JP3136362B2 - 脱色性を改良したハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、導電性層上に、染料の
固体微粒子分散体を含有する層を設け、脱色性、接着性
が良好なハロゲン化銀写真感光材料に関する。

【０００２】

【発明の背景】近年、ハロゲン化銀写真感光材料は、静
電気の発生しない、いわゆる帯電防止処理を行い、優れ
た鮮鋭性や色再現性を有するように改良されてきてい
る。そのために表面比抵抗の低い導電層上にハレーショ
ン防止層を設ける方法がとられるようになってきた。そ
のためには、導電層と染料を含有する層の接着性が良い
こと、そして染料が写真処理によって脱色が良いことが
要求される。

【０００３】接着性を良くすることは、物理的にも化学
的にも染料を含有する層との親和力を高めることであ
り、このことは染料を導電層上に染着し易くしてしま
い、脱色性を劣化するという問題を生じている。

【０００４】

【発明の目的】本発明の目的は、導電性層上に染料含有
層を設けても脱色性に優れ、しかも両層の接着性、静電
防止効果も良好なハロゲン化銀写真感光材料を提供する
ことである。

【０００５】

【発明の構成】本発明の上記目的は、支持体上にイオン
性ポリマーまたは金属酸化物を含有する導電性層を設
け、該導電性層の上層として下記一般式［１］から
［９］で示される化合物の固体微粒子分散体の少なくと
も１種を含有する写真構成層を少なくとも１層有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料により達成さ
れる。 一般式［１］ Ａ＝Ｌ₁(Ｌ₂＝Ｌ₃)mＢ （Ａは2-ピラゾリン-5-オン酸性母核を、Ｂは4-アミノ
アリール基を、Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を、mは０又は１を
表し、かつ一般式［１］の化合物は、下記条件(１）〜
（４）の少なくとも１つを満足する。

【０００６】（１）Ｂ中にカルボキシル基、スルホンア
ミド基、アミノスルホニルアミノ基又はスルファモイル
基を少なくとも１つ有する。

【０００７】（２）Ａ中にスルファモイル基を少なくと
も１つ有する。

【０００８】（３）Ａ中に、カルボキシル基、スルホ
ンアミド基及びアミノスルホニルアミノ基から選ばれる
少なくとも１つを有する脂肪族基、 ヘテロ環基又は
ナフチル基を少なくとも１つ有する。

【０００９】（４）2-ピラゾリン-5-オン酸性母核に結
合したカルボキシル基、スルホンアミド基又はアミノス
ルホニルアミノ基を少なくとも１つ有する。） 一般式［２］

【００１０】

【化８】

【００１１】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂は置換基を、Ｒ₃、Ｒ₄は
連結基を介してカルボキシル基を有するフェニル基を、
Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を、ｎは０〜２の整数を表し、ｎが
２のとき、各Ｌ₂、Ｌ₃は同一でも、異なってもよい。） 一般式［３］

【００１２】

【化９】

【００１３】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂はカルボキシル基又はカ
ルボキシル基を有する基を、Ｒ₃、Ｒ₄は水素原子又はカ
ルボキシル基を有しない置換基を、Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基
を、ｎは０〜２の整数を表し、ｎが２のとき、各−Ｌ₂
＝Ｌ₃−は同一でも、異なってもよい。） 一般式［４］

【００１４】

【化１０】

【００１５】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂は置換基を表し、Ｒ₃、
Ｒ₄はカルボキシル基を有するアルキル基、シクロアル
キル基、ナフチル基又はヘテロ環基を表す。

【００１６】Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を表し、ｎは０〜２の
整数を表し、ｎ＝２のとき、各−Ｌ₂＝Ｌ₃−は同一でも
異なっていてもよい。） 一般式［５］

【００１７】

【化１１】

【００１８】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂は置換基を表し、Ｒ₃、
Ｒ₄はｍ-カルボキシフェニル基又はｏ-カルボキシフェ
ニル基を表す。Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃、Ｌ₄、Ｌ₅はメチン基を
表し、ｎ₁、ｎ₂は０又は１を表す。） 一般式［６］

【００１９】

【化１２】

【００２０】（式中、Ｒ₁は置換基を表し、Ｒ₂は水素原
子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
リール基、ヘテロ環基を表す。

【００２１】Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を表し、Ｅはオキソノ
ール染料を形成するに必要な酸性核を表し、ｎは０〜２
の整数を表し、ｎ＝２のとき、各−Ｌ₂＝Ｌ₃−は同一で
も異っていてもよい。更に一般式［６］の化合物は少な
くとも２つのカルボキシル基、スルホンアミド基、スル
ファモイル基を有する。） 一般式［７］ Ａ＝Ｌ₁(Ｌ₂＝Ｌ₃)mＢ （Ａは2-ピラゾリン-5-オン酸性母核を、Ｂは４位にア
ルケニル基、アルキニル基もしくはヘテロ環基の少なく
とも１つで置換された置換アミノ基、又は環状アミノ基
を有するアリール基を、Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を、ｍは０
又は１を表し、かつ一般式［７］の化合物は、Ａ中にカ
ルボキシフェニル基、スルホンアミドフェニル基又はア
ミノスルホニルアミノフェニル基の少なくとも１つを有
する。） 一般式［８］

【００２２】

【化１３】

【００２３】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂はアルケニル基、シクロ
アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルカルボ
ニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、
アリールスルフィニル基、カルバモイル基、スルファモ
イル基、シアノ基、アミノ基、スルホンアミド基、アミ
ド基、ウレイド基、チオウレイド基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カ
ルボキシル基又はヒドロキシル基を表し、Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ
₃、Ｌ₄、Ｌ₅はメチン基を表し、ｎ₁、ｎ₂は０又は１を
表す。） 一般式［９］

【００２４】

【化１４】

【００２５】（式中、Ｚ₁、Ｚ₂は５または６員環を形成
するに必要な原子群を表し、Ｘ₁、Ｘ₂は酸素原子、また
はイオウ原子を表し、Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を表す。ｎは
０，１または２を表し、ｎが２のとき、２つのＬ₂、Ｌ₃
は同一でも異なってもよい。Ｚ₁、Ｚ₂により形成される
環の少なくとも１つは、カルボキシル基、スルホンアミ
ド基、スルファモイル基の少なくとも１つを有し、か
つ、一般式［９］で示される化合物全体として、カルボ
キシル基、スルホンアミド基、スルファモイル基を少な
くとも２つ有する。）以下に本発明を更に詳細に説明す
る。

【００２６】本発明の導電性層に用いられるイオン性導
電性ポリマーとしては、スルホン酸基、硫酸エステル
基、４級アンモニウム塩、３級アモニウム塩、カルボキ
シル基、ポリエチレンオキシド基から選ばれる少なくと
も１つの導電性基を有するポリマーが挙げられる。これ
らの基のうちスルホン酸基、硫酸エステル基、４級アン
モニウム塩基が好ましい。導電性基はポリマー１分子当
たり５重量％以上を必要とする。イオン性の導電性ポリ
マー中にはさらにヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ
基、アジリジン基、活性メチレン基、スルフィン酸基、
アルデヒド基、ビニルスルホン基が含まれることが好ま
しいが、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、アジリ
ジン基、アルデヒド基が特に好ましい。これらの基はポ
リマー１分子当たり５重量％以上必要とする。ポリマー
の分子量は、3000〜100000であり、好ましくは3500〜50
000である。

【００２７】以下、本発明に用いられるイオン性導電性
ポリマーの好ましい化合物例を挙げるがこれに限定され
るものではない。

【００２８】

【化１５】

【００２９】尚、上記化合物例において、ｘ，ｙはそれ
ぞれ単量体成分のモル％を、またＭは平均分子量（本明
細書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。）を表
す。イオン性ポリマーの他の具体例としては特願平1-19
7191号第７頁〜第19頁記載のＡ-４〜Ａ-50が挙げられ
る。

【００３０】これらのポリマーは市販又は常法により得
られるモノマーを重合することにより容易に合成するこ
とができる。また単独で、または種々の親水性もしくは
疎水性のバインダーと混合使用して層を形成することが
できる。該バインダーの具体例は特願平1-197191号第20
頁〜第21頁に記載されており、疎水性ポリマーの具体例
としては同明細書第22頁〜第25頁記載のＢ-１〜Ｂ-15が
挙げられる。

【００３１】また、本発明の導電性層に用いる金属酸化
物は、酸化インジウム、酸化スズ或いはアンチモン原子
又はリン原子をドープした金属酸化物のいずれか又はこ
れらの組合わせを用いることができる。

【００３２】酸化インジウムとしては、酸化第１インジ
ウム(In₂O)と、酸化第２インジウム(In₂O₃)とが知られ
ているが、酸化第２インジウムを用いるのが好ましい。

【００３３】又、酸化スズとしては、酸化第１スズ (Sn
O)と酸化第２スズ(SnO₂)が知られているが、好ましく用
いられるのは酸化第２スズである。

【００３４】アンチモン原子、インジウム原子又はリン
原子をドープした金属酸化物としては具体的には、酸化
スズ及び酸化インジウムを挙げることができる。前記金
属酸化物にアンチモン、インジウム又はリンをドーピン
グするにはスズやインジウムのハロゲン化物、アルコキ
シ化物或いは硝酸塩化合物とアンチモン又はリンのハロ
ゲン化物、アルコキシ化物或いは硝酸塩化物と混合して
酸化焼成して得ることができる。これらの金属化合物
は、容易に入手することができる。又アンチモン、イン
ジウム又はリンをドープする際の好ましい含有率は、ス
ズやインジウムに対して0.5〜10％の重量％が好まし
い。こらの無機化合物の添加方法は、ゼラチンなどの親
水性コロイドに分散、或いはアクリル酸やマレイン酸な
どの高分子化合物に分散して添加することが好ましい。
バインダー当たりの担持の割合は１〜100重量％が好ま
しい。

【００３５】支持体としては写真用のものがすべて使用
することができるが、好ましくは可視光を90％以上透過
するように作られたポリエチレンテレフタレートまたは
セルローストリアセテート等の透明支持体である。

【００３６】これらの透明支持体は、コロナ放電処理を
した後、ラテックスポリマーを含有する下引層が塗設さ
れていてもよい。コロナ放電処理は、エネルギー値とし
て１mw〜１kw/m²・minが特に好ましく適用される。また
特に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電性層を塗
設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。

【００３７】本発明の導電性層は硬化されていることが
好ましく、硬化する化合物としては、アジリジン系、ト
リアジン系、ビニルスルホン系、アルデヒド系、シアノ
アクリレート系、ペプチド系、エポキシ系各化合物が好
ましい。特に２官能、３官能で分子量が600以下のもの
が好ましい。

【００３８】本発明の導電性層は感光性層より支持体側
にあってもよいし、感光層の反対側、いわゆる背面にあ
っても良い。

【００３９】次に前記一般式で表される本発明の染料に
ついて説明する。

【００４０】一般式［１］におけるＡ、Ｂ、Ｌ₁、Ｌ₂、
Ｌ₃で表される各基の具体的なものとしては特願平1-331
588号第８頁第３行目から第18頁第14行目に記載のもの
が挙げられ、一般式［１］で表される化合物の具体例と
しては、下記化合物の他、特願平1-331588号第19頁から
第49頁に記載の(２)から(６)、(８)から(102)が挙げら
れる。

【００４１】

【化１６】

【００４２】一般式［２］におけるＲ₁、Ｒ₂で表される
置換基としてはアルキル基、アルケニル基、シクロアル
キル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルカルボニル
基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリ
ールスルフィニル基、カルバモイル基、スルファモイル
基、シアノ基、アミノ基、スルホンアミド基、アミド
基、ウレイド基、チオウレイド基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カル
ボキシル基、ヒドロキシル基が好ましいものとして挙げ
ることができ、具体例としては特願平2-2211号第７頁第
18行目から第17頁第５行目に記載のものが挙げられる。

【００４３】又、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃で表される
各基の具体的なものとしては特願平2-2211号第17頁第６
行目から第21頁第19行目に記載のものが挙げられ、一般
式［２］で表される化合物の具体例としては下記化合物
の他、特願平2-2211号第23頁から第35頁に記載の２、４
から73が挙げられる。

【００４４】

【化１７】

【００４５】一般式［３］においてＲ₁又はＲ₂で表され
るカルボキシル基を有する基の具体的なものとしては特
願平2-2212号第13頁第４行目から第15頁第20行目に記載
のものが挙げられ、Ｒ₃又はＲ₄で表されるカルボキシル
基を有しない置換基としてはアルキル基、アルケニル
基、シクロアルキル基、アルキニル基、アリール基、ヘ
テロ環基が好ましいものとして挙げられ、その具体例と
しては特願平2-2212号第７頁第12行目から第12頁第16行
目に記載のものが挙げられる。

【００４６】又、Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃で表される各基の具体
的なものとしては特願平2-2212号第12頁第17行目から第
13頁第３行目に記載のものが挙げられ、一般式［３］で
表される化合物の具体例としては下記化合物の他、特願
平2-2212号第17頁から第29頁に記載の化合物２から５、
７から124が挙げられる。

【００４７】

【化１８】

【００４８】一般式［４］においてＲ₁又はＲ₂で表され
る置換基としては前記一般式［２］におけるＲ₁、Ｒ₂で
表される置換基の好ましいものとして挙げたものが挙げ
られ、具体例としては特願平2-1784号第８頁第１行目か
ら第17頁第15行目に記載のものが挙げられる。Ｒ₃、
Ｒ₄、Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃で表される各基の具体的なものとし
て特願平2-62号第17頁第16行目から第19頁第２行目に記
載のものが挙げられ、一般式［４］で表される化合物の
具体例としては下記化合物の他、特願平2-62号第20頁か
ら第26頁に記載の化合物２から８、10から88が挙げられ
る。

【００４９】

【化１９】

【００５０】一般式［５］において、Ｒ₁又はＲ₂で表さ
れる置換基としては前記一般式［２］におけるＲ₁、Ｒ₂
で表される置換基の好ましいものとして挙げたものが挙
げられ、具体例及び好ましいものとしては特願平1-3355
70号第７頁第11行目から第16頁第13行目に記載のものが
挙げられる。Ｒ₃又はＲ₄で表される基の具体的なものと
しては特願平1-335570号第16頁第14行目から第17頁第１
行目に記載のものが挙げられ、Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃、Ｌ₄、Ｌ
₅で表されるメチン基の具体的なものとしては特願平2-6
2号第18頁第12行目から第19頁第２行目に記載のメチン
基が挙げられる。一般式［５］で表される化合物の具体
例としては下記化合物の他、特願平1-335570号第18頁か
ら第23頁に記載の化合物２、６から69が挙げられる。

【００５１】

【化２０】

【００５２】一般式［６］においてＲ₁で表される置換
基としては前記一般式［２］におけるＲ₁で表される置
換基の好ましいものとして挙げたものが挙げられ、Ｒ₁
又はＲ ₂で表される基の具体例としては特願平2-386号第
８頁第10行目から第18頁第８行目に記載のものが挙げら
れる。Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃、Ｅで表される各基の具体的なも
のとしては特願平2-386号第18頁第９行目から第25頁第
３行目に記載のものが挙げられ、一般式［６］で表され
る化合物の具体例としては下記化合物の他、特願平2-38
6号第26頁から第65頁に記載の化合物(２)から(15)、(1
7)から(116)が挙げられる。

【００５３】

【化２１】

【００５４】一般式［７］において、Ａ、Ｂ、Ｌ₁、
Ｌ₂、Ｌ₃で表される各基の具体的なものとしては特願平
1-342348号第７頁第６行目から第17頁第20行目に記載の
ものが挙げられ、一般式［７］で表される化合物の具体
例としては、下記化合物の他、特願平1-342348号第19頁
から第35頁に記載の化合物(２)から(12)、(14)から(54)
が挙げられる。

【００５５】

【化２２】

【００５６】一般式［８］においてＲ₁、Ｒ₂、Ｌ₁、
Ｌ₂、Ｌ₃、Ｌ₄、Ｌ₅で表される各基の具体的なものとし
ては特願平2-1786号第７頁第20行目から第17頁第６行目
に記載のものが挙げられ、一般式［８］で表される化合
物の具体例としては下記化合物の他、特願平2-1786号第
18頁から第23頁に記載の化合物２から７、９から58が挙
げられる。

【００５７】

【化２３】

【００５８】一般式［９］においてＺ₁、Ｚ₂、Ｘ₁、Ｘ₂
により形成される環の例としては、特願平2-8947号第８
頁から第16頁に記載のＢ−１からＢ−49(ケト型で表示)
が挙げられ、上記の環に置換しうる基及びＬ₁、Ｌ₂、Ｌ
₃で表される各基の具体的なものとしては特願平2-8947
号第16頁第11行目から第28頁第２行目、第28頁第15行目
から第29頁第７行目に記載のものが挙げられる。

【００５９】一般式［９］で表される化合物の具体例と
しては下記化合物の他、特願平2-8947号第29頁から第50
頁に記載の化合物２、６から72が挙げられる。

【００６０】

【化２４】

【００６１】一般式［１］から［９］で表される化合物
はハロゲン化銀写真感光材料中に目的に応じて、例えば
光学濃度が0.05から3.0の範囲になるように使用され
る。又、固体微粒子分散体で感光材料中に添加する方法
は、任意であり、例えば界面活性剤を用いボールミール
等で水中に分散して固体微粒子状態で添加する方法等を
用いることができる。添加方法として、例えば米国特許
第4,857,446号に記載されている方法がその具体例とし
て挙げられる。

【００６２】

【実施例】以下実施例により本発明の効果を具体的に例
証する。

【００６３】実施例１ コロナ放電処理したポリエチレンテレフタレート支持体
上に塩化ビニリデン−メチルメタアクリレート−グリシ
ジルアクリレート−メタアクリル酸（90：６：３：１）
共重合体の水性分散液を両面に塗設し200℃で乾燥し
た。その一方の面にポリグリセロールとエピクロルヒド
リンの反応生成物、ノニルフェノキシポリエチレングリ
コール及び平均粒径２μmの合成シリカマット剤を分散
したゼラチン水溶液をゼラチンの付量が0.3g/m²となる
ように塗布し、200℃で乾燥した。又、他方の面には下
記導電層を設けた。

【００６４】 ・イオン性ポリマーまたは金属酸化物（導電剤） 表に記載 ・ラテックス（スチレン−メチルメタアクリレート−アクリルアミド−メタア クリル酸）モル比50:30:10:10 0.3g/m² ・ノニルフェノキシポリエチレングリコール 0.1g/m² ・ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンの反応生成物 0.1g/m² になるよう各成分を含む水性分散液を塗布し、120℃で
乾燥した。

【００６５】導電層上に下記の一般式［１］から［９］
で表される化合物を含有する層を設けた。

【００６６】 ・ゼラチン 表に記載 ・一般式［１］から［９］で表される化合物（染料） 0.1g/m² ・ポリエチレングリコールとエピクロルヒドリンの反応生成物 ０．１ｇ／
ｍ^２ ・二酸化ケイ素（平均粒径２μｍ） 0.069g/m² ・フッ素化オクチルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 0.06g/m² ・ビスビニルスルホンメチルエーテル 0.03g/m² 各成分が上記付量になるよう各成分を含有するpH4.0の
水性分散液を20μmの厚さで塗布し、200℃で乾燥した。

【００６７】各試料を市販のＰＱ現像液（pH10.8）で35
℃、12秒間現像した後、定着、水洗、乾燥した。

【００６８】各試料について染料の脱色性、導電層と染
料含有層との接着性及び静電防止能を評価した。

【００６９】脱色性は現像処理後の試料を５枚重ね、目
視で観察し、５段階ランク法で評価した。ランク「５」
が最良、ランク「１」が最悪である（以下同じ）。

【００７０】接着性は、キズ付法で評価した。キズ付法
は１cm平方中に縦横各10本の切り込み線を入れ、その上
にセロハンテープを貼りつけて剥ぐことによる評価法で
ある。これも５段階ランク法で評価した。

【００７１】静電防止能は現像処理後の試料をネオプレ
ンゴムローラーで10回こすり、直径５mmの紙片の吸い付
き度を５段階ランク法で評価した。

【００７２】結果を表１から表９に示す。

【００７３】

【表１】

【００７４】

【表２】

【００７５】

【表３】

【００７６】

【表４】

【００７７】

【表５】

【００７８】

【表６】

【００７９】

【表７】

【００８０】

【表８】

【００８１】

【表９】

【００８２】導電剤Ａ アンチモンを１％ドープした平
均粒径0.02μmの微粒子SnO₂ 導電剤Ｂ インジウムを１％ドープした平均粒径0.03μ
mの微粒子SnO₂ 比較染料ａからｆを次に示す。

【００８３】

【化２５】

【００８４】

【化２６】

【００８５】各表の結果より本発明の染料を用いるとイ
オン性ポリマーや金属酸化物を含有する導電層上に染料
含有層を設けた場合であっても脱色性が良く、しかも接
着性、静電防止能も良好に保持されていることがわか
る。

【００８６】

【発明の効果】本発明により、導電層上に染料含有層を
設けても脱色性に優れ、しかも両層の接着性静電防止効
果も良好なハロゲン化銀写真感光材料を提供することが
できた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03C 1/85 G03C 1/83

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上にイオン性ポリマーまたは金属
   酸化物を含有する導電性層を設け、該導電性層の上層と
   して下記一般式［１］から［９］で示される化合物の固
   体微粒子分散体の少なくとも１種を含有する写真構成層
   を少なくとも１層有することを特徴とするハロゲン化銀
   写真感光材料。 一般式［１］ Ａ＝Ｌ₁(Ｌ₂＝Ｌ₃)mＢ （Ａは2-ピラゾリン-5-オン酸性母核を、Ｂは4-アミノ
   アリール基を、Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を、mは０又は１を
   表し、かつ一般式［１］の化合物は、下記条件(１）〜
   （４）の少なくとも１つを満足する。 （１）Ｂ中にカルボキシル基、スルホンアミド基、アミ
   ノスルホニルアミノ基又はスルファモイル基を少なくと
   も１つ有する。 （２）Ａ中にスルファモイル基を少なくとも１つ有す
   る。 （３）Ａ中に、カルボキシル基、スルホンアミド基及
   びアミノスルホニルアミノ基から選ばれる少なくとも１
   つを有する脂肪族基、 ヘテロ環基又は ナフチル基を
   少なくとも１つ有する。 （４）2-ピラゾリン-5-オン酸性母核に結合したカルボ
   キシル基、スルホンアミド基又はアミノスルホニルアミ
   ノ基を少なくとも１つ有する。） 一般式［２］ 【化１】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂は置換基を、Ｒ₃、Ｒ₄は連結基を介し
   てカルボキシル基を有するフェニル基を、Ｌ₁〜Ｌ₃はメ
   チン基を、ｎは０〜２の整数を表し、ｎが２のとき、各
   Ｌ₂、Ｌ₃は同一でも、異なってもよい。） 一般式［３］ 【化２】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂はカルボキシル基又はカルボキシル基
   を有する基を、Ｒ₃、Ｒ₄は水素原子又はカルボキシル基
   を有しない置換基を、Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を、ｎは０〜
   ２の整数を表し、ｎが２のとき、各−Ｌ₂＝Ｌ₃−は同一
   でも、異なってもよい。） 一般式［４］ 【化３】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂は置換基を表し、Ｒ₃、Ｒ₄はカルボキ
   シル基を有するアルキル基、シクロアルキル基、ナフチ
   ル基又はヘテロ環基を表す。Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を表
   し、ｎは０〜２の整数を表し、ｎ＝２のとき、各−Ｌ₂
   ＝Ｌ₃−は同一でも異なっていてもよい。） 一般式［５］ 【化４】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂は置換基を表し、Ｒ₃、Ｒ₄はｍ-カル
   ボキシフェニル基又はｏ-カルボキシフェニル基を表
   す。Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃、Ｌ₄、Ｌ₅はメチン基を表し、ｎ₁、
   ｎ₂は０又は１を表す。） 一般式［６］ 【化５】 （式中、Ｒ₁は置換基を表し、Ｒ₂は水素原子、アルキル
   基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘ
   テロ環基を表す。Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を表し、Ｅはオキ
   ソノール染料を形成するに必要な酸性核を表し、ｎは０
   〜２の整数を表し、ｎ＝２のとき、各−Ｌ₂＝Ｌ₃−は同
   一でも異っていてもよい。更に一般式［６］の化合物は
   少なくとも２つのカルボキシル基、スルホンアミド基、
   スルファモイル基を有する。） 一般式［７］ Ａ＝Ｌ₁(Ｌ₂＝Ｌ₃)mＢ （Ａは2-ピラゾリン-5-オン酸性母核を、Ｂは４位にア
   ルケニル基、アルキニル基もしくはヘテロ環基の少なく
   とも１つで置換された置換アミノ基、又は環状アミノ基
   を有するアリール基を、Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を、ｍは０
   又は１を表し、かつ一般式［７］の化合物は、Ａ中にカ
   ルボキシフェニル基、スルホンアミドフェニル基又はア
   ミノスルホニルアミノフェニル基の少なくとも１つを有
   する。） 一般式［８］ 【化６】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂はアルケニル基、シクロアルキル基、
   アリール基、ヘテロ環基、アルキルカルボニル基、アリ
   ールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリール
   オキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリール
   スルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスル
   フィニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、シア
   ノ基、アミノ基、スルホンアミド基、アミド基、ウレイ
   ド基、チオウレイド基、アルコキシ基、アリールオキシ
   基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルボキシル基
   又はヒドロキシル基を表し、Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃、Ｌ₄、Ｌ₅
   はメチン基を表し、ｎ₁、ｎ₂は０又は１を表す。） 一般式［９］ 【化７】 （式中、Ｚ₁、Ｚ₂は５または６員環を形成するに必要な
   原子群を表し、Ｘ₁、Ｘ₂は酸素原子、またはイオウ原子
   を表し、Ｌ₁〜Ｌ₃はメチン基を表す。ｎは０，１または
   ２を表し、ｎが２のとき、２つのＬ₂、Ｌ₃は同一でも異
   なってもよい。Ｚ₁、Ｚ₂により形成される環の少なくと
   も１つは、カルボキシル基、スルホンアミド基、スルフ
   ァモイル基の少なくとも１つを有し、かつ、一般式
   ［９］で示される化合物全体として、カルボキシル基、
   スルホンアミド基、スルファモイル基を少なくとも２つ
   有する。）