KR19990019403U - 웨이퍼 세정장치 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체 제조공정중 웨이퍼의 불순물을 제거하기 위하여 사용하는 웨이퍼 세정장치는 서로 다른 세정액을 일정한 비율로 혼합하여 공정온도로 승온시키며 또한 순환되는 세정액을 승온시키는 세정액 혼합승온부와, 상기 세정액 혼합승온부로부터 공정진행온도로 승온된 세정액을 공급받아 웨이퍼를 세정하는 웨이퍼 세정부와, 상기 웨이퍼 세정부를 거친 세정액을 필터링하여 세정액 혼합승온부로 전달하는 세정액 순환부로 구성되며, 상기 세정액 혼합승온부는 제 1 세정액 공급관과, 제 2 세정액 공급관과, 세정수 공급관과, 제 1 조절밸브와, 제 2 조절밸브와, 제 3 조절밸브와, 히터가 삽입되는 히터 삽입구를 가지는 세정액 승온통과, 온도센서와, 세정액 혼합통과, 두개의 공기압 밸브와, 공기 공급관과, 세정액 혼합비율센서와, 세정액 유량센서와, 세정액 공급관과, 세정액 공급센서 및 공기압 밸브용 레밸센서를 포함하며, 상기 웨이퍼 세정부는 온도센서와, 웨이퍼 세정통과, 히터용 센서와, 세정액 넘침통을 포함하며, 상기 세정액 순환부는 세정액 순환관과, 펌프와, 필터를 포함하여 전력손실이 적고 유지관리가 상대적으로 쉬운 잇점을 가진다.
Description
본 고안은 반도체 제조공정중 웨이퍼의 불순물을 제거하기 위하여 사용하는 웨이퍼 세정장치에 관한 것으로서, 특히, 세정액의 혼합과 승온을 하나의 장비로 통합한 웨이퍼 세정장치에 관한 것이다.
일반적으로 포토애칭 작업후 웨이퍼 표면에 남아있는 불순물 입자나 폴리머(Polymer)를 제거하기 위하여 웨이퍼 세정장치를 이용한다. 웨이퍼를 세정하는데 이용하는 세정액은 매우 다양하지만 대개는 NH₄OH, H₂O₂, HCl, H₂SO₄ 등의 화학물질과 이온을 제거한 세정수를 일정한 비율로 혼합하여 사용한다.
도 1은 종래의 웨이퍼 세정장치 구성도이다.
종래의 웨이퍼 세정장치는 세정액 혼합부(10)와, 웨이퍼 세정부(20)와, 세정액 순환부(30) 및 순환 세정액 승온부(40)로 구성된다.
상기 세정액 혼합부(10)는 제 1 세정액 공급관(11)과, 제 2 세정액 공급관(12)과, 세정수 공급관(13)과, 상기 제 1 세정액 공급관(11)으로부터 제 1 세정액을 공급받는 제 1 세정액 조절통(14)과, 상기 제 2 세정액 공급관(12)으로부터 제 2 세정액을 공급받는 제 2 세정액 조절통(15)과, 상기 세정수 공급관(13)으로부터 세정수를 공급받는 세정수 조정통(16)과, 상기 제 1 세정액 조절통(14)에 설치되어 공급되는 제 1 세정액의 양을 측정 조절하는 제 1 유량센서(17)와, 상기 제 2 세정액 조절통에 설치되어 공급되는 제 2 세정액의 양을 측정조절하는 제 2 유량센서(18)와, 상기 세정수 조정통(16)에 공급되는 세정수의 양을 측정조절하는 세정수 유량센서(16-1)와, 상기 세정수 조정통(16)의 하부에 삽입되어 세정수를 승온시키는 세정수 히터(19)를 포함한다.
상기 웨이퍼 세정부(20)는 웨이퍼가 세정되는 웨이퍼 세정통(21)과, 상기 웨이퍼 세정통(21)에 상기 제 1 세정액 조절통(14)으로부터 일정량의 제 1 세정액이 유입되는 제 1 세정액 유입관(11-1)과, 상기 웨이퍼 세정통(21)에 상기 제 2 세정액 조절통(15)으로부터 일정량의 제 2 세정액이 유입되는 제 2 세정액 유입관(12-1)과, 상기 웨이퍼 세정통(21)에 상기 세정수 조절통(16)으로부터 일정량의 세정수가 유입되는 세정수 유입관(13-1)과, 상기 웨이퍼 세정통(21)에서 넘치는 세정액을 모아두는 세정액 넘침통(22)을 포함한다.
상기 세정액 순환부(30)는 상기 세정액 넘침통(22)의 세정액을 다시 웨이퍼 세정통에 공급하는 세정액 순환관(23)과, 상기 세정액 순환관(23)의 세정액을 펌핑하는 펌프(31)과, 상기 펌핑된 세정액의 불순물을 제거하는 필터(32)를 포함한다.
상기 순환 세정액 승온부(40)는 상기 필터(32)를 거친 세정액을 승온시킨후 다시 상기 웨이퍼 세정부(20)에 공급하는 승온관(41)과, 상기 승온관에 삽입되는 다스개의 세정액 히터(42)를 포함한다.
상기 종래의 웨이퍼 세정장치를 이용한 세정방법은 다음과 같다.
상기 세정액 혼합부(10)의 제 1 세정액 공급관(11), 제 2 세정액 공급관(12), 세정수 공급관(13)을 통하여 제 1 세정액, 제 2 세정액 및 세정수가 각각 상기 제 1 세정액 조절통(14), 제 2 세정액 조절통(15) 및 세정수 조정통(16)에 공급된다. 상기 공급되는 제 1 세정액, 제 2 세정액 및 세정수는 제 1 유량센서(17), 제 2 유량센서(18) 및 세정수 유량센서(16-1)에 의하여 감지되어 일정량으로 조절된다. 상기 세정수 조정통(16)에 공급된 세정수는 세정수 히터(19)에 의하여 공정진행온도로 가열된다.
상기 제 1 세정액 조절통(14), 제 2 세정액 조절통(15) 및 세정수 조정통(16)내의 일정비율의 제 1 세정액, 제 2 세정액 및 세정수는 제 1 세정액 유입관(11-1)과, 제 2 세정액 유입관(12-1) 및 세정수 유입관(13-1)을 통하여 웨이퍼 세정통(21)에 유입된다.
상기 웨이퍼 세정통(21)은 세정수가 공급된 후 웨이퍼가 담겨져 세정작업이 이루어진다.
상기 웨이퍼 세정작업이 이루어지는 동안 웨이퍼 세정통(21)에서 넘치는 세정액은 세정액 넘침통(22)에 담겨진후 세정액 순환관(23)을 통하여 순환된다. 상기 순환되는 세정액은 펌프(31)를 거쳐 필터(32)에서 불순물이 걸러진후 순환 세정액 승온부(40)의 승온관(41)으로 유입되어 세정액 히터(42)로부터 열을 공급받아 다시 공정진행온도로 올라간후에 웨이퍼 세정통(21)에 공급된다.
상기 세정액의 순환은 웨이퍼 세정작업중 계속된다.
그러나 상기 종래의 웨이퍼 세정장치는 세정액 혼합부와, 순환 세정액 승온부에 모두 히터를 가지고 있어 전력손실이 많으며 장비가 복잡하여 관리가 어려운 문제점을 가진다.
따라서, 본 고안의 목적은 상기 문제점을 해결하여 전력손실이 적고 구조가 간단하여 관리가 쉬운 웨이퍼 세정장치를 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 안출된 본 고안에 따른 웨이퍼 세정장치는 서로 다른 세정액을 일정한 비율로 혼합하여 공정온도로 승온시키며 또한 순환되는 세정액을 승온시키는 세정액 혼합승온부와, 상기 세정액 혼합승온부로부터 공정진행온도로 승온된 세정액을 공급받아 웨이퍼를 세정하는 웨이퍼 세정부와, 상기 웨이퍼 세정부를 거친 세정액을 필터링하여 세정액 혼합승온부로 전달하는 세정액 순환부로 구성된다.
상기 세정액 혼합승온부는 제 1 세정액 공급관과, 제 2 세정액 공급관과, 세정수 공급관과, 제 1 조절밸브와, 제 2 조절밸브와, 제 3 조절밸브와, 히터가 삽입되는 히터 삽입구를 가지는 세정액 승온통과, 온도센서와, 세정액 혼합통과, 두개의 공기압 밸브와, 공기 공급관과, 세정액 혼합비율센서와, 세정액 유량센서와, 세정액 공급관과, 세정액 공급센서 및 공기압 밸브용 레밸센서를 포함한다.
상기 웨이퍼 세정부는 온도센서와, 웨이퍼 세정통과, 히터용 센서와, 세정액 넘침통을 포함한다.
상기 세정액 순환부는 세정액 순환관과, 펌프와, 필터를 포함한다.
도 1은 종래의 웨이퍼 세정장치 구성도
도 2는 본 고안에 따른 웨이퍼 세정장치의 구성도
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 세정액 혼합부 20 웨이퍼 세정부
30 세정액 순환부 40 순환 세정액 승온부
11 제 1 세정액 공급관 12. 제 2 세정액 공급관
13 세정수 공급관 14 제 1 세정액 조절통
15 제 2 세정액 조절통 16 세정수 조정통
16-1 세정수 유량센서 17 제 1 유량센서
18 제 2 유량센서 19 세정수 히터
11-1 제 1 세정액 유입관 12-1 제 2 세정액 유입관
13-1 세정수 유입관 21 웨이퍼 세정통
22 세정액 넘침통 23 세정액 순환관
31 펌프 32 필터
41 승온관 42 세정액 히터
100 세정액 혼합승온부 200 웨이퍼 세정부
300 세정액 순환부 111 제 1 세정액 공급관
113. 제 2 세정액 공급관 115 세정수 공급관
121 제 1 조절밸브 123 제 2 조절밸브
125 제 3 조절밸브 130 세정액 승온통
131 히터 삽입구 133 히터
137, 212 온도센서 139 세정액 공급밸브
140 세정액 혼합통 142, 144 공기압 밸브
146 공기 공급관 148 세정액 유량센서
150 세정액 공급관 210 웨이퍼 세정통
220 세정액 넘침통 310 세정액 순환관
320 펌프 330 필터
L 세정액 혼합비율센서 HL 세정액 공급센서
PL 공기압 밸브용 레밸센서 CL 히터용 센서
이하 첨부한 도면을 참고하여 본 고안에 따른 웨이퍼 세정장치를 상세히 설명한다.
도 2는 본 고안에 따른 웨이퍼 세정장치의 구성도이다.
상기 본 고안에 따른 웨이퍼 세정장치는 서로 다른 세정액을 일정한 비율로 혼합하여 공정온도로 승온시키며 또한 순환되는 세정액을 승온시키는 세정액 혼합승온부(100)와, 상기 세정액 혼합승온부(100)로부터 공정진행온도로 승온된 세정액을 공급받아 웨이퍼를 세정하는 웨이퍼 세정부(200)와, 상기 웨이퍼 세정부(200)를 거친 세정액을 필터링하여 세정액 혼합승온부(100)로 전달하는 세정액 순환부(300)로 구성된다.
상기 세정액 혼합승온부(100)는 제 1 세정액을 공급받는 제 1 세정액 공급관(111)과, 제 2 세정액을 공급받는 제 2 세정액 공급관(113)과, 세정수를 공급받는 세정수 공급관(115)과, 상기 제 1 세정액 공급관(111)에 부착되어 공급되는 제 1 세정액의 양을 조절하는 제 1 조절밸브(121)와, 상기 제 2 세정액 공급관(113)에 부착되어 공급되는 제 2 세정액의 양을 조절하는 제 2 조절밸브(123)와, 상기 세정수 공급관(115)에 부착되어 공급되는 세정수의 양을 조절하는 제 3 조절밸브(115)와, 상기 공급되는 제 1 세정액과 제 2 세정액 및 세정수가 일정비율의 세정액으로 혼합되는 세정액 혼합통(140)과, 상기 세정액 혼합통(140)의 하부 및 측면에 설치된 공기압 밸브(142)(144)와, 상기 두 개의 공기압 밸브(142)(144)에 온/오프용 공기를 공급하는 공기 공급관(146)과, 상기 세정액 혼합통(140)에 설치되어 상기 제 1 조절밸브(121)와, 제 2 조절밸브(123) 및 제 3 조절밸브(125)를 조정하는 세정액 혼합비율센서(L)와, 상기 혼합된 세정액의 양을 감지하는 세정액 유량센서(148)와, 상기 세정액 혼합통(140)이 내측에 위치하며 공기압 밸브(142)(144)를 통하여 혼합된 세정액을 공급받는 세정액 승온통(130)과, 상기 세정액 승온통(130)의 하부에 형성된 다수개의 히터 삽입구(131)와, 상기를 다수개의 히터 삽입구(131)에 삽입되어 설치되는 다수개의 히터(133)와, 상기 세정액 승온통(130)의 세정액온도를 감지하는 온도센서(137)와, 상기 세정액 승온통(130)에서 승온된 세정액을 배출하는 세정액 공급밸브(139)와 상기 세정액 공급밸브(139)에 연결된 세정액 공급관(150)과, 상기 세정액 승온통(130)에 설치되어 공기압 밸브(142)(144)를 조정하는 공기압 밸브용 센서(PL)와, 상기 세정액 승온통(130)에 설치되어 세정액 공급밸브(139)를 조정하는 세정액 공급센서(HL)로 구성된다.
상기 웨이퍼 세정부(200)는 상기 세정액 혼합승온부(100)의 세정액 공급관(150)에 연결되어 세정액을 공급받는 웨이퍼 세정통(210)과, 상기 웨이퍼 세정통(210)내의 세정액 온도를 측정하는 온도센서(212)와, 상기 웨이퍼 세정통(210)에서 넘쳐나는 세정액을 받는 세정액 넘침통(220)과, 상기 세정액 넘침통(220)에 설치되어 상기 세정액 혼합승온부(100)의 다수개의 히터(133)를 조정하는 히터용 센서(CL)로 구성된다.
상기 세정액 순환부(300)는 상기 웨이퍼 세정부(200)의 세정액 넘침통(220)에서 상기 세정액 혼합승온부(100)의 세정액 승온통(130)으로 세정액을 순환시키는 세정액 순환관(310)과, 상기 세정액 순환관(310)의 세정액을 펌핑하는 펌프(320)와, 상기 펌핑된 세정액의 불순물을 제거하는 필터(330)로 구성된다.
상기 본 고안에 따른 웨이퍼 세정장치는 다음과 같이 동작한다.
상기 본 고안에 따른 웨이퍼 세정장치는 세정액 혼합승온부(100)의 제 1 조절밸브(121)가 먼저열려 제 1 세정액이 제 1 세정액 공급관(111)을 통하여 세정액 혼합통(140)에 공급된다. 상기 공급되는 제 1 세정액이 필요양 만큼 공급되면 세정액 혼합비율센서(L)에서 감지하여 제 1 조절밸브(121)를 닫고 제 2 조절밸브(123)를 연다. 상기 제 2 조절밸브(123)가 열리면 제 2 세정액이 제 2 세정액 공급관(113)을 통하여 세정액 혼합통(140)에 공급된다. 상기 공급되는 제 2 세정액이 필요양 만큼 공급되면 세정액 혼합비율센서(L)에서 감지하여 제 2 조절밸브(123)를 닫고 제 3 조절밸브(125)를 연다. 상기 제 3 조절밸브(125)가 열려 세정수가 세정수 공급관(115)을 통하여 세정액 혼합통(140)에 공급된다. 상기 공급되된 제 1 세정액, 제 2 세정액 및 세정수가 일정비율로 필요양 만큼 공급되면 세정액 혼합비율센서(L)에서 감지하여 세정액 혼합통(140)하부의 공기압 밸브(142)를 열어 세정액을 세정액 승온통(130)에 공급한다. 이후 상기 세정액 승온통(130)에 공급되는 세정액이 공기압 밸브용 센서(PL)에 감지되면 상기 세정액 혼합통(140)하부의 공기압 밸브(142)는 닫히고 상부의 공기압 밸브(144)가 열려 상기 세정액 승온통(130)에 세정액을 공급한다. 이후 상기 세정액 승온통(130)의 세정액 공급센서(HL)에 세정액이 감지되면 세정액 공급밸브(139)가 열려 세정액 공급관(150)을 통하여 세정액이 웨이퍼 세정부(200)의 웨이퍼 세정통(210)에 공급된다. 상기 웨이퍼 세정통(210)에서 세정액이 넘쳐 세정액 넘침통(220)에 공급되며 또한 세정액 순환부(300)의 세정액 순환관(310)은 펌프(320)를 사용하여 상기 세정액 넘침통(220)의 세정액을 필터(330)를 거쳐 혼합승온부(100)의 세정액 승온통(130)으로 순환시킨다.
상기 세정액 혼합승온부(100)의 다수개의 히터(133)는 상기 세정액 승온통(130)의 세정액 공급센서(HL)와 세정액 넘침통(220)의 히터용 센서(CL)에 세정액이 모두 감지되면 "온" 되어 세정수를 공정온도까지 승온시킨다.
따라서, 본 고안의 웨이퍼 세정장치는 세정액의 혼합부과 승온부를 하나의 장비로 통합하여 세정액 순환라인이 간단하여 전력손실이 적고 유지관리가 상대적으로 쉬운 잇점을 가진다.
Claims (4)
- 서로 다른 세정액을 일정한 비율로 혼합하여 공정온도로 승온시키며 또한 순환되는 세정액을 승온시키는 세정액 혼합승온부와,상기 세정액 혼합승온부로부터 공정진행온도로 승온된 세정액을 공급받아 웨이퍼를 세정하는 웨이퍼 세정부와,상기 웨이퍼 세정부를 거친 세정액을 필터링하여 세정액 혼합승온부로 전달하는 세정액 순환부로 구성되어 세정액 순환라인을 간단히 한 것이 특징인 웨이퍼 세정장치.
- 청구항 1에 있어서 상기 세정액 혼합승온부는,제 1 세정액을 공급받는 제 1 세정액 공급관과,제 2 세정액을 공급받는 제 2 세정액 공급관과,세정수를 공급받는 세정수 공급관과,상기 제 1 세정액 공급관에 부착되어 공급되는 제 1 세정액의 양을 조절하는 제 1 조절밸브와,상기 제 2 세정액 공급관에 부착되어 공급되는 제 2 세정액의 양을 조절하는 제 2 조절밸브와,상기 세정수 공급관에 부착되어 공급되는 세정수의 양을 조절하는 제 3 조절밸브와,상기 공급되는 제 1 세정액과 제 2 세정액 및 세정수가 일정비율의 세정액으로 혼합되는 세정액 혼합통과,상기 세정액 혼합통의 하부 및 측면에 설치된 두 개의 공기압 밸브와,상기 두 개의 공기압 밸브에 온/오프용 공기를 공급하는 공기 공급관과,상기 세정액 혼합통에 설치되어 상기 제 1 조절밸브와 제 2 조절밸브 및 제 3 조절밸브를 조정하여 세정액의 혼합비율을 조정하는 세정액 혼합비율센서(L)와,상기 혼합된 세정액의 양을 감지하는 세정액 유량센서와,상기 세정액 혼합통의 외측에 위치하며 상기 두 개의 공기압 밸브를 통하여 혼합된 세정액을 공급받는 세정액 승온통과,상기 세정액 승온통의 하부에 형성된 다수개의 히터 삽입구와,상기 다수개의 히터 삽입구에 삽입 설치되는 다수개의 히터와,상기 세정액 승온통의 세정액온도를 감지하는 온도센서와,상기 세정액 승온통에서 승온된 세정액을 배출하는 세정액 공급밸브와,상기 세정액 공급밸브에 연결된 세정액 공급관과,상기 세정액 승온통에 설치되어 상기 두 개의 공기압 밸브를 조정하는 공기압 밸브용 센서와,상기 세정액 승온통에 설치되어 세정액 공급밸브를 조정하는 세정액 공급센서로 구성된 것이 특징인 웨이퍼 세정장치.
- 청구항 1에 있어서 상기 웨이퍼 세정부는,상기 세정액 혼합승온부의 세정액 공급관에 연결되어 세정액을 공급받는 웨이퍼 세정통과,상기 웨이퍼 세정통내의 세정액 온도를 측정하는 온도센서와,상기 웨이퍼 세정통에서 넘쳐나는 세정액을 받는 세정액 넘침통과,상기 세정액 넘침통에 설치되어 상기 세정액 혼합승온부의 다수개의 히터를 조정하는 히터용 센서(CL)로 구성된 것이 특징인 웨이퍼 세정장치.
- 청구항 2에 있어서 상기 세정액 혼합승온부의 다수개의 히터는,상기 세정액 승온통의 세정액 공급센서와 상기 웨이퍼 세정부의 세정액 넘침통의 히터용 센서에 세정액이 모두 감지되야 "온" 되는 것이 특징인 웨이퍼 세정장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019970032742U KR19990019403U (ko) | 1997-11-19 | 1997-11-19 | 웨이퍼 세정장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019970032742U KR19990019403U (ko) | 1997-11-19 | 1997-11-19 | 웨이퍼 세정장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19990019403U true KR19990019403U (ko) | 1999-06-15 |
Family
ID=69691793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019970032742U KR19990019403U (ko) | 1997-11-19 | 1997-11-19 | 웨이퍼 세정장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR19990019403U (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100794585B1 (ko) * | 2006-08-01 | 2008-01-17 | 세메스 주식회사 | 습식 세정 장치 및 방법 |
| CN117822083A (zh) * | 2024-03-06 | 2024-04-05 | 苏州尊恒半导体科技有限公司 | 一种晶圆电镀液循环温控系统 |
-
1997
- 1997-11-19 KR KR2019970032742U patent/KR19990019403U/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100794585B1 (ko) * | 2006-08-01 | 2008-01-17 | 세메스 주식회사 | 습식 세정 장치 및 방법 |
| CN117822083A (zh) * | 2024-03-06 | 2024-04-05 | 苏州尊恒半导体科技有限公司 | 一种晶圆电镀液循环温控系统 |
| CN117822083B (zh) * | 2024-03-06 | 2024-05-07 | 苏州尊恒半导体科技有限公司 | 一种晶圆电镀液循环温控系统 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A201 | Request for examination | ||
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| E902 | Notification of reason for refusal | ||
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