KR19990025114U - 포토레지스트공급라인 - Google Patents

포토레지스트공급라인 Download PDF

Info

Publication number
KR19990025114U
KR19990025114U KR2019970037618U KR19970037618U KR19990025114U KR 19990025114 U KR19990025114 U KR 19990025114U KR 2019970037618 U KR2019970037618 U KR 2019970037618U KR 19970037618 U KR19970037618 U KR 19970037618U KR 19990025114 U KR19990025114 U KR 19990025114U
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
photoresist
buffer
pipe
filter tank
supply line
Prior art date
Application number
KR2019970037618U
Other languages
English (en)
Other versions
KR200222119Y1 (ko
Inventor
송경섭
Original Assignee
구본준
엘지반도체 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 구본준, 엘지반도체 주식회사 filed Critical 구본준
Priority to KR2019970037618U priority Critical patent/KR200222119Y1/ko
Publication of KR19990025114U publication Critical patent/KR19990025114U/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR200222119Y1 publication Critical patent/KR200222119Y1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Abstract

본 고안은 포토레지스트공급라인에 관한 것으로, 종래 기술에 의한 포토레지스트공급라인은 필터탱크에서 이물질과 기포 등이 포함된 포토레지스트가 드레인관을 통하여 외부로 배출되게 되어 낭비되는 문제점을 초래하였다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 본 고안에 의한 포토레지스트공급라인는 상기 필터탱크와 버퍼를 연결한 드레인순환관에 의하여 이물질과 기포 등과 함께 배출되는 포토레지스트를 재사용할 수 있게 되어 그 포토레지스트가 낭비되는 것을 방지할 수 있는 효과를 기대할 수 있다.

Description

포토레지스트공급라인
본 고안은 포토레지스트공급라인에 관한 것으로, 특히 필터탱크내의 기포와 이물질을 배출시키는 드레인관을 버퍼탱크에 연결하여 그 드레인관을 통하여 배출되는 포토레지스트를 회수할 수 있도록 함으로써, 상기 포토레지스트가 낭비되는 것을 방지할 수 있도록 한 포토레지스트공급라인에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 패키지를 생산하는데 있어서 중간 제품의 하나인 반도체 웨이퍼는 패턴을 형성하기 위하여 식각공정 등을 수행하게 된다.
이러한 식각공정시에 상기 반도체 웨이퍼면을 선택적으로 식각하기 위하여 그 반도체 웨이퍼면에는 포토레지스트를 코팅하게 된다.
상기와 같이 반도체 웨이퍼면에 상기 포토레지스트를 코팅하는 포토레지스트 코팅장치는 상기 도 1에 도시된 바와 같이 상기 포토레지스트가 코팅되는 반도체 웨이퍼(미도시)를 장착고정할 수 있는 척테이블(1)이 설치되어 있고, 그 척테이블(1)을 고속으로 회전시킬 수 있는 스핀들 모터(미도시)가 설치되어 있다.
또, 상기 척테이블(1)에서 고속으로 회전하는 상기 반도체 웨이퍼에 코팅되어 남은 상기 포토레지스트가 외부로 유출되어 외부의 다른 장치나 주위가 오염되는 것을 방지할 수 있는 포토레지스트 코팅 캣치컵(미도시)이 설치되어 있다.
그리고, 상기 척테이블(1)에 장착고정된 상기 반도체 웨이퍼에 포토레지스트를 공급할 수 있도록 포토레지스트공급라인(3)이 설치되어 있고, 그 포토레지스트공급라은, 상기 포토레지스트가 저장되어 있는 보틀(BOTTLE)(2)이 있고, 그 보틀에는 질소가스를 가하는 질소공급관(2a)이 설치되어 있으며, 그 질소공급관(2a)에 의하여 가해진 질소가스의 압력으로 상기 포토레지스트가 배관(2b)을 통하여 일정량 저장되는 버퍼(BUFFER)(3)가 설치되어 있고, 그 버퍼(3)에는 에어벤트(AIR VENT)관(3a)과 펌프관(3b)이 연결설치되어 있다.
상기 펌프관(3b)은 펌프(4)와 연결되어 있고, 그 펌프(4)는 펌핑된 상기 포토레지스트에 포함되어 있는 이물질과 기포 등을 제거하는 필터(5)가 설치된 필터탱크(6)와 연결되어 있으며, 그 필터탱크의 필터에는 상기 이물질과 기포 등이 제거된 상기 포토레지스트가 노즐(7)로 공급되는 노즐공급관(8)이 연결설치되어 있고, 또 상기 필터탱크(6)에는 상기 이물질과 기포 등이 배출되는 드레인관(9)이 설치되어 있다.
상기와 같이 구성된 포토레지스트공급라인은, 먼저 상기 보틀(2)에 질소가스를 공급하여 그 보틀(2)내에 압력을 가하면 상기 포토레지스트는 배관(2b)을 따라 상기 버퍼(3)로 공급되게 되고, 상기 버퍼(3)의 포토레지스트는 상기 펌프(4)에 의하여 펌핑되어 상기 필터탱크(6)로 공급되게 되며, 그 필터탱크(6)의 상기 포토레지스트는 상기 필터(5)를 거쳐 상기 노즐공급관(8)으로 공급됨과 아울러 상기 노즐(7)로 분사된다.
이때, 상기 필터탱크(6)에서는 상기 포토레지스트에 포함되어 있는 이물질과 기포 등이 일부의 그 포토레지스트와 함께 상기 드레인관(9)을 통하여 배출되게 된다.
그러나, 상기와 같이 구성된 포토레지스트공급라인은 상기 필터탱크에서 이물질과 기포 등이 포함된 상기 포토레지스트가 상기 드레인관을 통하여 외부로 배출되게 되어 낭비되는 문제점을 초래하였다.
따라서, 본 고안의 목적은 상기의 문제점을 해결하여 상기 포토레지스트가 낭비되는 것을 방지할 수 있는 포토레지스트공급라인을 제공함에 있다.
도 1은 종래 기술에 의한 포토레지스트공급라인의 구조를 보인 개략도.
도 2는 본 고안에 의한 포토레지스트공급라인의 구조를 보인 개략도.
** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명 **
11 : 보틀 12 : 버퍼
13 : 펌프 14 : 필터
15 : 필터탱크 17 : 노즐공급관
본 고안의 목적은, 질소가스를 공급하는 질소가스공급관이 설치됨과 아울러 포토레지스트가 저장되는 보틀과, 그 보틀에 저장된 상기 포토레지스트를 배관을 통하여 공급받아 일정량 저장하는 버퍼와, 그 버퍼에 저장된 상기 포토레지스트를 상기 버퍼에 연결설치된 펌프관을 통하여 펌핑하는 펌프와, 그 펌프에 의하여 펌핑된 상기 포토레지스트에 포함되어 있는 이물질과 기포 등을 제거하는 필터가 설치된 필터탱크와, 그 필터탱크의 필터에 의하여 상기 이물질과 기포 등이 제거된 상기 포토레지스트를 노즐에 공급하는 노즐공급관과, 상기 필터탱크에서 제거된 이물질과 기포 등이 상기 포토레지스트의 일부와 함께 배출되어 상기 버퍼로 공급되는 드레인순환관을 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트공급라인에 의하여 달성된다.
다음은, 본 고안에 의한 포토레지스트공급라인의 일실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세하게 설명한다.
도 2는 본 고안에 의한 포토레지스트공급라인의 구조를 보인 개략도이다.
본 고안에 의한 포토레지스트공급라인은 상기 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 포토레지스트가 저장되어 있는 보틀(BOTTLE)(11)이 있고, 그 보틀(11)에는 질소가스를 가하는 질소공급관(11a)이 설치되어 있으며, 그 질소공급관(11a)에 의하여 가해진 질소가스의 압력으로 상기 포토레지스트가 배관(11b)을 통하여 일정량 저장되는 버퍼(BUFFER)(12)가 설치되어 있고, 그 버퍼(12)에는 에어벤트(AIR VENT)관(12a)과 펌프관(12b)이 연결설치되어 있다.
상기 펌프관(12b)은 펌프(13)와 연결되어 있고, 그 펌프(13)는 펌핑된 상기 포토레지스트에 포함되어 있는 이물질과 기포 등을 제거하는 필터(14)가 설치된 필터탱크(15)와 연결되어 있으며, 그 필터탱크의 필터(14)에는 상기 이물질과 기포 등이 제거된 상기 포토레지스트가 노즐(16)로 공급되는 노즐공급관(17)이 연결설치되어 있고, 또 상기 필터탱크(15)에는 상기 이물질과 기포 등이 배출되어 상기 버퍼(12)로 공급될 수 있도록 그 버퍼(12)와 연결된 드레인순환관(18)이 설치되어 있다.
도면상의 미설명 부호 19는 웨이퍼 척테이블이다.
상기와 같이 구성된 포토레지스트공급라인은, 먼저 상기 보틀(11)에 질소가스를 공급하여 그 보틀(11)내에 압력을 가하면 상기 포토레지스트는 배관(11b)을 따라 상기 버퍼(12)로 공급되게 되고, 상기 버퍼(12)의 포토레지스트는 상기 펌프(13)에 의하여 펌핑되어 상기 필터탱크(15)로 공급되게 되며, 그 필터탱크(15)의 상기 포토레지스트는 상기 필터(14)를 거쳐 상기 노즐공급관(17)으로 공급됨과 아울러 상기 노즐(16)로 분사된다.
이때, 상기 필터탱크(15)에서는 상기 포토레지스트에 포함되어 있는 이물질과 기포 등이 일부의 그 포토레지스트와 함께 상기 드레인순환관(18)을 통하여 상기 버퍼(12)로 공급되게 된다.
상기와 같이 필터탱크와 상기 버퍼를 연결한 드레인순환관에 의하여 상기 이물질과 기포 등과 함께 배출되는 포토레지스트를 재사용할 수 있게 되어 그 포토레지스트가 낭비되는 것을 방지할 수 있는 효과를 기대할 수 있다.

Claims (1)

  1. 질소가스를 공급하는 질소가스공급관이 설치됨과 아울러 포토레지스트가 저장되는 보틀과, 그 보틀에 저장된 상기 포토레지스트를 배관을 통하여 공급받아 일정량 저장하는 버퍼와, 그 버퍼에 저장된 상기 포토레지스트를 상기 버퍼에 연결설치된 펌프관을 통하여 펌핑하는 펌프와, 그 펌프에 의하여 펌핑된 상기 포토레지스트에 포함되어 있는 이물질과 기포 등을 제거하는 필터가 설치된 필터탱크와, 그 필터탱크의 필터에 의하여 상기 이물질과 기포 등이 제거된 상기 포토레지스트를 노즐에 공급하는 노즐공급관과, 상기 필터탱크에서 제거된 이물질과 기포 등이 상기 포토레지스트의 일부와 함께 배출되어 상기 버퍼로 공급되는 드레인순환관을 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트공급라인.
KR2019970037618U 1997-12-16 1997-12-16 포토레지스트공급라인 KR200222119Y1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019970037618U KR200222119Y1 (ko) 1997-12-16 1997-12-16 포토레지스트공급라인

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019970037618U KR200222119Y1 (ko) 1997-12-16 1997-12-16 포토레지스트공급라인

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990025114U true KR19990025114U (ko) 1999-07-05
KR200222119Y1 KR200222119Y1 (ko) 2001-08-07

Family

ID=53897268

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019970037618U KR200222119Y1 (ko) 1997-12-16 1997-12-16 포토레지스트공급라인

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200222119Y1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100772844B1 (ko) * 2005-11-30 2007-11-02 삼성전자주식회사 반도체 제조설비의 감광액 공급장치
KR100934364B1 (ko) * 2007-12-07 2009-12-30 세메스 주식회사 약액 공급 장치
CN111090220A (zh) * 2018-10-23 2020-05-01 长鑫存储技术有限公司 供给系统

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100982802B1 (ko) * 2008-10-08 2010-09-16 세메스 주식회사 입구 및 출구 기포를 제거하는 기포 수거 장치

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100772844B1 (ko) * 2005-11-30 2007-11-02 삼성전자주식회사 반도체 제조설비의 감광액 공급장치
KR100934364B1 (ko) * 2007-12-07 2009-12-30 세메스 주식회사 약액 공급 장치
CN111090220A (zh) * 2018-10-23 2020-05-01 长鑫存储技术有限公司 供给系统

Also Published As

Publication number Publication date
KR200222119Y1 (ko) 2001-08-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4526288B2 (ja) スリットノズル先端の調整装置及び調整方法
KR100700181B1 (ko) 노즐대기부를 구비한 슬릿코터 및 이를 이용한 코팅방법
KR100466297B1 (ko) 반도체 제조 장치
KR200222119Y1 (ko) 포토레지스트공급라인
JP2006203130A (ja) 洗浄装置、洗浄装置への液体の補充方法
KR100749544B1 (ko) 기판세정장치 및 기판세정방법
KR20030011463A (ko) 슬릿 코터의 예비토출장치 및 예비토출방법
KR100924930B1 (ko) 기판 처리 장치
KR100877798B1 (ko) 예비 약액처리수단을 구비한 슬릿코터
KR200195101Y1 (ko) 감광제 공급 시스템
KR100934364B1 (ko) 약액 공급 장치
KR100780936B1 (ko) 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법
JP2507966B2 (ja) 塗布装置
KR100327331B1 (ko) 스핀 코팅 장치 및 이를 이용한 감광막 도포방법
KR20010105108A (ko) 포토레지스터 코팅 설비
KR100314225B1 (ko) 유리기판 또는 웨이퍼 처리용 분사장치
KR200244927Y1 (ko) 반도체웨이퍼현상장치
JPH06151405A (ja) 基板乾燥方法
KR100809591B1 (ko) 매엽식 기판 세정 방법
JP2002346485A (ja) 液晶表示パネルの洗浄方法及び洗浄装置
KR950005390Y1 (ko) 웨이퍼의 현상처리장치
KR100419004B1 (ko) 반도체 폴리싱 장치에서의 웨이퍼 마운팅 및 디마운팅 장치
KR101051095B1 (ko) 기판 식각장치 및 방법
KR19990013392U (ko) 반도체 제조장비의 기포제거장치
KR20070036864A (ko) 노즐 세정 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
REGI Registration of establishment
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20061211

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee