KR970063585A - 수중이동식 반도체 웨이퍼의 세정장치 - Google Patents

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KR970063585A
KR970063585A KR1019960002508A KR19960002508A KR970063585A KR 970063585 A KR970063585 A KR 970063585A KR 1019960002508 A KR1019960002508 A KR 1019960002508A KR 19960002508 A KR19960002508 A KR 19960002508A KR 970063585 A KR970063585 A KR 970063585A
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남창현
고용선
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 반도체소자의 제조장비중에서 공정의 진행중 발생한 웨이퍼 표면의 오염을 제거하기 위한 세정장치에 관한 것으로 특히 세정장치내에서 웨이퍼의 이송이 공기중으로 노출되지 않도록 한 수중이동식 반도체 웨이퍼의 세정장치에 대한 것으로 공정조는 웨이퍼의 세정하는 각각의 양액조를 구비한 내조와 상기 각각의 내조가 소정의 높이로 분리되도록 연결한 외조로 구성하고, 상기 공정조 약액 및 린스액을 채워주는 약액 및 린스액 공급수단과, 상기 외조에 설치되는 약액 및 린스액 배출수단 및 상기 공정조에 채워주는 약액의 제공하는 공급제어수단을 포함하여 세정공정중에 발생하는 웨이퍼의 오염을 예방하고 세정장치의 구조를 단순화시켜 공정의 군일도 및 품질을 향상되도록 한 것임.

Description

수중이동식 반도체 웨이퍼의 세정장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 웨이퍼 세정장치의 전체적인 구성도.

Claims (4)

  1. 반도체소자의 제조공정중 웨이퍼의 오염물질을 약액을 이용하여 제거하기 위한 공정조를 구비한 웨이퍼 세정장치에 있어서, 상기 공정조는 웨이퍼의 세정하는 각각의 약액조를 구비한 내조와 상기 각각의 내조가 소정의 높이로 분리되도록 연결한 외조로 구성되어 있고, 상기 공정조에 약액 및 린스액을 채워주는 약액 및 린스액 공급 수단과; 상기 외조에 설치되는 약액 및 린스액 배출수단 및; 상기 공정조에 채워지는 약액의 제공하는 공급제어수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 수중이동식 반도체 웨이퍼의 세정장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 약액 및 린스액 공급수단은 상기 내조의 하부에 약액공급부 및 린스액 공급부 각각에 연결된 공급라인 및 이 공급라인 상에 설치된 개폐밸브로 구성된 것을 특징으로 하는 수중이동식 반도체 웨이퍼의 세정장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 배출수단은 내조 채워진 세정액을 배출하는 배출라인과 내조에서 과공급된 세정액을 배출하는 배출라인 및 이들 각각의 배출라인 상에 배출을 제어하는 밸브로 구성된 것을 특징으로 하는 수중이동식 반도체 웨이퍼의 세정장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 공급제어수단은 상기 내조에 삽입되는 용액감지부와 용액감지부로부터 측정된 데이터를 통하여 상기 약액과 린스액의 공급라인에 설치한 개폐밸브의 동작을 조절하는 것을 특징으로 하는 수중이동식 반도체 웨이퍼의 세정장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960002508A 1996-02-02 1996-02-02 수중이동식 반도체 웨이퍼의 세정장치 KR0175280B1 (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100450660B1 (ko) * 1997-10-10 2004-11-16 삼성전자주식회사 물질수납용기

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