JPH1167710A - ウェーハ洗浄装置 - Google Patents
ウェーハ洗浄装置Info
- Publication number
- JPH1167710A JPH1167710A JP22031197A JP22031197A JPH1167710A JP H1167710 A JPH1167710 A JP H1167710A JP 22031197 A JP22031197 A JP 22031197A JP 22031197 A JP22031197 A JP 22031197A JP H1167710 A JPH1167710 A JP H1167710A
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- water
- pure water
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 温水から冷水への切替え時に気泡が発生する
ことを防止してダスト等によるウェーハの品質悪化を防
止したウェーハ洗浄装置を提供する。 【解決手段】 洗浄すべきウェーハ２０を純水に浸漬す
る純水槽２と、この純水槽底部から槽内に純水を供給す
る純水供給管５と、この純水供給管に温水供給弁１１を
介して連結された温水管１２と、前記純水供給管に冷水
供給弁１３を介して連結された冷水管１４とを具備した
ウェーハ洗浄装置において、前記冷水供給弁１３は三方
弁からなり、この三方弁の入口１３ａを前記冷水管１４
に接続し、この三方弁の一方の出口１３ｂを前記純水供
給管５に接続し、他方の出口１３ｃを前記純水槽２を迂
回させるバイパス管１８に接続した。
ことを防止してダスト等によるウェーハの品質悪化を防
止したウェーハ洗浄装置を提供する。 【解決手段】 洗浄すべきウェーハ２０を純水に浸漬す
る純水槽２と、この純水槽底部から槽内に純水を供給す
る純水供給管５と、この純水供給管に温水供給弁１１を
介して連結された温水管１２と、前記純水供給管に冷水
供給弁１３を介して連結された冷水管１４とを具備した
ウェーハ洗浄装置において、前記冷水供給弁１３は三方
弁からなり、この三方弁の入口１３ａを前記冷水管１４
に接続し、この三方弁の一方の出口１３ｂを前記純水供
給管５に接続し、他方の出口１３ｃを前記純水槽２を迂
回させるバイパス管１８に接続した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体ウェーハの洗
浄装置に関する。より詳しくは、温水および冷水を切替
えて用いる洗浄装置において気泡の発生を防止したウェ
ーハ洗浄装置に関するものである。
浄装置に関する。より詳しくは、温水および冷水を切替
えて用いる洗浄装置において気泡の発生を防止したウェ
ーハ洗浄装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造プロセスにおいて、ウェーハ
上に各種処理を施した後、ウェーハは洗浄される。この
ウェーハの洗浄処理は、洗浄薬液によりウェーハ両面を
洗浄した後、純水により薬液を除去するとともにウェー
ハ表面を清浄化するものである。
上に各種処理を施した後、ウェーハは洗浄される。この
ウェーハの洗浄処理は、洗浄薬液によりウェーハ両面を
洗浄した後、純水により薬液を除去するとともにウェー
ハ表面を清浄化するものである。
【０００３】図４から図６は、従来のウェーハ洗浄装置
によるウェーハ洗浄工程を順番に示す配管図である。図
４に示すように、洗浄槽４１は二重槽構造であって、内
槽を構成する純水槽４２とその外側の外槽４３からな
り、外槽４３の底部には回収管４４が接続される。純水
槽４２の底部には槽内に洗浄用の純水を供給するための
純水供給管４５が接続され、槽内底部に設けた吐出口４
６を介して温水または冷水（常温）状態の純水を供給す
る。純水槽４２の底部には排水管４７が接続される。
によるウェーハ洗浄工程を順番に示す配管図である。図
４に示すように、洗浄槽４１は二重槽構造であって、内
槽を構成する純水槽４２とその外側の外槽４３からな
り、外槽４３の底部には回収管４４が接続される。純水
槽４２の底部には槽内に洗浄用の純水を供給するための
純水供給管４５が接続され、槽内底部に設けた吐出口４
６を介して温水または冷水（常温）状態の純水を供給す
る。純水槽４２の底部には排水管４７が接続される。
【０００４】純水供給管４５上には、流量調整弁装置４
８が設けられ、また圧力計４９および流量計５０が設け
られる。流量調整弁装置４８は、二方開閉弁４８ａとこ
れに直列の流量調整弁４８ｂおよびこれらに並列してバ
イパスする流量調整弁４８ｃからなる。バイパス用流量
調整弁４８ｃは、開閉弁４８ａが閉じたときでも常に少
量の純水を供給しておくためのものである。
８が設けられ、また圧力計４９および流量計５０が設け
られる。流量調整弁装置４８は、二方開閉弁４８ａとこ
れに直列の流量調整弁４８ｂおよびこれらに並列してバ
イパスする流量調整弁４８ｃからなる。バイパス用流量
調整弁４８ｃは、開閉弁４８ａが閉じたときでも常に少
量の純水を供給しておくためのものである。
【０００５】この純水供給管４５には、エア駆動の二方
開閉弁からなる温水供給弁５１を介して温水管５２が接
続され、またこれと並列して同じくエア駆動の二方開閉
弁からなる冷水供給弁５３を介して冷水管５４が接続さ
れる。温水管５２は温水ユニット５５に接続し、冷水管
５４は図示しない純水タンクに接続している。また、冷
水管５４は分岐して温水ユニット５５に接続している。
温水ユニット５５には、ユニット内の水を排出するため
の排水管５６およびユニットから漏れた水等を排出する
バットドレン管５７が接続している。
開閉弁からなる温水供給弁５１を介して温水管５２が接
続され、またこれと並列して同じくエア駆動の二方開閉
弁からなる冷水供給弁５３を介して冷水管５４が接続さ
れる。温水管５２は温水ユニット５５に接続し、冷水管
５４は図示しない純水タンクに接続している。また、冷
水管５４は分岐して温水ユニット５５に接続している。
温水ユニット５５には、ユニット内の水を排出するため
の排水管５６およびユニットから漏れた水等を排出する
バットドレン管５７が接続している。
【０００６】このような構成の従来のウェーハ洗浄装置
において、ウェーハ５８を洗浄する場合、まず、図４に
示すように、エア駆動の冷水供給弁５３を閉じ、温水供
給弁５１を開いて温水ユニット５５から、温水管５２お
よび純水供給管４５を介して、純水槽４２に適当な温度
まで加熱された温水を供給し槽内を温水で充満させる。
この状態で温水を供給しながらウェーハ５８を純水槽４
２内の温水中に浸漬し所定時間洗浄を行う。
において、ウェーハ５８を洗浄する場合、まず、図４に
示すように、エア駆動の冷水供給弁５３を閉じ、温水供
給弁５１を開いて温水ユニット５５から、温水管５２お
よび純水供給管４５を介して、純水槽４２に適当な温度
まで加熱された温水を供給し槽内を温水で充満させる。
この状態で温水を供給しながらウェーハ５８を純水槽４
２内の温水中に浸漬し所定時間洗浄を行う。
【０００７】続いて図５に示すように、温水供給弁５１
を閉じ、冷水供給弁５３を開いて、冷水（常温の純水）
を純水供給管４５を介して純水槽４２内に供給しウェー
ハ５８を常温まで冷却する。冷水によりウェーハ５８を
所定時間洗浄とともに冷却した後、図６に示すように、
ウェーハ５８を純水槽４２から取り出し、次の処理を施
す場所に搬送する。
を閉じ、冷水供給弁５３を開いて、冷水（常温の純水）
を純水供給管４５を介して純水槽４２内に供給しウェー
ハ５８を常温まで冷却する。冷水によりウェーハ５８を
所定時間洗浄とともに冷却した後、図６に示すように、
ウェーハ５８を純水槽４２から取り出し、次の処理を施
す場所に搬送する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のウェーハ洗浄装置においては、温水から冷水に切替
えるときに、図５に示すように、純水槽４２内に気泡が
混入する。この気泡は、温水供給時に閉じられていた冷
水供給弁５３に空気が溜まり、冷水供給弁５３を開いた
ときにこの空気が冷水とともに吐出口４６から噴出され
るために発生するものである。このような気泡は、溜ま
っていた空気中のダストあるいは雑菌等を含む場合があ
り、これがウェーハ表面に接触してダスト付着による表
面品質の悪化の原因となることがある。
来のウェーハ洗浄装置においては、温水から冷水に切替
えるときに、図５に示すように、純水槽４２内に気泡が
混入する。この気泡は、温水供給時に閉じられていた冷
水供給弁５３に空気が溜まり、冷水供給弁５３を開いた
ときにこの空気が冷水とともに吐出口４６から噴出され
るために発生するものである。このような気泡は、溜ま
っていた空気中のダストあるいは雑菌等を含む場合があ
り、これがウェーハ表面に接触してダスト付着による表
面品質の悪化の原因となることがある。
【０００９】本発明は上記従来技術を考慮してなされた
ものであって、温水から冷水への切替え時に気泡が発生
することを防止してダスト等によるウェーハの品質悪化
を防止したウェーハ洗浄装置の提供を目的とする。
ものであって、温水から冷水への切替え時に気泡が発生
することを防止してダスト等によるウェーハの品質悪化
を防止したウェーハ洗浄装置の提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明では、洗浄すべきウェーハを純水に浸漬する
純水槽と、この純水槽底部から槽内に純水を供給する純
水供給管と、この純水供給管に温水供給弁を介して連結
された温水管と、前記純水供給管に冷水供給弁を介して
連結された冷水管とを具備したウェーハ洗浄装置におい
て、前記冷水供給弁は三方弁からなり、この三方弁の入
口を前記冷水管に接続し、この三方弁の一方の出口を前
記純水供給管に接続し、他方の出口を前記純水槽を迂回
するバイパス管に接続したことを特徴とするウェーハ洗
浄装置を提供する。
め、本発明では、洗浄すべきウェーハを純水に浸漬する
純水槽と、この純水槽底部から槽内に純水を供給する純
水供給管と、この純水供給管に温水供給弁を介して連結
された温水管と、前記純水供給管に冷水供給弁を介して
連結された冷水管とを具備したウェーハ洗浄装置におい
て、前記冷水供給弁は三方弁からなり、この三方弁の入
口を前記冷水管に接続し、この三方弁の一方の出口を前
記純水供給管に接続し、他方の出口を前記純水槽を迂回
するバイパス管に接続したことを特徴とするウェーハ洗
浄装置を提供する。
【００１１】この構成によれば、温水供給中に、冷水は
冷水供給用の三方弁に止められることなく、純水槽を迂
回して循環する。このため、冷水供給弁に空気が溜まる
ことはなく、したがって、温水から冷水に切替えたとき
に冷水に混じって気泡が吐出されることはない。
冷水供給用の三方弁に止められることなく、純水槽を迂
回して循環する。このため、冷水供給弁に空気が溜まる
ことはなく、したがって、温水から冷水に切替えたとき
に冷水に混じって気泡が吐出されることはない。
【００１２】
【発明の実施の形態】好ましい実施の形態においては、
前記バイパス管は、前記純水槽から洗浄後の純水を排出
して回収する回収管に接続されたことを特徴としてい
る。この構成によれば、洗浄装置に本来必要な純水の回
収管にバイパス管を接続して冷水を循環させるため、新
たなバイパス用の回収管を設ける必要はなく配管構造が
複雑になることはない。
前記バイパス管は、前記純水槽から洗浄後の純水を排出
して回収する回収管に接続されたことを特徴としてい
る。この構成によれば、洗浄装置に本来必要な純水の回
収管にバイパス管を接続して冷水を循環させるため、新
たなバイパス用の回収管を設ける必要はなく配管構造が
複雑になることはない。
【００１３】図１から図３は、本発明の実施の形態に係
るウェーハ洗浄装置によるウェーハ洗浄工程を順番に示
す配管図である。図１に示すように、洗浄槽１は二重槽
構造であって、内槽を構成する純水槽２とその外側の外
槽３からなり、外槽３の底部には回収管４が接続され
る。純水槽２の底部には槽内に洗浄用の純水を供給する
ための純水供給管５が接続され、槽内底部に設けた吐出
口６を介して温水または冷水（常温）状態の純水を供給
する。純水槽２の底部には排水管７が接続される。
るウェーハ洗浄装置によるウェーハ洗浄工程を順番に示
す配管図である。図１に示すように、洗浄槽１は二重槽
構造であって、内槽を構成する純水槽２とその外側の外
槽３からなり、外槽３の底部には回収管４が接続され
る。純水槽２の底部には槽内に洗浄用の純水を供給する
ための純水供給管５が接続され、槽内底部に設けた吐出
口６を介して温水または冷水（常温）状態の純水を供給
する。純水槽２の底部には排水管７が接続される。
【００１４】純水供給管５上には、流量調整弁装置８が
設けられ、また圧力計９および流量計１０が設けられ
る。流量調整弁装置８は、二方開閉弁８ａとこれに直列
の流量調整弁８ｂおよびこれらに並列してバイパスする
流量調整弁８ｃからなる。バイパス用流量調整弁８ｃ
は、開閉弁８ａが閉じたときでも常に少量の純水を供給
しておくためのものである。
設けられ、また圧力計９および流量計１０が設けられ
る。流量調整弁装置８は、二方開閉弁８ａとこれに直列
の流量調整弁８ｂおよびこれらに並列してバイパスする
流量調整弁８ｃからなる。バイパス用流量調整弁８ｃ
は、開閉弁８ａが閉じたときでも常に少量の純水を供給
しておくためのものである。
【００１５】この純水供給管５には、エア駆動の二方開
閉弁１１を介して温水管１２が接続される。この温水管
１２に並列して、純水供給管５には冷水供給弁１３を介
して冷水管１４が接続される。この冷水供給弁１３は三
方弁からなり、その入口１３ａが図示しない純水タンク
に接続され、２方の出口のうち一方の出口１３ｂが上記
純水供給管５に接続され他方の出口１３ｃがバイパス管
１８に接続される。バイパス管１８上には流量調整弁１
９が接続される。このバイパス管１８は、純水タンクか
らの冷水（常温の純水）を、純水供給管５および純水槽
２を迂回させて流すためのものであり、洗浄槽１から洗
浄後の純水を回収（または排水）するための回収管４に
接続される。
閉弁１１を介して温水管１２が接続される。この温水管
１２に並列して、純水供給管５には冷水供給弁１３を介
して冷水管１４が接続される。この冷水供給弁１３は三
方弁からなり、その入口１３ａが図示しない純水タンク
に接続され、２方の出口のうち一方の出口１３ｂが上記
純水供給管５に接続され他方の出口１３ｃがバイパス管
１８に接続される。バイパス管１８上には流量調整弁１
９が接続される。このバイパス管１８は、純水タンクか
らの冷水（常温の純水）を、純水供給管５および純水槽
２を迂回させて流すためのものであり、洗浄槽１から洗
浄後の純水を回収（または排水）するための回収管４に
接続される。
【００１６】温水管１２は温水ユニット１５に接続し、
冷水管１４は図示しない純水タンクに接続している。ま
た、冷水管１４は分岐して温水ユニット１５に接続して
いる。温水ユニット１５には、ユニット内の水を排出す
るための排水管１６およびユニットから漏れた水等を排
出するバットドレン管１７が接続している。
冷水管１４は図示しない純水タンクに接続している。ま
た、冷水管１４は分岐して温水ユニット１５に接続して
いる。温水ユニット１５には、ユニット内の水を排出す
るための排水管１６およびユニットから漏れた水等を排
出するバットドレン管１７が接続している。
【００１７】このような構成のウェーハ洗浄装置におい
て、ウェーハ２０を洗浄する場合、まず、図１に示すよ
うに、温水供給弁１１を開いて温水ユニット１５から、
温水管１２および純水供給管５を介して、純水槽２に適
当な温度まで加熱された温水を供給し槽内を温水で充満
させる。このとき、三方弁からなる冷水供給弁１３は、
バイパス管１８側に切替られ、冷水はこの冷水供給弁１
３に止められることなく、パイパス管１８を通り回収管
４の純水と合流して回収される。このように温水を供給
し、冷水を迂回させて流しながらウェーハ２０を純水槽
２内の温水中に浸漬し所定時間洗浄を行う。このとき冷
水は冷水供給弁１３に滞留しないため、ここに空気が溜
まることはない。この場合、バイパスさせる冷水の流量
は、冷水の流れを止めない程度の少量でよいため、流量
調整弁１９により適当な水量に絞って循環させる。
て、ウェーハ２０を洗浄する場合、まず、図１に示すよ
うに、温水供給弁１１を開いて温水ユニット１５から、
温水管１２および純水供給管５を介して、純水槽２に適
当な温度まで加熱された温水を供給し槽内を温水で充満
させる。このとき、三方弁からなる冷水供給弁１３は、
バイパス管１８側に切替られ、冷水はこの冷水供給弁１
３に止められることなく、パイパス管１８を通り回収管
４の純水と合流して回収される。このように温水を供給
し、冷水を迂回させて流しながらウェーハ２０を純水槽
２内の温水中に浸漬し所定時間洗浄を行う。このとき冷
水は冷水供給弁１３に滞留しないため、ここに空気が溜
まることはない。この場合、バイパスさせる冷水の流量
は、冷水の流れを止めない程度の少量でよいため、流量
調整弁１９により適当な水量に絞って循環させる。
【００１８】続いて図２に示すように、温水供給弁１１
を閉じ、冷水供給弁１３を純水供給管５側に切替て、冷
水（常温の純水）を純水供給管５を介して純水槽２内に
供給しウェーハ２０を常温まで冷却する。この切替直後
に、純水槽２に送られる冷水は、前述のように空気が溜
っていないため、純水槽２に気泡が吐出されることはな
い。
を閉じ、冷水供給弁１３を純水供給管５側に切替て、冷
水（常温の純水）を純水供給管５を介して純水槽２内に
供給しウェーハ２０を常温まで冷却する。この切替直後
に、純水槽２に送られる冷水は、前述のように空気が溜
っていないため、純水槽２に気泡が吐出されることはな
い。
【００１９】このように、冷水によりウェーハ２０を所
定時間洗浄とともに冷却した後、図３に示すように、ウ
ェーハ２０を純水槽２から取り出し、次の処理を施す場
所に搬送する。
定時間洗浄とともに冷却した後、図３に示すように、ウ
ェーハ２０を純水槽２から取り出し、次の処理を施す場
所に搬送する。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、温水供給中に、冷水は冷水供給用の三方弁に止めら
れることなく、純水槽を迂回して循環する。このため、
冷水供給弁に空気が溜まることはなく、温水から冷水に
切替えたときに冷水に混じって気泡が吐出されることは
ない。したがって、気泡中に含まれるダストや雑菌等に
よりウェーハ表面が汚染されることはなく、洗浄の信頼
性が高まり高品質表面のウェーハが得られる。
は、温水供給中に、冷水は冷水供給用の三方弁に止めら
れることなく、純水槽を迂回して循環する。このため、
冷水供給弁に空気が溜まることはなく、温水から冷水に
切替えたときに冷水に混じって気泡が吐出されることは
ない。したがって、気泡中に含まれるダストや雑菌等に
よりウェーハ表面が汚染されることはなく、洗浄の信頼
性が高まり高品質表面のウェーハが得られる。
【図１】 本発明の実施例に係るウェーハ洗浄装置の温
水供給時の構成図。
水供給時の構成図。
【図２】 図１の洗浄装置の温水から冷水への切替時の
構成図。
構成図。
【図３】 図１の洗浄装置のウェーハ取上げ時の構成
図。
図。
【図４】 従来のウェーハ洗浄装置の温水供給時の構成
図。
図。
【図５】 図４の洗浄装置の温水から冷水への切替時の
構成図。
構成図。
【図６】 図４の洗浄装置のウェーハ取上げ時の構成
図。
図。
１：洗浄槽、２：純水槽、３：外槽、４：回収管、５：
純水供給管、６：吐出管、７，１６：排水管、８：流量
調整弁装置、９：圧力計、１０：流量計、１１：温水供
給弁、１２：温水管、１３：冷水供給弁、１４：冷水
管、１５：温水ユニット、１７：バットドレン、１８：
バイパス管、１９：流量調整弁、２０ウェーハ。
純水供給管、６：吐出管、７，１６：排水管、８：流量
調整弁装置、９：圧力計、１０：流量計、１１：温水供
給弁、１２：温水管、１３：冷水供給弁、１４：冷水
管、１５：温水ユニット、１７：バットドレン、１８：
バイパス管、１９：流量調整弁、２０ウェーハ。
Claims (2)
- 【請求項１】洗浄すべきウェーハを純水に浸漬する純水
槽と、 この純水槽底部から槽内に純水を供給する純水供給管
と、 この純水供給管に温水供給弁を介して連結された温水管
と、 前記純水供給管に冷水供給弁を介して連結された冷水管
とを具備したウェーハ洗浄装置において、 前記冷水供給弁は三方弁からなり、 この三方弁の入口を前記冷水管に接続し、 この三方弁の一方の出口を前記純水供給管に接続し、他
方の出口を前記純水槽を迂回するバイパス管に接続した
ことを特徴とするウェーハ洗浄装置。 - 【請求項２】前記バイパス管は、前記純水槽から洗浄後
の純水を排出して回収する回収管に接続したことを特徴
とする請求項１に記載のウェーハ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22031197A JPH1167710A (ja) | 1997-08-15 | 1997-08-15 | ウェーハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22031197A JPH1167710A (ja) | 1997-08-15 | 1997-08-15 | ウェーハ洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1167710A true JPH1167710A (ja) | 1999-03-09 |
Family
ID=16749162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22031197A Pending JPH1167710A (ja) | 1997-08-15 | 1997-08-15 | ウェーハ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1167710A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100880697B1 (ko) | 2007-09-19 | 2009-02-02 | 세메스 주식회사 | 약액 공급 장치 및 그의 온도 조절 방법, 그리고 이를구비하는 반도체 제조 설비 |
| KR20110097607A (ko) * | 2010-02-24 | 2011-08-31 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 액처리 장치, 액처리 방법 및 기록 매체 |
| JP2011176118A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法、プログラムおよびプログラム記録媒体 |
-
1997
- 1997-08-15 JP JP22031197A patent/JPH1167710A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100880697B1 (ko) | 2007-09-19 | 2009-02-02 | 세메스 주식회사 | 약액 공급 장치 및 그의 온도 조절 방법, 그리고 이를구비하는 반도체 제조 설비 |
| KR20110097607A (ko) * | 2010-02-24 | 2011-08-31 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 액처리 장치, 액처리 방법 및 기록 매체 |
| JP2011176118A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法、プログラムおよびプログラム記録媒体 |
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