KR950020970A - 반도체 웻-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치 - Google Patents

반도체 웻-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 웬-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치에 관한 것으로, 특히 화학필터(CHEMICAL FILTER)의 재생 및 프리 웬팅(PREWETTING)을 빠르면서도 손쉽게 구성한 것인바, 이러한 본 발명에 의한 장치는 세정액인 불산과 순수를 저장하는 순환탱크(21)의 세정액이 순환되도록 폐회로를 형성하는 순환라인(22) 및 이 순환라인(22)의 도중에 착설된 순환펌프(23)와, 상기 순환탱크(21)에 불산 및 순수를 공급하기 위한 불산공급 라인(24) 및 순수 공급라인(25)과, 드레인 라인(26)을 구비하고, 상기 순환 라인(22)의 도중에 화학 필터를 이탈, 착 가능하게 지지하기 위한 필터 지지대(27)를 착설하여, 웬-스테이션 장비의 순환 유니트와는 별도로 세정액을 순환시키면서 필터를 클리닝하도록 구성한 것을 특징으로 하고 있으며, 상기 순환 탱크(21)를 포함하여 세정액 순환 폐회로를 구성하는 순환 라인(22)의 도중에 세정액 회수용 용기(28)과 회수관(29)을 연결, 설치하여 필터의 프리웬팅을 겸하도록 구성한 것을 특징으로 하고 있다.

Description

반도체 웬-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 의한 필터 클리닝 장치의 구성 및 작용을 보인 배관도.

Claims (3)

  1. 세정액인 불산과 순수를 저장하는 순환탱크(21)와, 상기 순환탱크(21)의 세정액이 순환되도록 폐회로를 형성하는 순환라인(22) 및 이 순환라인(22)의 도중에 착설된 순환펌프(23)와, 상기 순환펌프(21)에 불산 및 순수를 공급하기 위한 불산공급 라인(24) 및 순수공급 라인(25)과, 드레인 라인(26)을 구비하고, 상기 순환라인(22)의 도중에 화학 필터를 이탈, 착 가능하게 지지하기 위한 필터 지지대(27)를 착설하여, 웬-스테이션 장비의 순환 유니트와는 별도로 세정액을 순환시키면서 필터를 클리닝하도록 구성한 것을 특징으로 하는 반도체 웬-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 순환 탱크(21)를 포함하여 세정액 순환 폐회로를 구성하는 순환라인(22)의 도중에 세정액 회수용 용기(28)과 회수관(29)을 연결, 설치하여 필터의 프리 웬팅을 겸하도록 구성한 것을 특징으로 하는 반도체 웬-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 순환 탱크(21)에는 그 내부의 세정액 수위를 감지하기 위한 오버센서(31), 스톱 센서(32) 및 로우센서(33)가 상부에서 부터 차례로 부착되고, 상부 일측에는 과다하게 공급되는 세정액을 배출하기 위한 벤트라인(34)이 연결, 설치된 것을 특징으로 하는 반도체 웬-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20020065105A (ko) * 2001-02-05 2002-08-13 동안엔지니어링 주식회사 반도체 세정폐수 중 절삭가공 폐수에서 농축, 회수된실리콘 입자의 재활용 방법
KR101219029B1 (ko) * 2006-03-02 2013-01-18 주식회사 케이씨텍 기판세정장치 및 세정수 공급방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100489652B1 (ko) * 1998-07-18 2005-08-01 삼성전자주식회사 반도체장치 제조용 혼합형 웨이퍼 침지장치
KR100818331B1 (ko) * 2006-12-27 2008-03-31 세메스 주식회사 별도의 공급 라인을 가지는 약액 저장 및 공급 장치 및탱크
KR101113272B1 (ko) 2009-10-14 2012-03-16 김숙현 필터 클리너

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020065105A (ko) * 2001-02-05 2002-08-13 동안엔지니어링 주식회사 반도체 세정폐수 중 절삭가공 폐수에서 농축, 회수된실리콘 입자의 재활용 방법
KR101219029B1 (ko) * 2006-03-02 2013-01-18 주식회사 케이씨텍 기판세정장치 및 세정수 공급방법

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