KR100273204B1

KR100273204B1 - 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치

Info

Publication number: KR100273204B1
Application number: KR1019930026516A
Authority: KR
Inventors: 염용주
Original assignee: 김영환; 현대반도체주식회사
Priority date: 1993-12-04
Filing date: 1993-12-04
Publication date: 2000-12-15
Also published as: KR950020970A

Abstract

본 발명은 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치에 관한 것으로, 특히 화학 필터(CHEMICAL FILTER)의 재생 및 프리 왯팅(PREWETTING)을 빠르면서도 손쉽게 할 수 있도록 구성한 것인 바, 이러한 본 발명에 의한 장치는 세정액인 불산과 순수를 저장하는 순환 탱크(21)와, 상기 순환 탱크(21)의 세정액이 순환되도록 폐회로를 형성하는 순환 라인(22) 및 이 순환 라인(22)의 도중에 착설된 순환 펌프(23)와, 상기 순환 탱크(21)에 불산 및 순수를 공급하기 위한 불산 공급 라인(24) 및 순수 공급 라인(25)과, 드레인 라인(26)을 구비하고, 상기 순환 라인(22)의 도중에 화학 필터를 이탈,착 가능하게 지지하기 위한 필터 지지대(27)를 착설하여, 왯-스테이션 장비의 순환 유니트와는 별도로 세정액을 순환시키면서 필터를 클리닝하도록 구성한 것을 특징으로 하고 있으며, 상기 순환 탱크(21)를 포함하여 세정액 순환 폐회로를 구성하는 순환 라인(22)의 도중에 세정액 회수용 용기(28)과 회수관(29)을 연결, 설치하여 필터의 프리왯팅을 겸하도록 구성한 것을 특징으로 하고 있다.

Description

반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치

제1도는 종래 기술에 의한 필터 클리닝 장치의 배관도.

제2도는 종래 장치의 왯-스테이션 장비와의 연결 상태도.

제3도는 본 발명에 의한 필터 클리닝 장치의 구성 및 작용을 보인 배관도.

〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉

21 : 순환 탱크 22 : 순환 라인

23 : 순환 펌프 24 : 불산 공급 라인

25 : 순수 공급 라인 26 : 드레인 라인

27 : 필터 지지대 28 : 세정액 회수용 용기

29 : 회수관 31 : 오버 센서

32 : 스톱 센서 33 : 로우 센서

34 : 벤트 라인

본 발명은 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치에 관한 것으로, 특히 화학 필터(CHEMICAL FILTER)의 재생 및 프리 왯팅(PRE WETTING)을 빠르면서도 손쉽게 할 수 있도록 한 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 왯-스테이션 장비에 사용되는 화학 필터는 그 공정특성으로 인해 필터의 눈막힘(산화 실리콘의 결정)이 자주 발생하므로 주기적으로 클리닝을 해주어야 하며, 또 장비에 설치하기 전에 소수성의 필터 엘리먼트를 친수성화하기 위한 프리 왯팅 작업을 실시해야 한다.

종래에는 필터의 프리 왯팅을 수작업으로 하고 있었으며(통상 IPA에 침적시키는 방법을 채택하고 있었다), 또한 필터의 클리닝도 91년 까지는 할 수 없었으나, 92년도 부터 장비의 화학(H3P04) 순환장치내에 필터 클리닝 시스템을 접목시켜 필터 세정을 반자동으로 수행하고 있었다.

따라서, 필터 세정시에는 반드시 메인 장비, 예컨대 왯-스테이션 장비를 다운시킨 후 실시해야 하므로 장비의 다운 타임이 길어지고, 클리닝 시간이 길뿐만 아니라 딥(DIP) 방식으로써 효과가 좋지 않다는 단점이 수반 되었고, 또 필터의 프리 왯팅이 불가능하다는 단점이 수반 되었다.

이하, 첨부도면에 의하여 설명 한다.

제1도는 상기한 바와 같은 종래 구조의 필터 클리닝 장치의 배관도 이고, 제2도는 종래 장치의 장비 연결 상태를 보인 도면으로서, 도시한 바와 같이, 종래 일반적으로 사용되고 있는 필터 클리닝 장치는 화학 필터(1)와 그 화학 필터(1)에 필터 세정용 불산(HF)과 순수(DIW)를 공급하기 위한 용기(2)가 공급 라인(3)으로 연결되어 있고, 상기 용기(2)에는 내부의 용액 수위를 감지하기 위한 레벨 센서(LS):(LS1)(LS2)(LS3)(LS4)가 부착되어 있다.

여기서, 상기한 LS1은 오버 센서, LS2는 스톱 센서, LS3는 로우2 센서, LS4는 로우1 센서를 나타낸다.

그리고, 상기한 용기(9)에는 불산 공급 라인(4)과, 순수 공급 라인(5)과, 용기(2)내의 용액을 가압하여 공급 라인(3)으로 압송하기 위한 질소 공급 라인(6)이 삽입되어 있고, 상기한 각각의 라인(3)(4)(5)(6)에는 라인 제어용 에어밸브(AV1)(AV2)(AV3)(AV4)가 착설되어 있다.

또한, 상기 화학 필터(1)에는 용액 출구 라인(7), 용액 유입 라인(8) 및 순환 라인(9)이 각각 연결되어 있고, 상기 각 라인(7)(8)(9)의 도중에는 제어용 에어밸브(AV5)(AV6)(AV7)가 착설되어 있다.

도면중 미설명 부호 10은 벤트 라인, 11은 드레인 라인을 각각 보인 것으로, 상기 드레인 라인(11)에는 에어 밸브(AV8)가 착설되어 있다. 한편, 상기와 같이된 필터 클리닝 장치는 제 2 도에 도시한 바와 같이, 상기 화학 필터(1)의 용액 출구 및 유입 라인(7)(8)이 장비 본체(12)의 케미컬 배쓰(13)에 연결되도록 설치되어 있다.

도면에서 미설명 부호 14는 펌프, 15는 히터를 각각 보인 것이다.

이하, 상기한 바와 같은 종래 필터 클리닝 장치의 작용을 설명한다.

화학 필터(1)의 교환주기가 되면, 왯-스테이션 장비를 정지시키고, 필터 클리닝 스위치를 누른다.

이때, 초기 각 라인의 에어 밸브는 AV2를 제외한 모든 밸브가 클로우즈 상태를 유지하고 있다.

이와 같은 상태에서 처음에 AV2를 통해 불산이 용기(2)로 공급되는 데, 스톱 레벨 센서(LS2)까지 공급 되면, 상기 밸브(AV2)는 닫히고 질소 공급 라인(6)의 에어 밸브(AV4)와 공급 라인(3)의 에어 밸브(AV1)가 열리면서 용기(2)내의 불산이 화학 필터(1)내로 유입되어 산화 실리콘 결정을 녹이게 된다.

일정 시간이 지나면, 드레인 라인(11)의 에어 밸브(AV8)을 개방하여 드레인시키고, 다음에 순수 공급 라인(5)의 에어 밸브(AV3)를 개방하여 순수를 용기(2)에 공급 한다.

이후에는 상기한 바와 같은 경로로 순수를 화학 필터(1)에 공급하면서 세정하게 되는데, 이와 같은 과정을 일정횟수 반복하여 필터클리닝을 행하는 것이다.

상기와 같이 하여 필터 클리닝을 종료하면, 왯-스테이션 장비를 복귀시켜 정상 운전을 진행 한다.

그러나, 상기한 바와 같은 종래의 필터 클리닝 장치에 있어서는 필터 클리닝만을 할뿐 필터의 프리 왯팅을 할 수 없음으로 별도의 프리 왯팅작업을 진행하여야 하는 번거로움이 있었고, 필터 클리닝 시간이 너무 길뿐만 아니라(통상 8시간 정도 소요됨) 딥(DIP) 방식으로써 효과가 좋지 않다는 문제가 있었으며, 또한 왯-스테이션 장비와 일체 구성으로써 필터 클리닝시 반드시 장비를 다운시킨 후, 클리닝 작업을 진행하여야 하므로 이에 따른 장비 다운 타임이 길어진다는 문제도 있었다.

이를 감안하여 창안한 본 발명의 목적은 왯-스테이션 장비와 별도로 동작함과 아울러 필터의 프리 왯팅을 가능하게 하여 장비의 다운 타임을 줄이고, 작업의 안전성 확보에 적합하도록 한 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치를 제공함에 있다.

본 발명의 다른 목적은 용액 순환 방식을 채용하여 필터 클리닝 효과를 높이고, 클리닝 시간을 단축시킬 수 있도록 한 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치를 제공함에 있다.

상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 세정액인 불산과 순수를 저장하는 순환 탱크와, 상기 순환 탱크의 세정액이 순환되도록 폐회로를 형성하는 순환 라인 및 이 순환 라인의 도중에 착설된 순환 펌프와, 상기 순환 탱크에 불산 및 순수를 공급하기 위한 불산 공급 라인 및 순수 공급 라인과, 드레인 라인을 구비하고, 상기 순환 라인의 도중에 화학 필터를 이탈,착 가능하게 지지하기 위한 필터 지지대를 착설하여, 왯-스테이션 장비의 순환 유니트와는 별도로 세정액을 순환시키면서 필터를 클리닝하도록 구성한 것을 특징으로 하는 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치가 제공 된다.

이하, 상기한 바와 같은 본 발명에 의한 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치를 첨부도면에 의거하여 보다 상세히 설명한다.

첨부한 제3도는 본 발명의 배관도로서, 이에 도시한 바와 같이, 본 발명에 의한 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치는 세정액인 불산과 순수를 저장하는 순환 탱크(21)와, 상기 순환 탱크(21)의 세정액이 순환되도록 폐회로를 형성하는 순환 라인(22) 및 이 순환 라인(22)의 도중에 착설된 순환 펌프(23)와, 상기 순환 탱크(21)에 불산 및 순수를 공급하기 위한 불산 공급 라인(24) 및 순수 공급 라인(25)과, 드레인 라인(26)을 구비하고, 상기 순환 라인(22)의 도중에 화학 필터를 이탈, 착 가능하게 지지하기 위한 필터 지지대(27)를 착설하여, 왯-스테이션 장비의 순환 유니트와는 별도로 세정액을 순환시키면서 필터를 클리닝하도록 구성되어 있다.

상기 순환 탱크(21)에는 그 내부의 세정액 수위를 감지하기 위한 오버 센서(31), 스톱 센서(32) 및 로우 센서(33)가 상부에서 부터 차례로 부착되어 있고, 상부 일측에는 과다하게 공급되는 세정액을 배출하기 위한 벤트 라인(34)이 연결, 설치되어 있다.

그리고, 상기한 순환 라인(22), 불산 공급 라인(24), 순수 공급 라인(25) 및 드레인 라인(26)에는 각 라인의 통로를 선택적므로 개, 폐하기 위한 에어 밸브(AV1)(AV2)(AV3)(AV4)와 핸드 밸브(HV1)(HV2)(HV3)(HV4)(HV5)가 각각 착설되어 있다.

또한, 상기 필터 지지대(27)는 순환 라인(22)으로 부터 분기한 관(35)에 의해 순환 탱크(21)와 연결되어 있으며, 상기 관(35)의 도중에는 핸드 밸브(HV6)가 착설되어 있다.

한편, 상기한 바와 같은 본 발명 장치는 필터의 클리닝에 겸하여 프리 왯팅도 할 수 있도록 상기 순환 라인(22)의 도중에 세정액 회수용 용기(28)와 회수관(29)을 연결, 설치한 구조로 되어 있다.

상기 회수관(29)의 도중에는 개폐용 핸드 밸브(HV7)가 착설되어 있다.

즉, 본 발명은 왯-스테이션 장비의 순환 유니트와는 별도로 세정액이 순환되도록 동작하면서 필터를 클리닝함과 아울러 제어용 에어 밸브 및 핸드 밸브를 제어하는 것으로 필터의 프리 왯팅도 겸할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하고 있다.

도면에서 미설명 부호 40은 싱크(SINK)를 보인 것이다.

이하, 상기와 같이 구성된 본 발명에 의한 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치의 작용 및 그에 따르는 효과를 살펴본다.

먼저, 클리닝을 요하는 필터를 필터 지지대(27)에 설치하고,(필터를 탈,찰할 수 있도록 되어 있음) 클리닝 스위치를 누른다(이때 HV7은 클로우즈 상태임)상기와 같은 동작에 이어 자동으로 불산 공급 라인(24)을 통해 불산이 순환 탱크(21)의 스톱 센서(32)까지 공급 되고, 순환 펌프(23)가 구동되어 순환 탱크(21)내의 불산은 일정시간 동안 순환 라인(22)의 필터 지지대(27)를 거쳐 순환하게 된다.

소정의 시간이 경과 되면, 불산은 드레인 라인(26)을 통해 드레인 되고, 이어서 순수 공급 라인(25)을 통해 순수가 순환 탱크(21)로 공급 된다.[스톱 센서(32)까지]

이후 상기한 바와 같은 동작으로 순환 탱크(21)내의 순수가 일정 시간 및 일정 횟수 순환 라인(22)을 통해 순환하면서 필터 지지대(27)에 설치된 화학 필터를 클리닝하는 것이다.

한편, 필터의 프리 왯팅과정을 살펴보면 다음과 같다.

필터의 프리 왯팅시에 있어서도 세정액의 순환은 클리닝시와 동일하게 이루어지나, 이때에는 순환하는 세정액을 드레인시키지 않고 회수관(29)으로 유도하여 회수용 용기(28)에 회수하게 된다.

즉, 순환 라인(22)의 핸드 밸브(HV2)와 드레인 라인(26)의 에어밸브(AV4)를 닫고, 회수관(29)의 핸드 밸브(HV7)를 개방하여 순환하는 세정액을 용기(28)에 회수하면서 필터의 프리 왯팅을 실시하는 것이다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의한 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치에 의하면, 장비의 순환 유니트와는 별도로 필터 클리닝을 할 수 있으므로, 장비의 다운 타임을 줄일 수 있고, 특히 스페어 필터를 준비하여 두면 그 효과를 배가시킬 수 있다.

또한, 본 발명 장치는 세정액을 순환시키면서 클리닝을 하므로 종래 딥 방식에 비해 필터내의 산화 실리콘 결정을 완전히 제거할 수 있다는 효과가 있고, 클리닝 시간을 단축할 수 있다는 효과가 있다.

또, 본 발명은 필터의 프리 왯팅이 가능할뿐만 아니라 그 효과가 매우 크고, 안전측면에서 탁월한 효과가 있다. (즉 기존에는 수동으로 왯팅을 했기 때문에 효과가 크지 않고 안전적인 측면에서도 좋지 않았다)

그리고, 본 발명은 에어 밸브와 배관의 추가, 순환 탱크와 순환 펌프의 용량 변경등으로 다수의 필터 클리닝이 가능하게 되며, 또 왯-스테이션 장비에의 접목이 가능하다는 효과도 있다.

Claims

세정액인 불산과 순수를 저장하는 순환 탱크(21)와, 상기 순환 탱크(21)의 세정액이 순환되도록 폐회로를 형성하는 순환 라인(22) 및 이 순환 라인(22)의 도중에 착설된 순환 펌프(23)와, 상기 순환 탱크(21)에 불산 및 순수를 공급하기 위한 불산 공급 라인(24) 및 순수 공급 라인(25)과, 드레인 라인(26)을 구비하고, 상기 순환 라인(22)의 도중에 화학 필터를 이탈,착 가능하게 지지하기 위한 필터 지지대(27)를 착설하여, 왯-스테이션 장비의 순환 유니트와는 별도로 세정액을 순환시키면서 필터를 클리닝하도록 구성한 것을 특징으로 하는 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치.
제1항에 있어서, 상기 순환 탱크(21)를 포함하여 세정액 순환 폐회로를 구성하는 순환 라인(22)의 도중에 세정액 회수용 용기(28)과 회수관(29)을 연결, 설치하여 필터의 프리 왯팅을 겸하도록 구성한 것을 특징으로 하는 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 순환 탱크(21)에는 그 내부의 세정액 수위를 감지하기 위한 오버 센서(31), 스톱 센서(32) 및 로우 센서(33)가 상부에서 부터 차례로 부착 되고, 상부 일측에는 과다하게 공급되는 세정액을 배출하기 위한 벤트 라인(34)이 연결, 설치된 것을 특징으로 하는 반도체 왯-스테이션 장비의 필터 클리닝 장치.