KR970701874A - 안정한 이오노머성 감광성 내식막 유화액 및 이의 제조 방법 및 용도(stable, inomeric photoresist emulsion and process of preparation and use threof) - Google Patents

안정한 이오노머성 감광성 내식막 유화액 및 이의 제조 방법 및 용도(stable, inomeric photoresist emulsion and process of preparation and use threof) Download PDF

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KR970701874A KR1019960704951A KR19960704951A KR970701874A KR 970701874 A KR970701874 A KR 970701874A KR 1019960704951 A KR1019960704951 A KR 1019960704951A KR 19960704951 A KR19960704951 A KR 19960704951A KR 970701874 A KR970701874 A KR 970701874A
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알랜 프레드릭 벡넬
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다니엘 조셉 하트
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Abstract

본 발명은 수인성의 안정한 감광성 내식막 조성물 및 이들의 제조 방법 및 용도에 관한 것이다. 이들 조성물은 증가된 전단 및 저장 안정성을 특징으로 한다. 감광성 내식막 조성물은 22% 이하로 증화된 카복실화 수지 및 폴리(에틸렌-산화물) 분절을 함유하는, 광중합성 단량체 및 광개시제의 수성 에멀션을 포함한다. 중화는 유기 또는 무기 염기, 또는 그의 혼합물을 사용하여 수행된다. 감광성 내식막 조성물은 전자 배선판의 회로 트레이스의 제작에 있어서 선택적으로 피복하고 보호된 표면을 에칭 공정과 같은 부식 환경으로 처리하는데 유용하다.

Description

안정한 이오노머성 감광성 내식막 유화액 및 이의 제조 방법 및 용도(STABLE, INOMERIC PHOTORESIST EMULSION AND PROCESS OF PREPARATION AND USE THEREOF)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (45)

  1. (a) 카복실산 함유 수지; (b) 광중합성 단량체; (c) 광개시제; (d) 유기 또는 무기 염기, 및 그의 혼합물에서 선택된 염기; 및 (e) 폴리(에틸렌 산화물) 분절을 함유하는 비이온성 계면활성제의 수성 에멀션(이때, 염기는 수지상에 산 당량 당 약 0.22 당량 이하의 양으로 존재하고, 성부(a) 내지 (d)는 금속 표면상에 이미지를 형성하는 현상가능한 수성 알칼리인 수인성의 안정하고 균질한 감광성 내식막 피복 물질을 제공하기에 충분한 양으로 엠러션중에 존재한다)을 포함하는, 증가된 저장 및 전단 안정성을 특징으로 하는 수성 감광성 내식막 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 염기의 양이 수지에 대해 산 당량당 약 0.05 내지 약 0.2 당량의 범위로 존재하는 감광성 내식막 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 수지가 부타디엔/아크릴로니트릴/메타크릴산, 스티렌/아크릴산, 스티렌/부타디엔/아크릴산, 스티렌/부타디엔/메타크릴산, 스티렌/부타디엔/이타콘산, 스티렌/부타디엔/말레산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/아크릴산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/메타크릴산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/이타콘산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/말레산, 스티렌/에틸 아크릴레이트/ 메타크릴산, 스티렌/말레산 무수물, 스티렌/메타크릴산, 염화 비닐리덴/메타크릴산 및 아크릴 공중합체 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 감광성 내식막 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 수지가 약 60℃ 이상의 유리 전이 온도를 갖는 수지인 감광성 내식막 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 광중합성 단량체가 아크릴레이트인 감광성 내식막 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 아크릴레이트가 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 에톡실레이트 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 프로폭실레이트 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 에톡실레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 프로폭실레이트 트리메타크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 페녹시에틸 메타크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 네오펜틸 프로폭실레이트 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 하이드록시펜타크릴레이트 및 폴리에틸렌 글리콜디아크릴레이트 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군으로 선택되는 감광성 내식막 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 광중합성 단량체가 에톡시화된 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트이고, 수지가 에스테르화된 스티렌/말레산 무수물 공중합체인 감광성 내식막 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 공개시제가 벤조인 에테르, 벤질 케톤, 페논 및 유도체 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군으로 선택되는 감광성 내식막 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 염기가 알칼리 금속 염, 아민 및 그의 혼합물로 구성된 군으로 선택되는 감광성 내식막 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 염기가 수산화 리튬, 수산화 나트륨 및 수산화 칼륨 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군으로 선택되는 감광성 내식막 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 조성물의 고형물 함량이 조성물의 약 20중량% 내지 약 60중량%인 감광성 내식막 조성물.
  12. 제1항에 있어서, 계면활성제가 4개 이상의 에틸렌-산화물 분절을 갖는 감광성 내식막 조성물.
  13. 제1항에 있어서, 계면활성제가 에멀션 고형물을 기준으로 조성물의 약 0.1% 내지 약 10%인 감광성 내식막 조성물.
  14. 제13항에 있어서, 계면활성제가 에멀션 고형물을 기준으로 조성물의 약 0.5% 내지 약 5%인 감광성 내식막 조성물.
  15. (ⅰ)물, (ⅱ) 카복실산 함유 수지, (ⅲ) 광중합성 단량체; (ⅳ) 광개시제, (ⅴ) 유기 또는 무기 염기 및 그의 혼합물에서 선택된 염기, 및 (ⅵ) 폴리(에틸렌-산화물) 분절을 함유한 비이온성 계면활성제를 포함하는 감광성 내식막 조성물(이때, 염기는 수지상에 산 당량당 약 0.22 당량 이하의 양으로 존재하고, 성분 (ⅰ) 내지 (ⅵ)는 금속 표면에 수인성의 안정하고 균질한 감광성 내식막 피복물을 제공하기에 충분한 양으로 존재한다)로 피복된 금속 표면을 포함하는 배선판.
  16. 제15항에 있어서, 조성물이 염기를 수지상에 산 당량당 약 0.05 내지 약 0.2 당량 범위의 양으로 더 포함하는 배선판.
  17. 제15항에 있어서, 조성물이 부타디엔/아크릴로니트릴/메타크릴산, 스티렌/아크릴산, 스티렌/부타디엔/아크릴산, 스티렌/부타디엔/메타크릴산, 스티렌/부타디엔/이타콘산, 스티렌/부타디엔/말레산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/아크릴산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/메타크릴산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/이타콘산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/말레산, 스티렌/에틸 아크릴레이트/메타크릴산, 스티렌/말레산 무수물, 스티렌/메타크릴산, 염화 비닐리덴/메타크릴산 및 아크릴 공중합체 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 수지를 더욱 포함하는 배선판.
  18. 제15항에 있어서, 조성물이 아크릴레이트인 광중합성 단량체를 더욱 포함하는 배선판.
  19. 제18항에 있어서, 조성물이 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 에톡실레이트 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 프로폭실레이트 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 에톡실레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 프로폭실레이트 트리메타크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 페녹시에틸 메타크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 네오펜틸 프로폭실레이트 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 하이드록시펜타크릴레이트 및 폴리에틸렌 글리콜디 아크릴레이트 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군으로 선택된 아크릴레이트를 더욱 포함하는 배선판.
  20. 제15항에 있어서, 조성물이 벤조인 에테르, 벤질 케톤, 페논 및 페논 유도체 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 광개시제를 더욱 포함하는 배선판.
  21. 제15항에 있어서, 조성물이 알칼리 금속 염, 아민 및 그의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 염기를 더욱 포함하는 배선판.
  22. 제15항에 있어서, 조성물이 수산화 리튬, 수산화 나트륨 및 수산화 칼륨 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군으로 선택된 염기를 더욱 포함하는 배선판.
  23. (a) (ⅰ)카복실산 함유 수지, (ⅱ) 광중합성 단량체 및 (ⅲ) 광개시제를 포함하는, 유기용액 및 물과 폴리(에틸렌-산화물) 분절을 함유한 비이온성 계면활성제를 혼합하여 에멀션을 제조하는 단계; 및 I. (b) 유기 및 무기 염기 및 그의 혼합물에서 선택된 염기로 에멀션을 부분 중화시키는 단계; 및 (c) 1.4 미크론 이하의 D(v, 0.9)를 갖는 입자 크기 분포가 수득될 때까지 중화된 에멀션을 분쇄하는 단계; 또는 Ⅱ. (b) 1.4 미크론 이하의 D(v, 0.9)를 갖는 입자 크기 분포가 수득될 때까지 에멀션을 분쇄하는 단계; 및 (c) 유기 또는 무기 염기 및 그의 혼합물에서 선택된 염기로 에멀션을 부분 중화시키는 단계; 또는 Ⅲ. (b) 1.4 미크론 이하의 D(v, 0.9)를 갖는 입자 크기 분포가 수득될 때까지 에멀션을 분쇄하는 단계; (c) 에멀션의 약 60중량% 이하의 총 고형물 함량이 수득될 때까지 용매 및/또는 물을 에멀션으로부터 증발시키는 단계; 및 (d) 유기 및 무기 염기, 및 그의 혼합물에서 선택된 염기로 에멀션을 부분 중화시키는 단계의 상기 추가 단계, Ⅰ, Ⅱ 또는 Ⅲ중 어느 한 단계를 포함하는 감광성 내식막 조성물의 제조 방법.
  24. 제23항에 있어서, 양자택일의 방법 Ⅰ 및 Ⅱ가 에멀션의 약 60중량% 이하의 총고형물 함량이 수득될때까지 용매 및/또는 물을 에멀션으로부터 증발시키는 단계(d)를 더욱 포함하는 방법.
  25. 제23항에 있어서, 물에 용해되거나 분산된 계면활성제를 더욱 포함하는 방법.
  26. 제23항에 있어서, 유기 용액에 용해된 계면활성제를 더욱 포함하는 방법.
  27. 제23항에 있어서, 단계가 부타디엔/아크릴로니트릴/메타크릴산, 스티렌/아크릴산, 스티렌/부타디엔/아크릴산, 스티렌/부타디엔/메타크릴산, 스티렌/부타디엔/이타콘산, 스티렌/부타디엔/말레산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/아크릴산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/메타크릴산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/이타콘산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/말레산, 스티렌/에틸 아크릴레이트/메타크릴산, 스티렌/말레산 무수물, 스티렌/메타크릴산, 염화 비닐리덴/메타크릴산 및 아크릴 공중합체 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 카복실산 함유 수지를 더욱 포함하는 방법.
  28. 제23항에 있어서, 단계가 에톡시화된 트리메틸올프로판 광중합성 단량체 및 아스테르화된 스티렌/말레산 무수물 공중합체 수지를 더욱 포함하는 방법.
  29. 제23항에 있어서, 단계가 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 에톡실레이트 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 프로폭실레이트 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 에톡실레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 프로폭실레이트 트리메타크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 페녹시에틸 메타크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 네오펜틸 프로폭실레이트 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 하이드록시펜타크릴레이트 및 폴리에틸렌 글리콜디 아크릴레이트 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 공개시제를 더욱 포함하는 방법.
  30. 제23항에 있어서, 단계가 알칼리 금속 염, 아민 및 그의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 염기를 더욱 포함하는 방법.
  31. 제23항에 있어서, 단계가 수산화 리튬, 수산화 나트륨 및 수산화 칼륨 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 염기를 더욱 포함하는 방법.
  32. 제23항에 있어서, 단계가 아민인 염기를 더욱 포함하는 방법.
  33. 제23항에 있어서, 단계가 조성물의 고형물 함량이 에멀션의 약 20중량% 내지 약 60중량% 범위가 될때까지 중화된 에멀션으로부터 용매 및/또는 물을 증발시킴을 더욱 포함하는 방법.
  34. 제23항에 있어서, 단계가 4개 이상의 에틸렌-산화물 분절을 갖는 계면활성제를 사용함을 더욱 포함하는 방법.
  35. (a) (ⅰ)카복실산 함유 수지, (ⅱ) 광중합성 단량체; (ⅲ) 광개시제를 포함하는, 물 및 유기 용액과 폴리(에틸렌-산화물) 분절을 함유한 비이온성 계면활성제를혼합하여 에멀션을 제조하는 단계(이때, 유기 및 무기 염기 및 그의 혼합물에서 선택되는 염기를 물 또는 유기 용액중 어느 하나에 용해시키거나 분산시켜 산 함유 수지를 부분 중화시킨다); 및 (b) 1.4 미크론 이하의 D(v, 0.9)를 갖는 입자 크기 분포가 수득될 때까지 중화된 에멀션을 분쇄하는 단계를 포함하는 감광성 내식막 조성물의 제조 방법.
  36. 제35항에 있어서, 총 고형물 함량이 에멀션의 약 60중량% 이하가 될 때까지 에멀션으로부터 용매 및/또는 물을 증발시키는 단계(c)를 포함하는 방법.
  37. 제35항에 있어서, 물에 용해되거나 분산된 계면활성제를 더욱 포함하는 방법.
  38. 제35항에 있어서, 유기 용액에 용해된 계면활성제를 더욱 포함하는 방법.
  39. 제35항에 있어서, 단계가 부타디엔/아크릴로니트릴/메타크릴산, 스티렌/아크릴산, 스티렌/부타디엔/아크릴산, 스티렌/부타디엔/메타크릴산, 스티렌/부타디엔/이타콘산, 스티렌/부타디엔/말레산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/아크릴산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/메타크릴산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/이타콘산, 스티렌/부타디엔/부틸아크릴레이트/말레산, 스티렌/에틸 아크릴레이트/메타크릴산, 스티렌/말레산 무수물, 스티렌/메타크릴산, 염화 비닐리덴/메타크릴산 및 아크릴 공중합체 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 카복실산 함유 수지를 더욱 포함하는 방법.
  40. 제35항에 있어서, 단계가 에톡시화된 트리메틸올프로판 광중합성 단량체 및 아스테르화된 스티렌/말레산 무수물 공중합체 수지를 더욱 포함하는 방법.
  41. 제35항에 있어서, 단계가 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 에톡실레이트 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 프로폭실레이트 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 에톡실레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 프로폭실레이트 트리메타크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 페녹시에틸 메타크릴레이트, 헥산디올 디아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 네오펜틸 프로폭실레이트 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 하이드록시펜타크릴레이트 및 폴리에틸렌 글리콜디 아크릴레이트 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 공개시제를 더욱 포함하는 방법.
  42. 제35항에 있어서, 단계가 알칼리 금속 염, 아민 및 그의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 염기를 더욱 포함하는 방법.
  43. 제35항에 있어서, 단계가 수산화 리튬, 수산화 나트륨 및 수산화 칼륨 및 이들 2종 이상의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 염기를 더욱 포함하는 방법.
  44. 제35항에 있어서, 단계가 조성물의 고형물 함량이 에멀션의 약 20중량% 내지 약 60중량% 범위가 될때까지 중화된 에멀션으로부터 용매 및/또는 물을 증발시킴을 더욱 포함하는 방법.
  45. 제35항에 있어서, 단계가 4개 이상의 에틸렌-산화물 분절을 갖는 계면활성제를 사용함을 더욱 포함하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960704951A 1994-03-09 1995-02-24 안정한 이오노머성 감광성 내식막 유화액 및 이의 제조 방법 및 용도(stable, inomeric photoresist emulsion and process of preparation and use threof) KR970701874A (ko)

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