KR970077772A - 반도체설비의 케미컬 순환공급장치 - Google Patents

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Abstract

케미컬이 순환공급되도록 구성된 케미컬저장조(chemical bath) 내부에서 발생하는 버블(Bubble) 및 파동을 제거하는 반도체설비의 케미컬 순환공급장치에 관한 것이다.
본 발명은 반도체 소자 제조공정이 이루어지는 내부저장조 내부에 담겨진 케미컬이 외부저장조로 오우버플로우(0ver flow)되어 펌프의 강제펌핑에 의해서 필터를 통과하여 다시 내부저장조로 순환하도록 구성된 반도체 설비의 케미컬 순환공급장치에 있어서, 버블챔버가 상기 필터와 상기 내부저장조 사이의 케미컬 공급관에 연결되고, 상기 버블챔버는 소정 높이의 분기판에 의해서 상기 버블 챔버의 하부공간이 양분되어 제1하부공간으로 상기 케미컬이 공급된 후 상기 펌프의 펌핑에 의해서 상기 케미컬이 상기 분기판을 오우버플로우 하여 제2하부 공간으로 수용된 후 상기 내부저장조에 공급되도록 구성됨을 특징으로 한다. 따라서, 웨이퍼 상의 식각불량 또는 세정불량이 방지되는 효과가 있다.

Description

반도체설비의 케미컬 순환공급장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체설비의 케미컬 순환공급장치를 설명하기 위한 도면이다.

Claims (5)

  1. 반도체 소자 제조공정이 이루어지는 내부저장조 내부에 담겨진 케미컬이 외부저장조로 오우버플로우(Over flow)되어 펌프의 강제펌핑에 의해서 필터를 통과하여 다시 내부저장조로 순환하도록 구성된 반도체설비의 케미컬 순환공급장치에 있어서, 버블챔버가 상기 필터와 상기 내부저장조 사이의 케미컬 공급관에 연결되고, 상기 버블챔버는 소정 높이의 분기판에 의해서 상기 버블 챔버의 하부공간이 양분되어 제1하부공간으로 상기 케미컬이 공급된 후 상기 펌프의 펌핑에 의해서 상기 케미컬이 상기 분기판을 오우버플로우 하여 제2하부 공간으로 수용된 후 상기 내부저장조에 공급되도록 구성됨을 특징으로 하는 반도체설비의 케미컬 순환공급장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 버블 챔버의 상부에 충진된 기체가 일정량 이상이면 그 기체를 배출시키도록 된 기체 배출수단이 부가됨을 특징으로 하는 상기 반도체설비의 케미컬 순환공급장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 기체 배출수단은 수동조작 밸브가 부착된 배출관으로 이루어어짐을 특징으로 하는 반도체설비의 케미컬 순환공급장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 기체 배출수단은, 기체량 감지센서, 센서의 센싱신호에 의하여 연동스위칭되는 릴레이, 상기 릴레이의 스위칭상태에 따라 개폐되는 밸브가 구성됨을 특징으로 하는 반도체설비의 케미컬 순환공급장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 센서는 근접센서로 구성됨을 특징으로 하는 반도체설비의 케미컬 순환공급장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
KR1019960015148A 1996-05-08 1996-05-08 반도체설비의 케미컬 순환공급장치 KR100187443B1 (ko)

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KR100821831B1 (ko) * 2006-11-22 2008-04-14 동부일렉트로닉스 주식회사 웨이퍼 가이드 버블 제거 시스템를 갖춘 케미칼 순환 장치

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