaardiging van fotografische film met een uitstekend antistatisch vermogen. - Google Patents
Werkwijze voor de vervaardiging van fotografische film met een uitstekend antistatisch vermogen. Download PDFInfo
- Publication number
- NL1007367C2 NL1007367C2 NL1007367A NL1007367A NL1007367C2 NL 1007367 C2 NL1007367 C2 NL 1007367C2 NL 1007367 A NL1007367 A NL 1007367A NL 1007367 A NL1007367 A NL 1007367A NL 1007367 C2 NL1007367 C2 NL 1007367C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- layer
- base material
- film base
- group
- hydrogen atom
- Prior art date
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 82
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims abstract description 19
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims abstract description 19
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims abstract description 19
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims abstract description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 8
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 229920000831 ionic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 5
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 12
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- -1 silane compound Chemical class 0.000 abstract description 7
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 abstract description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 abstract 3
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 abstract 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 abstract 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 28
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 5
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGVWLKXZBUVUAM-UHFFFAOYSA-N Pentanochlor Chemical compound CCCC(C)C(=O)NC1=CC=C(C)C(Cl)=C1 WGVWLKXZBUVUAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005553 polystyrene-acrylate Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- MKWYFZFMAMBPQK-UHFFFAOYSA-J sodium feredetate Chemical compound [Na+].[Fe+3].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O MKWYFZFMAMBPQK-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/30—Hardeners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/16—Anti-static materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
- G03C1/89—Macromolecular substances therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Description
973050/Ba/TV
Korte aanduiding: Werkwijze voor het vervaardigen van fotografische film met een uitstekend antistatisch vermogen
ACHTERGROND VAN DE UITVINDING
Gebied van de uitvinding
De onderhavige uitvinding heeft in het algemeen 5 betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van een fotografische film voor toepassing in fotografische ontwikkeling en afdrukken en, meer in het bijzonder, op een werkwijze voor het vervaardigen van een fotografische film die een zodanige permanente antistatische laag bezit dat een supe-10 rieur antistatisch vermogen tot stand wordt gebracht.
Beschrijving van de stand van de techniek
Het is bekend dat statische elektriciteit gemakkelijk optreedt op typische fotografische films als gevolg van 15 hun sterk elektrisch isolerende eigenschappen. In het bijzonder worden door statische elektriciteit, die optreedt tijdens een fotografische werkwijze waarin een fotoreactie tot stand wordt gebracht door de lichtabsorptie van een zilverhalogeni-de bevattende fotogevoelige laag, diverse problemen veroor-20 zaakt zoals het aantrekken van stof of verontreinigingen, niet gelijkmatig afdrukken en slechte hechting, naast het veroorzaken van een kwaliteitsvermindering in een uiteindelijk fotografisch produkt, zoals een onscherp beeld.
Om het optreden van statische elektriciteit op 25 fotografische films op te lossen is veel inspanning gedaan met inbegrip van het door bekleden aanbrengen van een antistatische laag op een fotografische film. Bijvoorbeeld ontvouwt US-A-4 225 665 een bekledingsformulering voor een antistatische laag voor fotografische film welke een in 30 water-oplosbaar natriumzout van een copolymeer omvat dat is bereid uit een sulfonzuurgroep-bevattend styreen en een carboxylgroep-bevatten monomeer, een hydrofoobmonomeer dat een carboxylgroep bevat en een in water-oplosbaar multifunctioneel aziridine als een hardingsmiddel.
35 Voorts is in US-A-4 701 403 een werkwijze voorge- lü ü 73 67 2 steld die leert dat een mengsel omvattende een in wateroplosbaar natriumzout van een copolymeer, bereid uit een sulfonzuurgroep bevattend styreen en een carboxylgroep-bevattend monomeer en een hydrofoob monomeer dat een car-5 boxylgroep bevat, door bekleden wordt aangebracht en gedroogd terwijl een bekleding uit een in water-oplosbaar multifunctioneel aziridine daarop wordt verschaft om het optreden van statische elektriciteit efficiënt te voorkomen.
Deze antistatische lagen die volgens de hierboven 10 genoemde octrooien worden verkregen hebben echter nog steeds moeilijkheden in het verkrijgen van een voldoende antista-tisch effect en een gelijkmatig bekleed oppervlak. Voorts induceert een multifunctioneel aziridine een voorharding van de bekledingsoplossing tijdens de bereiding ervan of in 15 aanwezigheid van een kleine hoeveelheid warmte hetgeen leidt tot een slecht bekledingsvermogen en derhalve tot een niet gelijkmatige oppervlaktebekleding.
SAMENVATTING VAN DE UITVINDING
20
Derhalve heeft de onderhavige uitvinding ten doel het overwinnen van de in de stand van de techniek voorkomende problemen en om een werkwijze te verschaffen voor het vervaardigen van een fotografische film welke superieur is in 25 antistatisch vermogen en hechtingsvermogen.
Overeenkomstig de onderhavige uitvinding kan bovengenoemd doel worden bereikt door het verschaffen van een werkwijze voor het vervaardigen van een fotografische film omvattende het onderwerpen van een filmbasismateriaal aan een 30 corona-behandeling of aan de behandeling met een waterige oplossing die in hoofdzaak bestaat uit een acryltype polymeer en een vinylideenchloridehars om een basisbekledingslaag op elk oppervlak van het filmbasismateriaal te vormen waarbij ten minste één oppervlak van het filmbasismateriaal wordt 35 bekleed met en bekledingsoplossing omvattende: (1) een acryltypepolymeer of gelatine (2) een ionisch polymeer dat wordt weergegeven door de volgende chemische formule I: u 13 6 7 3 R, ΚΙ Γ 5 -(-CH-C-)r(-CHrC-)r (Ι)
R COOH Z
waarin R een waterstofatoom, een carbonzuur of een alkylgroep is welke 1 tot 10 koolstofatomen omvat; R, een waterstofatoom 10 is of een alkylgroep met 1 tot 5 koolstofatomen; R2 een waterstofatoom of een methylgroep is; x en y elk een geheel getal van 1 of hoger voorstellen; Z -fenyl-S03'-G +; -alkyl-NH-CH2-S03' G*; waarbij in beide gevallen G is gekozen uit de groep bestaande uit natrium, lithium, kalium, calcium en magnesium, 15 -CO-X-(CH2)m-N+ (R5)3D' waarin X -NH- of -0- voorstelt; m een geheel getal van 2 tot 4 voorstelt; R5 een waterstofatoom, een methylgroep of ethylgroep voorstelt en D OH, Cl of Br voorstelt of -c<: waarin R5 en D elk zijn zoals boven gedefinieerd en (3) een hardingsmiddel gekozen uit de silaanverbin-25 dingen weergegeven door de volgende chemische formules II en III en mengsels daarvan: (RjO) 3-Si - (CH2)n-A (II) 30 waarin R, een methylgroep of een ethylgroep voorstelt; A -Cl, -SH, -NH2 of -0-CH2-CH-CH2; en 0 n een geheel getal van 1 tot 5 voorstelt; 35 (R40)4-Si (III) waarin R4 een methylgroep of een ethylgroep voorstelt; en vormen van een fotogevoelige laag.
K) u / 'ó 6 I
4
KORTE BESCHRIJVING VAN DE TEKENINGEN
Bovengenoemde en andere doelen en aspecten van de uitvinding zullen duidelijk worden uit de hierna volgende 5 beschrijving van uitvoeringsvormen onder verwijzing naar de begeleidende tekeningen waarin:
Fig. 1 een schetsmatig dwarsdoorsnedebeeld is dat de structuur van een fotografische film in overeenstemming met een uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding toont; en 10 Fig. 2 een schetsmatig dwarsdoorsnedebeeld is dat de structuur van een fotografische film volgens een andere uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding toont.
GEDETAILLEERDE BESCHRIJVING VAN DE UITVINDING 1 5
Ten aanzien van het filmbasismateriaal voor gebruik bij afdrukken en fotografische ontwikkeling dat bruikbaar is in de onderhavige uitvinding kan dit worden gekozen uit synthetische films uit polymeren met geschikte optische 20 eigenschappen of gemodificeerde natuurlijke films zoals van cellulose afgeleide films. Hiervan genieten polyesterfilms, zoals polyethyleentereftalaat (PET) en polyethyleennaftalaat (PEN) en triacetaatcellulose (TAC) de voorkeur als fotografische films.
25 In de uitvinding worden beide zijden van het filmba- sismateriaal aan een corona-behandeling onderworpen of een behandeling met een waterige oplossing die in hoofdzaak bestaat uit een acryltype polymeer en vinylideenhars, om de hechting tussen de hydrofobe film en de hydrofiele gelatine-30 laag of antistatische laag te verbeteren. Geschikte vinyli-deenchlorideharsen zijn copolymeren met verbindingen die een carboxylgroep bevatten en bij voorkeur een vinylideenchlori-degehalte van 70% of meer bezitten. De waterige oplossing ligt wat betreft pH in een gebied van ongeveer 5 tot 10. In 35 een aspect van verwerkbaarheid heeft het voordeel wanneer het vaste stofgehalte in de oplossing 1 tot 10 gew.% bedraagt doch men is tot dit gebied niet beperkt.
De antistatische laag, het kenmerkend onderdeel van de onderhavige uitvinding, heeft een zodanige stapelings-40 structuur dat de problemen die tijdens de vervaardigingswerk- 1007367 5 wijzen optreden worden opgelost, bijvoorbeeld de aantrekking van stof of vonkvorming als gevolg van statische elektriciteit op de film. Een bekledingsoplossing voor de antistati-sche laag, zoals boven beschreven, omvat een acryltype 5 polymeer of gelatine, een ionisch polymeer met chemische formule I, een silaanhardingsmiddel gekozen uit een verbinding met chemische formule II, een verbinding met chemische formule III en mengsels daarvan, water en andere additieven. De bekledingsoplossing ligt wat betreft de pH bij voorkeur in 10 het gebied van ongeveer 8 tot 11 en zijn vastestofgehalte is niet in het bijzonder beperkt maar bedraagt met voordeel ongeveer 0,5 tot 10 gew.% ten aanzien van de verwerkbaarheid.
In de rol van hardingsmiddelen kunnen de silaan-verbindingen met de chemische formules II en III of hun 15 mengsels op zich worden toegevoegd maar een afzonderlijke hardingsmiddeloplossing is doelmatiger ten aanzien van de doorzichtigheid of gladheid. Meer in detail kan de hardingsmiddeloplossing die geschikt is voor de onderhavige uitvinding worden bereid door vermengen van 5 tot 100 gew.dln van 20 het silaanhardingsmiddel, gekozen uit de verbindingen met chemische formules I en II (II en III; bew. ) en hun mengsels met een verdunningsoplossing die 1 tot 20 gew.% van een zuur, zoals zoutzuur, salpeterzuur, zwavelzuur en azijnzuur bevat en 10 tot 100 gew.dln water per 100 gew.dln van een alcohol, 25 zoals methanol en ethanol en door roeren van het verkregen mengsel bij 30°C of lager gedurende verscheidene uren.
Additieven die bruikbaar zijn bij het regelen van de pH en het bekledingsvermogen van de antistatische laag omvatten zuur, alkali, alcohol, een bevochtigingsmiddel en 30 een oppervlakte-actieve stof.
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op het vormen van een antistatische laag aan één of beide zijden van een filmbasismateriaal met de bovengenoemde bekledingsoplossing .
35 Hierna zal een beschrijving worden gegeven van de vorming van de antistatische laag in samenhang met de begeleidende tekening.
Onder verwijzing naar Fig. 1 is een structuur van een fotografische film getoond waarin een antistatische laag 40 over één zijde van de film is aangebracht, overeenkomstig een 1007367 6 uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding. In dit geval is elke oppervlak van een filmbasismateriaal 1 aan een corona-behandeling onderworpen of bekleed met een basis-bekledingslaag 2 en een antistatische laag 4 en een antihala-5 tielaag 7 worden achtereenvolgens aangebracht op één basisbe-kledingslaag 2 of één aan een corona-behandeling onderworpen oppervlak van het filmbasismateriaal 1 terwijl een gelatine-onderbindingslaag 3, een fotogevoelige laag 5 een beschermende laag achtereenvolgens worden gestapeld op de andere 10 basisbekledingslaag 2 of het andere aan corona-behandeling onderworpen oppervlak.
Onder verwijzing naar Fig. 2 is een structuur getoond van een fotografische film waarin een antistatische laag is gevormd op elke zijde van de film, in overeenstemming 15 met een andere uitvoeringsvorm van de onderhavige uitvinding. Zoals in het eerdere geval is elk oppervlak van een f ilmbasismateriaal 1 aan een corona-behandeling onderworpen of bekleed met een basisbekledingslaag 2. Eveneens zijn achtereenvolgens over één oppervlak van het filmbasismateriaal 1 20 een antistatische laag 4 en een antihalatielaag 7 gevormd. In plaats van de gelatine-onderbindingslaag uit het vorige geval wordt echter een andere antistatische laag aangebracht op de andere zijde van de film. Dat wil zeggen een antistatische laag 4, een fotogevoelige laag 5 en een beschermende laag 6 25 worden achtereenvolgens gestapeld op de andere basisbekledingslaag 2 of het andere aan een corona-behandeling onderworpen oppervlak van het filmbasismateriaal 1.
De antihalatielaag 7 speelt in beide uitvoeringsvormen van de onderhavige uitvinding de rol van het beschermen 30 van de permanente antistatische laag waarbij het antistatische effect als zodanig wordt gehandhaafd en een krulver-schijnsel van de film wordt voorkomen om beide oppervlakken van de film te balanceren. Als bindmiddel voor deze laag wordt gelatine of een acryltype hars op zich gebruikt of 35 eventueel in combinatie met een kleurstof of een matterings-middel.
De gelatine-onderbindingslaag 3 is een ruglaag die verantwoordelijk is voor het tot stand brengen van een stabiele fotoreactie wanneer de filmbasislaag 1 en de fotoge-40 voelige laag 5 met licht reageren. De bekledingsoplossing 10 073 67 7 voor deze laag omvat een hydrofiele gelatine als een bindmiddel, een silaanverbinding met chemische formule I of II als hardingsmiddel (II of III; bew.) en water of een alcohol als oplosmiddel.
5 Zoals ten aanzien van de fotogevoelige laag 5 kan deze zijn bereid uit een typische gelatine-zilverhalogenide fotogevoelige emulsie die in foto's wordt gebruikt. Als de bekledingsoplossing voor de antihalatielaag 7, bevat die voor de beschermlaag 6 een matteringsmiddel.
10 De matteringsmiddelen die zijn inbegrepen in de antihalatielaag 7 en de beschermlaag 6 fungeren om ruwheid te verschaffen aan de lagen om te voorkomen dat een film aan een andere film hecht en dat deze wordt gekrast alsmede om een voldoende wrijvingscoëfficiënt te verschaffen die voor de 15 films in automatische afdrukwerkwijzen, die met hoge snelheid verlopen, vereist is. Als matteringsmiddel kunnen met water onmengbare organische of anorganische deeltjes met een diameter van ongeveer 5 urn worden gebruikt. Voorbeelden van een organisch matteringsmiddel omvatten transparante kunst-20 stof kralen uit polystyreen of polymethacrylaat en voor de anorganische voorbeelden worden siliciumdioxyde, calciumcar-bonaat, bariumsulfaat, magnesiumoxyde en germaniumoxyde gekozen.
De onderhavige uitvinding zal beter begrepen worden 25 in het licht van de volgende voorbeelden die gegeven zijn om de vinding toe te lichten maar die niet dienen te worden geconstrueerd om de onderhavige uitvinding te beperken. In de volgende voorbeelden worden de eigenschappen van de film als volgt onderzocht.
30
Hechtinasvermogen
Onder toepassing van een kruissnede beproevingsin-richting die in de handel verkrijgbaar is van BYK-Gardner, worden krassen met een afmeting van 3 cm x 6 cm gemaakt op 35 een regelmatige afstand van 3 mm op een voldoend gedroogde bekleding zonder het filmbasismateriaal te beschadigen en een kleefband met een afmeting van 2,5 cm x 5 cm werd vastgekleefd op elk van de krassen en vervolgens onmiddellijk losgetrokken. Het hechtingsvermogen werd vastgesteld aan het 40 percentage-oppervlak dat niet aan het kleefband was blijven ' Λ73 67 8 kleven doch op de film achterbleef.
Oppervlakteweerstandsvermogen
Na 1 uur bij 23°C en een relatieve vochtigheid van 5 60% gestaan te hebben werd een proeffilm onder een spanning van 500 V gebracht door toepassing van een oppervlakteweer-standsmeetinrichting zoals deze in de handel verkrijgbaar is van Gawaguchi, Japan en aangegeven als "Model R-503".
10 VOORBEELD 1 20 ml van een vinylideenchloridecopolymeer dat 70% vinylideenchloridemonomeren en acrylzuurmonomeren bevatte, aangegeven als IXAN WA50 van een oplosmiddel fase met een vaste stofgehalte van 55%, 20 ml van een 44%'s waterige 15 oplossing van een acrylhars, zoals in de handel verkrijgbaar is van Rohm & Haas, aangegeven als Rhoplex emulsie EXP-3028 en 3,0 ml van een bevochtigingsmiddel voor het verbeteren van het bekledingsvermogen werden in 1 liter gedestilleerd water gemengd en ingesteld op een pH van 6,5. Deze bekledingsoplos-20 sing werd aangebracht in een natte dikte van 12 pm op beide oppervlakken van een PET f ilmbasismateriaal en er werd bij 110°C gedurende 1 min gedroogd om een basisbekledingslaag op elk oppervlak van het filmbasismateriaal te vormen.
Een bekledingsoplossing voor een permanente antista-25 tische laag werd bereid door mengen van 10 g van een copoly-meer dat was gesynthetiseerd uit een ammoniumzout van ethyla-crylaat en een acrylzuur, zoals dat in de handel verkrijgbaar is van Indulor, aangegeven als "Indunal ECR71", 6 ml van een 44%'s waterige oplossing van acrylhars, zoals die in de 30 handel verkrijgbaar is van Rohm & Haas, aangegeven als "Rhoplex Emulsion EXP-3028, 15 ml van een 20%'s hardingsmid-deloplossing van triethoxylpropylthiolsilaan, verkocht door HULS onder de handelsnaam "Dynasylan 3201", in ethanol, 150 ml gedestilleerd water en 100 ml ethanol en de pH werd op 9,3 35 ingesteld met 0,1N NaOH. Deze bekledingsoplossing voor de permanente antistatische laag werd aangebracht in een natte dikte van 25 pm op één van de basisbekledingslagen en bij 105°C gedurende 60 seconden gedroogd.
5 g hydrofiele gelatine werden gemengd met 7 ml van 40 een 20%'s hardingsmiddel oplossing van triethoxylpropylthiol- 1! 1: . ' ! 9 silaan, verkocht door HULS onder de handelsnaam "Dynasylan 3201 " in ethanol, in een mengsel van 100 ml gedestilleerd water en 200 ml ethanol en de verkregen oplossing werd op een pH van 10 ingesteld met 0,1N NaOH om een bekledingsoplossing 5 te verschaffen voor een gelatine-onderbindingslaag die vervolgens tot een natte dikte van 25 pm door bekleden werd aangebracht op de andere basisbekledingslaag en bij 105°C gedurende 60 seconden werd gedroogd.
In een typische werkwijze werd op de permanente 10 antistatische laag een antihalatielaag gevormd alsmede een gelatinezilverhalogenide fotogevoelige laag en een beschermingslaag over de gelatine-onderbindingslaag.
VOORBEELD II
15 Op de wijze zoals gegeven in Voorbeeld I werd een fotografische film vervaardigd met uitzondering dat een hardingsmiddeloplossing, die werd gebruikt voor de permanente antistatisch laag, werd verkregen door mengen van 100 g methanol, 50 g water en 15 g 0,2N salpeterzuur gedurende 30 20 min en toevoegen van 30 g triethoxypropylthiolsilaan, verkocht door HULS onder de handelsnaam Dynasylan 3201, aan het mengsel.
VOORBEELD III
25 Op een gelijksoortige wijze als in Voorbeeld I werd een fotografische film vervaardigd met de uitzondering dat het filmbasismateriaal aan een corona-behandeling met een vermogen van 2,5 kilowatt werd onderworpen in plaats van bekleed te worden met de basisbekledingslaag.
30
VOORBEELD IV
Op gelijksoortige wijze als in Voorbeeld I werd een fotografische film vervaardigd met de uitzondering dat 15 ml van een 20%'s oplossing van gelijke hoeveelheden triethoxyl-35 propylthiolsilaan, op de markt gebracht door HULS onder de handelsnaam Dynasylaan 3201 en trimethoxysilan in ethanol, werden gebruikt als hardingsmiddeloplossing voor de permanente antistatische laag.
10073 67 10
VOORBEELD V
Op eendere wijze als in Voorbeeld 1 werd een fotografische film vervaardigd met de uitzondering dat de bekle-dingsoplossing voor de permanente antistatische laag in een 5 hoeveelheid van 2 g werd gebruikt.
VOORBEELD VI
De procedure van Voorbeeld I werd herhaald met uitzondering van het volgende: 10 Een bekledingsoplossing voor de permanente antista tische laag werd bereid door mengen van 50 ml van een natri-umzout van een copolymeer met een vastestofgehalte van 25% en een molecuulgewicht van 20.000, bestaande uit 75 mol% gesul-foneerd styreen en 25 mol% maleïnezuuranhydride, zoals in de 15 handel verkrijgbaar is van National Starch en Chemical Company, aangegeven als "VERSA TL-4", 5 ml van een 44%'s waterige oplossing van een acrylhars, zoals deze in de handel verkrijgbaar is van Rohm & Haas, aangegeven als "Rhoplex Emulsion EXP-3028, 10 ml van een 20%'s hardingsmiddeloplos- 20 sing van triethoxylpropylthiolsilaan, op de markt gebracht door HULS onder de handelsnaam "Dynasylan 3201" in ethanol en 200 ml gedestilleerd water waarna de pH op 9 werd ingesteld met 0,1N NaOH. Een bekledingsoplossing voor een gelatine-onderbindingslaag werd bereid door mengen van 5 g hydrofiele 25 gelatine, 6 ml van een 20%'s hardingsmiddeloplossing van triethoxylpropylthiolsilaan, verkocht door Huls onder de handelsnaam "Dynasylan 3201" in ethanol, 50 ml gedestilleerd water en 250 ml ethanol en instellen van de pH op 10 met 0,1N NaOH en daarna door bekleden aangebracht, gevolgd door drogen 30 bij 105°C gedurende 60 seconden.
VERGELIJKINGSVOORBEELD 1
Een fotografische film werd op dezelfde wijze als in Voorbeeld I vervaardigd met de uitzondering dat een aziridi-35 neverbinding, op de markt gebracht door Sybron onder de handelsnaam PFAZ-322, werd toegevoegd in een hoeveelheid van 4 ml voor de bekledingsoplossing van de permanente antistatische laag en een hoeveelheid van 3 ml voor de bekledingsoplossing voor de gelatine-onderbindingslaag.
40 inn7367 1 1
VERGELIJKINGSVOORBEELD II
Een fotografische film werd bereid op een wijze die eender was als die voor Voorbeeld I behalve dat een geen basisbekledingslaag op de PET film werd aangebracht.
5
VERGELIJKINGSVOORBEELD VI
Een fotografische film werd op dezelfde wijze als die van Voorbeeld VI aangebracht behalve dat geen basisbekledingslaag op de PET film werd aangebracht.
10 De fysische eigenschappen van de in de Voorbeelden en Vergelijkingsvoorbeelden verkregen films werden gemeten en worden gegeven in de hierna volgende Tabel I.
TABEL I
15 Voorbeeld Oppervlakteweerstand Hechtingsvermogen No. (Ω) (%) I 2,5 x 109 100 II 1,0 x 10'° 100 III 8,4 x 109 90 20 IV 5,4 x 108 88 V 1,8 x 10‘° 100 VI 3,9 x 1012 100 C.I 1,7 x 109 85 C.II 1,3 x 10'° 0 25 C.III 2,1 x 10'° 0
Zoals blijkt uit de gegevens zijn de fotografische films die zijn vervaardigd volgens de onderhavige uitvinding sterk superieur ten opzichte van gebruikelijke fotografische 30 films ten aanzien van antistatisch vermogen en hechtingsvermogen .
De onderhavige uitvinding is beschreven op toelichtende wijze en men dient te begrijpen dat de gebruikte terminologie bedoeld is om beschrijvend van aard te zijn in 35 plaats van beperkend.
Vele modificaties en variaties van de onderhavige uitvinding zijn mogelijk in het licht van bovengenoemde lering. Derhalve dient men te begrijpen dat binnen de omvang van de bijgaande conclusies de uitvinding anders kan worden 1 0 0736 7' 1 2 uitgevoerd dan specifiek is beschreven.
. : 6 7
Claims (5)
1 Werkwijze voor het vervaardigen van een fotografi sche film die een zodanige structuur heeft dat een filmbasis-materiaal aan een corona-behandeling wordt onderworpen of behandeld met een waterige oplossing die in hoofdzaak bestaat 5 uit een acryltype polymeer en vinylideenchloridehars om een basisbekledingslaag op elk oppervlak van het filmbasismateri-aal te vormen waarbij achtereenvolgens op het filmbasismate-riaal een permanente antistatische laag en een antihalatie-laag over het oppervlak gevormd worden en een gelatine-10 onderbindingslaag, een fotogevoelige laag en een beschermingslaag achtereenvolgens worden gevormd over het andere oppervlak waarin de permanente antistatische laag wordt gevormd onder toepassing van een bekledingsoplossing omvattende : 15 (1) een acryltypepolymeer of gelatine (2) een ionisch polymeer weergegeven door de volgende chemische formule I:
20 Ri R: -(-CH-C -)x-(-CHrC-)y- (I) R COOH Z waarin R een waterstofatom, een carbonzuur of een alkylgroep 25 is welke 1 tot 10 koolstofatomen omvat; R, een waterstofatoom of een alkylgroep met 1 tot 5 koolstofatomen; R2 een waterstofatoom of een methylgroep is; x en y elk een geheel getal van 1 of hoger voorstellen; Z -fenyl-S02"-G+; -alkyl-NH-CH2-SOi G+; waarbij in beide gevallen G is gekozen uit de groep 30 bestaande uit natrium, lithium, kalium, calcium en magnesium, -CO-X-(CH2)m-N+(R5)3D' waarin X -NH- of -0- voorstelt, m een geheel getal van 2 tot 4 voorstelt; R5 een waterstofatoom, een methylgroep of ethylgroep voorstelt en D OH, Cl of Br voorstelt of *1 0 07 36? ~G<1', °' waarin R5 en D elk zijn zoals boven gedefinieerd en 5 (3) een hardingsmiddel gekozen uit de silaanverbin- dingen weergegeven door de volgende chemische formules II en III en mengsels daarvan: (RjO) j—S i - (CH2) A (II) 1 0 waarin R3 een methylgroep of een ethylgroep voorstelt; A -Cl, -SH, -NH, of -0-CH,-CH-CH,; en - \ / 0 15. een geheel getal van 1 tot 5 voorstelt; (R,0)4-Si (III) waarin R4 een methylgroep of een ethylgroep voorstelt.
2. Werkwijze voor het vervaardigen van een fotogra fische film die een zodanige structuur heeft dat een filmba-sismateriaal dat aan een corona-behandeling wordt onderworpen of behandeld met een waterige oplossing die hoofdzaak bestaat uit een acryltype polymeer en een vinylideenchloridehars om 25 een basisbekledingslaag op elk oppervlak van het filmbasisma-teriaal te vormen, waarbij achtereenvolgens over het filmba-sismateriaal een permanente antistatische laag en een antiha-latielaag over één oppervlak ervan worden gevormd en een antistatische laag, een fotogevoelige laag en een bescher- 30 mingslaag achtereenvolgens over het andere oppervlak worden gevormd waarin de permanente antistatische laag wordt gevormd de toepassen van een bekledingsoplossing omvattende: (1) een acryltype polymeer of gelatine, (2) een ionisch polymeer weergegeven door de volgen-35 de chemische formule I: R1 *1 -C-CH-C -)I-(-CHrC-)./- R COOH Z (I) 40 *”1 0 07 36 7 waarin R een waterstofatoom, een carbonzuur of een alkylgroep met 1 tot 10 koolstofatomen voorstelt; R, een waterstofatoom of een alkylgroep met 1 tot 5 koolstofatomen voorstelt; R2 een waterstofatoom of een methylgroep voorstelt; x en y elk een 5 geheel getal van 1 of hoger voorstellen; Z -feny 1-S03'-G+ ; -alkyl-NH-CH2-S01'G+; waarbij in beide gevallen G is gekozen uit de groep bestaande uit natrium, lithium, kalium, calcium en magnesium, -CO-X-(CH2)m-N+ (R5)3D' waarin X -NH- of -0-voorstelt, m een geheel van 2 tot 4 voorstelt, R5 een water-10 stofatoom, een methylgroep of ethylgroep voorstelt en D OH, Cl of Br voorstelt of -TV·'"’ D- w 1 5 waarin R5 en D elk zijn zoals boven gedefinieerd en (3) een hardingsmiddel gekozen uit de silaanverbin-dingen weergegeven door de volgende chemische formules II en III en mengsels daarvan: 20 (R20)3-Si-(CH2)n-A (II) waarin R2 een methylgroep of een ethylgroep voorstelt; A -Cl, -SH, -NH2 of -0-CH2-CH-CH2 voorstelt; en 25 2 \ / 0 n een geheel getal van 1 tot 5 is; (RjO)4-Si (III) 30 waarin R3 een methylgroep of een ethylgroep voorstelt.
3. Werkwijze volgens conclusie 1 of 2 waarin de permanente laag wordt gevormd uit een bekledingsoplossing die in pH ligt tussen ongeveer 8 en 11.
4. Werkwijze volgens conclusie 1 of 2 waarin de permanente laag wordt gevormd uit een bekledingsoplossing met een vastestofgehalte van ongeveer 0,5 tot 10 gew.%.
5. Werkwijze volgens conclusie 1 of 2 waarin de fotogevoelige laag wordt gevormd uit een gelatine-zilverhalo-40 genide fotogevoelige emulsie. 0 0? 3 6 7
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL1007367A NL1007367C2 (nl) | 1997-10-27 | 1997-10-27 | Werkwijze voor de vervaardiging van fotografische film met een uitstekend antistatisch vermogen. |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL1007367 | 1997-10-27 | ||
| NL1007367A NL1007367C2 (nl) | 1997-10-27 | 1997-10-27 | Werkwijze voor de vervaardiging van fotografische film met een uitstekend antistatisch vermogen. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL1007367C2 true NL1007367C2 (nl) | 1999-04-28 |
Family
ID=19765903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL1007367A NL1007367C2 (nl) | 1997-10-27 | 1997-10-27 | Werkwijze voor de vervaardiging van fotografische film met een uitstekend antistatisch vermogen. |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| NL (1) | NL1007367C2 (nl) |
-
1997
- 1997-10-27 NL NL1007367A patent/NL1007367C2/nl not_active IP Right Cessation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0599741B1 (en) | Photographic support material comprising an antistatic layer and a heat-thickening barrier layer | |
| US4225665A (en) | Photographic element in which the antistatic layer is interlinked in the base | |
| JPH04501324A (ja) | 帯電防止層及びバリヤー層からなる写真支持体材料 | |
| US5318878A (en) | Cross-linked conductive polymers and antistat layers employing the same | |
| EP0030352B1 (en) | Unsubbed organic film coated with an opaque antistatic backing layer, and method of manufacturing | |
| JPS5938573B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| US5085981A (en) | Photographic silver halide element with protective layer | |
| JPH05119433A (ja) | プラスチツクフイルム | |
| NL1007367C2 (nl) | Werkwijze voor de vervaardiging van fotografische film met een uitstekend antistatisch vermogen. | |
| JPS5834821B2 (ja) | 写真感光材料 | |
| JPH07305032A (ja) | 写真感光材料用ポリエステルフィルム上の下引き層用のコーティング組成物 | |
| NL1007190C2 (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van fotografische film Werkwijze voor het vervaardigen van fotografische film met uitstekend antistatisch vermogen. | |
| JPS6023342B2 (ja) | プラスチツクフイルム支持体上に親水性コロイド層を接着せしめる方法 | |
| KR100229347B1 (ko) | 우수한 대전방지성을 지닌 포토그래픽용 필름의제조방법 | |
| JPH08337669A (ja) | ゼラチン相溶性帯電防止被覆組成物 | |
| US5604083A (en) | Antistatic film bases and photographic elements comprising said antistatic film bases | |
| JPH04274233A (ja) | 帯電防止フィルムベースおよび該帯電防止フィルムベースからなる写真材料 | |
| JPH11174625A (ja) | フォトグラフィック用フィルムの製造方法 | |
| JPH11143022A (ja) | 帯電防止性を有するフォトグラフィック用フィルムの製造方法 | |
| KR19990054801A (ko) | 전자사진식 복사용 오버헤드 프로젝션 필름 및 그의 제조방법 | |
| US5238706A (en) | Antistatic film bases and their process of manufacturing | |
| JP3184064B2 (ja) | 低剥離帯電性フイルム | |
| JP3136362B2 (ja) | 脱色性を改良したハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPS62150246A (ja) | 写真材料 | |
| JPH0359647A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PD2B | A search report has been drawn up | ||
| VD1 | Lapsed due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20020501 |