MD3257F1 - Procedeu de recuperare a galiului si arsenului din deseul format dupa cresterea epitaxiala astraturilor semiconductoare de tip A3B5 - Google Patents

Procedeu de recuperare a galiului si arsenului din deseul format dupa cresterea epitaxiala astraturilor semiconductoare de tip A3B5

Info

Publication number
MD3257F1
MD3257F1 MDA20060083A MD20060083A MD3257F1 MD 3257 F1 MD3257 F1 MD 3257F1 MD A20060083 A MDA20060083 A MD A20060083A MD 20060083 A MD20060083 A MD 20060083A MD 3257 F1 MD3257 F1 MD 3257F1
Authority
MD
Moldova
Prior art keywords
gallium
arsenic
solution
arsenate
semiconductor layers
Prior art date
Application number
MDA20060083A
Other languages
English (en)
Other versions
MD3257G2 (ro
Inventor
Simion Baranov
Boris Cinic
Joan Redwing
Original Assignee
Firma De Productie Si Comert "Discret Element" Srl
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Firma De Productie Si Comert "Discret Element" Srl filed Critical Firma De Productie Si Comert "Discret Element" Srl
Priority to MDA20060083A priority Critical patent/MD3257G2/ro
Publication of MD3257F1 publication Critical patent/MD3257F1/ro
Publication of MD3257G2 publication Critical patent/MD3257G2/ro

Links

Landscapes

  • Removal Of Specific Substances (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Abstract

Inventia se refera la procedeele de recuperare a galiului si arsenului din deseuri, in special din deseurile formate dupa cresterea epitaxiala a straturilor semiconductoare. Procedeul de recuperare a galiului si arsenului din deseul format dupa cresterea epitaxiala a straturilor semiconductoare detip A3B5 include dizolvarea deseului in solutie de acid azotic 33% in acid clorhidric, modificarea pH-ului solutiei de la 0,5…1,5 pana la 3,0…4,5 prin adaugarea unei solutii de baza cu precipitarea ulterioara a arseniatului de galiu. Precipitatul obtinut se filtreaza, se spala cu apa deionizata si se usuca la temperatura de 90…120°C timp de 60 min, apoi se descompune in oxid de galiu si oxid de arsen. Arsenul este redus cu carbon din oxid la temperatura de 680…780°C, iar galiul este redus intr-un container de grafit la temperatura de 750…860°Cin flux de hidrogen. Precipitatul de arseniat de galiu poate fi obtinut si prin dizolvarea suplimentara, pana la saturatie, a plachetelor din GaAs insolutie acida obtinuta la dizolvarea deseului, iar solutia saturata se stocheaza timp de 22 de zilela temperatura camerei pentru precipitarea spontana a arseniatului, dupa care solutia cu arseniat se incalzeste pana la 60°C, in vid, timp de 2…4 ore.
MDA20060083A 2006-03-17 2006-03-17 Procedeu de recuperare a galiului şi arsenului din deşeul format după creşterea epitaxială a straturilor semiconductoare de tip A3B5 MD3257G2 (ro)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDA20060083A MD3257G2 (ro) 2006-03-17 2006-03-17 Procedeu de recuperare a galiului şi arsenului din deşeul format după creşterea epitaxială a straturilor semiconductoare de tip A3B5

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDA20060083A MD3257G2 (ro) 2006-03-17 2006-03-17 Procedeu de recuperare a galiului şi arsenului din deşeul format după creşterea epitaxială a straturilor semiconductoare de tip A3B5

Publications (2)

Publication Number Publication Date
MD3257F1 true MD3257F1 (ro) 2007-02-28
MD3257G2 MD3257G2 (ro) 2007-09-30

Family

ID=37845209

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
MDA20060083A MD3257G2 (ro) 2006-03-17 2006-03-17 Procedeu de recuperare a galiului şi arsenului din deşeul format după creşterea epitaxială a straturilor semiconductoare de tip A3B5

Country Status (1)

Country Link
MD (1) MD3257G2 (ro)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MD196Z (ro) * 2009-04-15 2010-11-30 Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы Coloană de diode de temperatură înaltă
MD176Z (ro) * 2009-04-15 2010-10-31 Институт Электронной Инженерии И Промышленных Технологий Академии Наук Молдовы Procedeu de fabricare a diodei de tensiune înaltă

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5967330A (ja) * 1982-10-08 1984-04-17 Dowa Mining Co Ltd ガリウム分離法
MD2937C2 (ro) * 2004-02-05 2006-09-30 Производственно-Коммерческая Фирма "Discret Element" Ооо Procedeu de curăţire a utilajului tehnologic de deşeuri după creşterea epitaxiala a straturilor semiconductoare de tipul A3B5

Also Published As

Publication number Publication date
MD3257G2 (ro) 2007-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102409165B (zh) 一种高砷冶金废料梯度脱砷方法
CN102433440A (zh) 一种高砷冶金废料中砷的有价回收方法
US20200140974A1 (en) Method of removing iron ions from a solution containing neodymium, praseodymium, dysprosium and iron
CN102061386A (zh) 一种红土镍矿浸出液中氧化除铁的方法
CN104388711A (zh) 稀土氧化物熔渣浸出回收稀土方法
BR112013008972B1 (pt) método para tratamento de uma solução contendo sulfato de zinco
MD3257F1 (ro) Procedeu de recuperare a galiului si arsenului din deseul format dupa cresterea epitaxiala astraturilor semiconductoare de tip A3B5
JP2015086436A (ja) 有価物の回収方法
CN103086440B (zh) 一种处理草酸钴废料的方法
CN103667706B (zh) 一种金铂合金废料中金的分离提纯方法
JP2013209267A (ja) 硫酸マンガンの製造方法
JP5447824B2 (ja) 亜硝酸ロジウム錯イオン溶液の精製方法と、そのアンモニウム塩の製造方法。
JPH03207825A (ja) 希土類元素と鉄を含有する原料からの希土類元素の分離回収法
JP2009097024A (ja) ロジウムの精製方法
JP2017179563A (ja) 脱硝触媒の処理方法
CN101343064B (zh) 从水晶石废料中分离提纯二氧化硅和氯化亚铈的方法
CN110938754A (zh) 镓的回收方法
CN114517264B (zh) 一种基于砷钨杂多酸的提钨和脱砷的协同冶金方法
CN104003435A (zh) 一种降低硫化锌中铁离子含量的方法
CN104962757B (zh) 一种氯化锂溶液深度除镁的方法
JP4961603B2 (ja) ガリウム含有溶液の処理方法
JP6086801B2 (ja) ガリウムと亜鉛の分離方法
CN102453808A (zh) 从含铜载金炭中回收铜的方法
CN113512651B (zh) 一种从igzo靶材中分别回收铟和镓的方法
JP2014025140A (ja) 銅ガリウム廃材からガリウムを回収する方法。

Legal Events

Date Code Title Description
FG4A Patent for invention issued
KA4A Patent for invention lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration)
MM4A Patent for invention definitely lapsed due to non-payment of fees