KR200234229Y1 - 세정조 - Google Patents

Abstract

본 고안은 세정조에 관한 것으로써, 본 고안에 따른 세정조는 본 고안에 따른 세정조는 하부에 세정액 공급구를 가진 냄비 모양의 내조와, 상기 내조를 감싸듯이 상기 내조의 외부에 설치되어 상기 내조에서 넘쳐나는 세정액을 받고 세정액 순환구가 하부에 형성된 외조와, 상기 외조의 세정액 순환구에서 나오는 세정액을 펌핑하는 펌프와, 상기 펌프에서 펌핑된 세정액의 흐름을 조절하는 댐퍼와, 상기 댐퍼에 연결되어 세정액의 이물질을 거르는 필터와, 상기 필터링된 세정액을 일정온도로 만들어 상기 내조의 세정액 공급구를 통하여 공급하는 항온기를 가지는 세정조에 있어서, 상기 내조를 내벽과 외벽의 이중구조로 형성하고, 상기 외벽 하부 및 상부에 각각 입수구 및 배출구를 형성하여 상기 입수구를 통해 일정온도의 물을 공급받고, 상기 배출구를 통해 온도가 변화된 물을 배출하는 구조를 가져 세정액 온도의 변화를 줄여 순환되어 공급되는 세정액의 순간적인 온도 상승을 방지하여 기포 발생을 억제하고 내조에 공급된 세정액의 온도를 일정하게 유지하기에 적합하므로 세정 공정중 발생하는 웨이퍼 표면의 손상을 방지 할 수 있다.

Description

세정조

본 고안은 세정조에 관한 것으로서, 특히 세정조내의 세정액 온도를 일정하게 유지하는데 적합한 세정조에 관한 것이다.

세정조는 반도체 웨이퍼 생산공정 사이사이에 웨이퍼 표면의 이물질을 제거하기 위하여 사용되는 장치이다.

도 1은 종래의 세정조 단면도이다.

종래의 세정조는 하부에 세정액 공급구(1-1)를 가지며 상부가 열린 냄비 모양의 내조(1)와, 하부에 세정액 순환구(2-1)를 상기 내조(1)를 감싸듯이 외부에 위치하여 상기 내조(1)에서 넘쳐나는 세정액을 받는 외조(2)와, 상기 외조(2)의 세정액 순환구(2-1)에서 나와 순환관(7)으로 공급되는 세정액을 펌핑하는 펌프(3)와, 상기 펌프(3)에서 펌핑된 세정액의 흐름을 조절하는 제동기(4)와, 상기 댐퍼(4)에 연결어 세정액의 이물질을 거르는 필터(5)와, 상기 필터링된 세정액을 일정온도로 만들어 상기 내조(1)의 세정액 공급구(1-1)를 통하여 공급하는 항온기(6)를 포함한다.

상기 종래의 제정조는 다음과 같이 동작한다.

상기 내조(1)에 가득찬 세정액이 웨이퍼 세정과정에 넘쳐 상기 외조(2)으로 흘러간다. 상기 외조(2)의 세정액은 순환구(2-1)를 통하여 펌프(3)에 공급되고, 상기 펌프(3)는 세정액을 펌핑한다. 상기 펌핑된 세정액은 제동기(4)를 거쳐 필터(5)에서 이 물질이 걸러진 후 항온기(6)에서 일정온도가 된 후 공급구(1-1)를 통하여 내조(1)에 공급된다.

상기 동작은 웨이퍼 세정공정중 반복된다.

그러나 상기 종래의 세정조는 세정액의 온도조정을 항온기에서만 이루어지므로 온도조정시간이 길어 세정액의 일정온도를 유지하기 어렵고, 높은 온도가 필요한 경우에는 순간적인 온도상승으로 세정액의 내부에 기포가 발생하여 웨이퍼이 손상되는 문제점을 가진다.

따라서, 본 고안의 목적은 상기 문제점을 해결하여 세정액의 순간적인 온도 상승을 방지하여 기포발생을 억제하며, 내조에 공급되는 세정액의 온도를 일정하게 유지하기에 적당한 세정조를 제공하는데 있다.

본 고안에 따른 세정조는 하부에 세정액 공급구를 가지는 냄비 모양의 내조와, 상기 내조를 감싸듯이 내조의 외부에 설치되어 상기 내조에서 넘쳐나는 세정액을 받고 세정액 순환구가 하부에 형성된 외조와, 상기 외조의 세정액 순환구에서 나오는 세정액을 펌핑하는 펌프와, 상기 펌프에서 펌핑된 세정액의 흐름을 조절하는 댐퍼와, 상기 댐퍼에 연결어 세정액의 이물질을 거르는 필터와, 상기 필터링된 세정액을 일정온도로 만들어 상기 내조의 세정액 공급구를 통하여 공급하는 항온기를 가지는 세정조에 있어서, 상기 내조를 내벽과 외벽의 이중구조로 형성하고, 상기 외벽 하부 및 상부에 각각 입수구 및 배출구를 형성하여 상기 입수구를 통해 일정온도의 물을 공급받고, 상기 배출구를 통해 온도가 변화된 물을 배출하는 구조를 가지도록 한다.

도 1은 종래의 세정조 단면도

도 2는 본 고안에 따른 세정조 단면도

도 3은 도 2의 내조 구체도

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

1, 11 내조 2, 12 외조

1-1, 11-1 공급구 2-1, 12-1 순환구

3, 13 펌프 4, 14 댐퍼

5, 15 필터 6, 16 항온기

7, 17 순환관 11-2 배수구

11-3 입수구

이하 첨부한 도면을 참고하여 본 고안에 따른 세정조를 상세히 설명한다.

본 고안에 따른 세정조는 세정액을 공급하기 위한 공급구(11-1)를 가지는 냄비 모양의 내조(11)와, 하부에 세정액 순환구(12-1)를 상기 내조(11)를 감싸듯이 외부에 위치하여 상기 내조(11)에서 넘쳐나는 세정액을 받는 외조(12)와, 상기 외조(12)의 세정액 순환구(12-1)에서 순환관(17)을 통해 공급되는 세정액을 펌핑하는 펌프(13)와, 상기 펌프(13)에서 펌핑된 세정액의 흐름을 조절하는 댐퍼(14)와, 상기 댐퍼(14)에 연결어 세정액의 이물질을 거르는 필터(15)와, 상기 필터링된 세정액을 일정온도로 만들어 상기 내조(11)의 세정액 공급구(11-1)를 통하여 공급하는 항온기(16)를 가지며,

상기 내조(11)는 내벽(I)과 외벽(O)의 이중구조를 가지는데 상기 내벽(I)과 외벽(O)사이에 물을 공급받기 위해 외벽 하부의 입수구(11-2)를 형성하고, 상기 입수구(11-3)를 통해 공급받은 물을 세정조 외부로 배출하기 위해 외벽(O) 상부에 배출구(11-2)를 형성한다.

상기 입수구(11-3) 및 배출구(11-2)에는 펌프(18) 및 항온기(19)가 형성된 순환관(20)을 형성하여 물을 가열하여 일정온도가 되도록 하고, 가열된 물을 펌핑하여 입수구(11-3)에 공급되어 배출구(11-2)로 배출되도록 한다.

상기 본 고안에 따른 제정조는 다음과 같이 동작한다.

상기 내조(1)에 가득찬 세정액이 웨이퍼 세정과정에 넘쳐 상기외조(2)로 흘러간다. 상기 외조(12)의 세정액은 순환구(2-1)를 통하여 펌프(13)에 공급되고, 상기 펌프(13)는 세정액을 펌핑한다. 상기 펌핑된 세정액은 제동기(14)를 거쳐 필터 (5)에서 이물질이 걸러진 후 항온기(6)에서 일정 온도가 된후 공급구(1-1)를 통하여 내조(1)에 공급된다.

또한 상기 내조(11)는 공급구(11-3)를 통하여 항온기(19)에 의해 일정온도 상태가 되어 펌프(18)에 의해 펌핑된 물을 공급받고, 상기 외벽상부의 배출구(11-3)를 통하여 온도가 변화된 물을 세정조 외부로 배수하는 과정을 통해 내조(11)에 담겨진 세정액이 일정온도를 유지하도록 보온작용을 한다.

상기 동작은 웨이퍼 세정공정중 반복된다.

따라서, 본 고안은 내조의 세정액 온도의 변화를 줄여 순환되어 공급되는 세정액의 순간적인 온도 상승을 방지하여 기포발생을 억제하고 내조에 공급된 세정액의 온도를 일정하게 유지하기에 적합하므로 세정공정중 발생하는 웨이퍼 표면의 손상을 방지할 수 있는 잇점을 가진다.

Claims (1)

1. 하부에 세정액 공급구를 가지진 냄비 모양의 내조와, 상기 내조를 감싸듯이 상기 내조의 외부에 설치되어 상기 내조에서 넘쳐나는 세정액을 받고 세정액 순환구가 하부에 형성된 외조와, 상기 외조의 세정액 순환구에서 나오는 세정액을 펌핑하는 펌프와, 상기 펌프에서 펌핑된 세정액의 흐름을 조절하는 댐퍼와, 상기 댐퍼에 연결되어 세정액의 이물질을 거르는 필터와, 상기 필터링된 세정액을 일정온도로 만들어 상기 내조의 세정액 공급구를 통하여 공급하는 항온기를 가지는 세정조에 있어서,

   상기 내조는 내벽과 외벽의 이중구조로 형성하고,

   상기 외벽 하부 및 상부에 각각 입수구 및 배출구를 형성하여 상기 입수구를 통해 일정온도의 물을 공급받고, 상기 배출구를 통해 온도가 변화된 물을 배출하는 구조를 가지는 것이 특징인 세정조.