JP2001137625A - フィルタリング装置 - Google Patents

フィルタリング装置

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JP2001137625A
JP2001137625A JP32229099A JP32229099A JP2001137625A JP 2001137625 A JP2001137625 A JP 2001137625A JP 32229099 A JP32229099 A JP 32229099A JP 32229099 A JP32229099 A JP 32229099A JP 2001137625 A JP2001137625 A JP 2001137625A
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JP
Japan
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housing
liquid
filter
replacement
pipe
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JP32229099A
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English (en)
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Takumi Tomizawa
巧 富澤
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NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 フィルタ交換前後の作業が簡便で短時間で終
了すると共に安全性が高いフィルタリング装置を提供す
る。 【解決手段】 レジスト塗布機に使用されるフィルタリ
ング装置は、フィルタ2を収納するハウジング3と、ハ
ウジング3にレジストを供給するイン側配管4及びレジ
ストを排出するアウト側配管1とを有している。更に、
ハウジング3とアウト側配管1との接続部に接続されハ
ウジング3内の液体を排出するアウト側置換用配管10
と、ハウジング3の下部側面に接続され置換用液体を注
入するイン側置換用配管9と、を有しており、配管とハ
ウジング3との接続部には各配管を開閉する開閉弁が夫
々設けられている。また、第1配管15及び第2配管1
6が接続され、レジスト洗浄溶剤を選択して第1配管1
5からハウジング3に供給し、その後、純水を選択して
第2配管16からハウジング3に供給する切り替え部1
7がイン側置換用配管9に接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、使用する処理液が
フィルタを通って循環するシステムを有する半導体製造
装置に使用されるフィルタリング装置に関し、特に、半
導体装置のパターン形成過程に使用する塗布機等に使用
されるフィルタリング装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体装置のパターン形成過程で
使用するレジスト塗布機において、フィルタリング装置
内のフィルタ交換をする場合、外部にレジストが飛散し
ないように装置周辺を包囲し、その中に人が入ってフィ
ルタ交換をしている。図2は、従来のフィルタリング装
置を示す模式的側面図である。フィルタリング装置は、
フィルタ22を収納するフィルタハウジング23と、ハ
ウジング23の上部に接続されたアウト側配管21と、
下部に接続されたイン側配管24とを有し、フィルタ2
2はハウジング23を通過して循環するレジストの中に
配置されている。薬液槽(図示せず)のレジストはイン
側配管24を通ってハウジング23内へ供給され、ハウ
ジング23に収納されたフィルタ22を通過し、アウト
側配管21から排出され再び薬液槽へ戻る。
【0003】図3は、従来のフィルタ交換の様子を示す
模式図である。図2に示すような従来のフィルタリング
装置を使用した塗布機において、ハウジング23を取り
外し新しいフィルタと交換する場合は、図3に示すよう
に、装置本体26から外部にレジストの臭気が飛散する
のを防ぐため、装置本体26のフィルタ交換部を包囲用
ビニール製膜27で覆い、この包囲用ビニール製膜27
に排気ダクト28を設けて包囲用ビニール製膜27内を
排気しつつ、この中に作業人29が入ってフィルタを交
換している。
【0004】しかし、この方法では、工数及び時間がか
かる上、有機溶剤により人体への危険性等の問題点があ
った。そこで、特開昭63−248414号公報には、
置換用溶剤を入れる薬液槽を新たに設けた薬液循環フィ
ルタリングシステムが開示されている。図4は、この公
報に記載の薬液循環フィルタリングシステムを示す模式
図である。図4に示すように、薬液処理装置の薬液は、
薬液槽31から薬液の循環を駆動するポンプ32を介し
てフィルタ(フィルタエレメント及びフィルタハウジン
グ)33を通り、薬液槽31へと循環するように配管に
より接続されている。薬液槽31及とポンプ32との間
及びフィルタ33と薬液槽31との間には夫々バルブ3
5及びバルブ36が設けられ、これらのバルブを開ける
ことによりフィルタ33に薬液を通すことができる。ま
た、液槽34が、バルブ38を介してバルブ35とポン
プ32との間に接続され、フィルタ33とその下部に設
けられたバルブ36との間にはバルブ37を介して廃液
を排出する配管が接続されている。フィルタの交換に
は、先ず、液槽34に純水を入れる。そして、廃液排出
用のバルブ37を開け、薬液槽31の薬液出口側のバル
ブ35と、フィルタ33の下部に設けられた薬液入口側
バルブ36とを閉じ、液槽34のバルブ38を開けると
フィルタ33内が純水に置換される。その後、フィルタ
を新しいものと取り替える。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
63−248414号公報に記載の方法では、フィルタ
を交換する際は、フィルタ部のみならず本配管内のバル
ブが形成されている領域まで他の溶剤で大規模に置換す
る必要がある。更に、フィルタ交換後も、本来使用する
有機溶剤(塗布機であればレジスト)で大規模に置換す
る必要があり、フィルタ交換に時間及びコストがかかる
という問題点がある。
【0006】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、フィルタ交換前後の作業が簡便で短時間で
終了すると共に安全性が高いフィルタリング装置を提供
することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明に係るフィルタリ
ング装置は、半導体製造時に使用する処理液をフィルタ
を介して循環させることにより清浄化するフィルタリン
グ装置において、前記フィルタを収納するフィルタハウ
ジングと、前記ハウジングに接続され前記ハウジング内
に前記処理液を供給する第1のイン側配管と、前記ハウ
ジングに接続され前記ハウジングから前記処理液を排出
する第1のアウト側配管と、前記ハウジングに接続され
前記ハウジング内に前記処理液に対する置換用液体を供
給する第2のイン側配管と、前記ハウジングに接続され
前記ハウジング内の液体を排出する第2のアウト側配管
と、前記各配管と前記ハウジングとの接続部に設けられ
前記配管を開閉する開閉弁とを有することを特徴とす
る。
【0008】本発明においては、ハウジング接続された
第2のイン側配管と第2のアウト側配管とを有し、更
に、各配管を開閉する開閉弁を有するため、処理液を循
環させる配管の開閉弁を閉じ、置換用液体を供給する配
管の開閉弁を開いて液体をハウジングに供給することに
より、ハウジング内の処理液を置換するときに配管内に
置換用液体が侵入しない。また、開閉弁の開閉のみでハ
ウジング内の処理液を置換するため、ハウジング内の液
体の置換操作が簡便であると共に短時間で終了し、ま
た、処理液を置換用液体によって置換するため、処理液
の臭気等が外部に漏れることなく安全にフィルタ交換を
することができる。
【0009】また、前記開閉弁は前記ハウジングの壁に
設けられていることが好ましい。
【0010】更に、前記第2のイン側配管に接続された
切り替え部と、前記切り替え部に接続され第1の置換用
液体を供給する第1の配管と、前記切り替え部に接続さ
れ第2の置換用液体を供給する第2の配管と、を有し、
前記切り替え部は、先ず、前記第1の置換用液体を選択
して前記ハウジングに供給し、その後、前記第2の置換
用液体を選択して前記ハウジングに供給するように構成
してもよい。
【0011】更にまた、前記処理液がレジストである場
合は、前記第1置換用液体をレジスト洗浄剤、前記第2
置換用液体を純水とすることができ、切り替え部により
これらの置換用液体を選択して、前記処理液をレジスト
洗浄剤により置換した後、そのレジスト洗浄剤を純水に
置換することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について添
付の図面を参照して具体的に説明する。図1は、本発明
の実施例を示す模式的側面図である。本発明は、半導体
装置の製造時に使用する処理液をフィルタを介して循環
させることにより清浄化するフィルタリング装置であ
り、本実施例は、レジストの塗布機においてレジストの
清浄化に使用されるフィルタリング装置である。
【0013】図1に示すように、本実施例のフィルタリ
ング装置は、内部にフィルタ2が収納されたフィルタハ
ウジング3と、ハウジング3の上面に接続され処理液で
あるレジストがハウジング3から排出されるアウト側配
管1と、ハウジング3の下部に接続されハウジング3内
にレジストを供給するイン側配管4と、ハウジング3の
アウト側配管1との接続部に接続されフィルタ清掃中に
ハウジング3内の液体(即ち、処理液及び置換用液体)
をハウジング3から排出するアウト側置換用配管10
と、ハウジング3の下部側面に接続されハウジング3内
に置換用液体を供給するイン側置換用配管9と、有して
いる。ハウジング3のアウト側配管1及びアウト側置換
用配管10との接続部にはこれらの配管を夫々開閉する
アウト側開閉弁12及び置換用アウト側開閉弁14がハ
ウジング3の壁に設けられている。ハウジング3のイン
側配管4との接続部にはイン側配管4を開閉するイン側
開閉弁8が設けられ、また、ハウジング3のイン側置換
用配管9との接続部には置換用イン側開閉弁13がハウ
ジングの壁に設けられている。そして、アウト側開閉弁
12及びイン側開閉弁8はアウト側配管1及びイン側配
管4とハウジング3とが接続されるハウジング3の接続
部に夫々設けられることにより、アウト側配管1及びイ
ン側配管4中に置換用液体が入り込むのを防止できるよ
うになっている。なお、ハウジング3と配管との間にハ
ウジング3を離脱することができる接続部を設けて、そ
の接続部に開閉弁を設けてもよい。この場合は、ハウジ
ング3をフィルタリング装置から取り外してフィルタ2
を交換することができる。
【0014】更に、イン側置換用配管9には、任意の種
類の処理液又は置換用液体に対応した切り替え部17が
接続され、切り替え部17は第1置換用液体をハウジン
グ3に供給する第1配管15と、第2置換用液体をハウ
ジング3に供給する第2配管16とに接続されている。
そして、切り替え部17が、先ず、第1置換用液体を選
択してハウジング3に供給し、その後、第2置換用液体
を選択してハウジング3に供給することにより、2種類
の置換用液体をハウジング3に供給することができる。
なお、切り替え部17には必要に応じて2つ以上の配管
を接続することができる。そして、フィルタハウジング
3には、フィルタ2をハウジング3から取り出して交換
するためにハウジング3を開閉する取り外し部5が形成
されている。
【0015】次に、本実施例の動作について説明する。
本実施例のフィルタリング装置は、レジスト塗布機のレ
ジストがフィルタリング装置のイン側配管4よりハウジ
ング3内のフィルタ2を通過しアウト側配管1より排出
されることにより清浄化された後、シリコン基板上等に
塗布される。このようなフィルタリング装置のフィルタ
2を交換するときは、先ず、フィルタリング装置のハウ
ジング3の上部及び下部に取り付けられたアウト側開閉
弁12及びイン側開閉弁8を閉じ、レジストの循環を停
止する。次に、切り替え部17が第1配管15を選択し
た状態で、第1配管15からレジスト置換用イン側開閉
弁13を開き、置換用アウト側開閉弁14を開くと、第
1置換用液体のレジスト洗浄溶剤が第1配管15からイ
ン側置換用配管9を介してハウジング3内に供給され
る。これによりハウジング3内のレジストが徐々にアウ
ト側置換用配管10から追い出されていく。この状態を
しばらく続けると、ハウジング3内がレジストからレジ
ストの洗浄溶剤に置換され、また、フィルタ2がレジス
ト洗浄溶剤により洗浄されてハウジング3内のレジスト
からレジスト洗浄溶剤への置換が完了する。レジストか
らレジスト洗浄溶剤への置換が完了したら、置換用液体
の供給側の置換用イン側開閉弁13及び置換用液体の排
出側の置換用アウト側開閉弁14を夫々閉じる。
【0016】次に、切り替え部17が第2配管16を選
択した状態で、置換用イン側開閉弁13及び置換用アウ
ト側開閉弁14を開くと、第2配管16からイン側置換
用配管9を介してフィルタハウジング3内に純水が供給
されて、フィルタハウジング3内のレジスト洗浄溶剤が
徐々にアウト側置換用配管10から追い出される。この
状態をしばらく続けるとハウジング3内がレジスト洗浄
溶剤から純水に置換される。ここで置換用イン側開閉弁
13及び置換用アウト側開閉弁14を閉じてハウジング
3内のレジストから純水への置換は完了する。この置換
が完了した後、フィルタ2を交換するため、ハウジング
3の取り外し部5を開閉してフィルタ2を取り出し交換
する。このとき、ハウジング3内は純水で置換されてい
るため、レジスト又はレジストの洗浄溶剤が外部へ飛散
することなく安全にフィルタ交換を実施することができ
る。
【0017】なお、レジスト洗浄溶剤を供給した後で純
水を供給する際、置換用イン側開閉弁13及び置換用ア
ウト側開閉弁14を閉じずにこれらの開閉弁を開いたま
ま切り替え部17により置換用溶液の切り替えを行って
もよい。
【0018】このように構成された本実施例において
は、フィルタリング装置のフィルタハウジングに処理液
に対する置換用液体を供給するイン側配管及び置換用液
体を排出するアウト側配管を接続し、更に、フィルタハ
ウジングに接続する全ての配管は、配管とハウジングと
の接続部に各配管を開閉するための開閉弁を有している
ため、フィルタ内のレジストを純水等の安全な液体に置
換して周囲にレジスト及びレジスト洗浄溶剤の臭気を飛
散することなく、安全にフィルタ交換することができ
る。また、ハウジング内をレジストからレジスト洗浄溶
剤、純水そして再びレジストへ置換する際、ハウジング
内のみの液体を置換すればよく、使用する液体が極めて
少量でよいと共にフィルタ交換を短時間で行うことがで
きる。
【0019】なお、切り替え部17の切り替えは手動で
あっても、自動制御される制御部を有してもよい。
【0020】また、本発明のフィルタハウジングを半導
体基板を処理液槽に入れて半導体基板の洗浄又はエッチ
ング等の薬液処理に使用する半導体製造装置等に使用す
る等、フィルタ内を直接、純水等の安全な液体で置換す
ることができる場合は、第1配管のみを使用すればよ
く、置換用液体から再度処理液に置換する際、濡れ性を
向上させるためにフィルタ内をアルコール等で置換する
等により置換用液体の種類が増えた場合等、必要であれ
ば切り替え部に接続する配管の数を増やすことができ
る。
【0021】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
フィルタを収納するフィルタハウジングにハウジング内
の処理液を置換用液体に置換する置換用配管が接続さ
れ、ハウジング内に処理液及び置換用液体を供給する配
管並びにこれらの液体を排出する配管とハウジングとの
接続部には配管を開閉する開閉弁が夫々設けられている
ため、フィルタを交換する際には、フィルタハウジング
内の処理液のみを置換すればよく、従って、短時間でフ
ィルタを交換することができ、工数が少なく簡便である
と共に処理液等の有機溶剤の臭気が外部に漏れたりする
ことがなく、安全性が高いという効果を奏する。更に、
フィルタ交換後も、フィルタハウジング内の置換用液体
のみを処理液に置換すればよいので、短時間及び低コス
トでフィルタ交換を完了させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係るフィルタリング装置を示
す模式的側面図である。
【図2】従来のフィルタリング装置を示す模式的側面図
である。
【図3】従来のフィルタ交換の様子を示す模式図であ
る。
【図4】特開昭63−248414号公報に記載の薬液
循環フィルタリングシステムを示す模式図である。
【符号の説明】
1、21;アウト側配管 2、22、33;フィルタ 3、23;ハウジング 4、24;イン側配管 5、25;取り外し部 8;イン側開閉弁 9;イン側置換用配管 10;アウト側置換用配管 12;アウト側開閉弁 13;置換用イン側開閉弁 14;置換用アウト側開閉弁 15;第1配管 16;第2配管 17;切り替え部 26;装置本体 27;包囲用ビニール製膜 28;排気ダクト 29;作業人 31;薬液槽 32;循環ポンプ 34;液槽 35、36、37、38;バルブ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体製造時に使用する処理液をフィル
    タを介して循環させることにより清浄化するフィルタリ
    ング装置において、前記フィルタを収納するフィルタハ
    ウジングと、前記ハウジングに接続され前記ハウジング
    内に前記処理液を供給する第1のイン側配管と、前記ハ
    ウジングに接続され前記ハウジングから前記処理液を排
    出する第1のアウト側配管と、前記ハウジングに接続さ
    れ前記ハウジング内に前記処理液に対する置換用液体を
    供給する第2のイン側配管と、前記ハウジングに接続さ
    れ前記ハウジング内の液体を排出する第2のアウト側配
    管と、前記各配管と前記ハウジングとの接続部に設けら
    れ前記配管を開閉する開閉弁とを有することを特徴とす
    るフィルタリング装置。
  2. 【請求項2】 前記開閉弁は前記ハウジングの壁に設け
    られていることを特徴とする請求項1に記載のフィルタ
    リング装置。
  3. 【請求項3】 前記第2のイン側配管に接続された切り
    替え部と、前記切り替え部に接続され第1の置換用液体
    を供給する第1の配管と、前記切り替え部に接続され第
    2の置換用液体を供給する第2の配管と、を有し、前記
    切り替え部は、先ず、前記第1の置換用液体を選択して
    前記ハウジングに供給し、その後、前記第2の置換用液
    体を選択して前記ハウジングに供給することを特徴とす
    る請求項1又は2に記載のフィルタリング装置。
  4. 【請求項4】 前記処理液はレジストであることを特徴
    とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のフィルタ
    リング装置。
  5. 【請求項5】 前記第1の置換用液体はレジスト洗浄剤
    であることを特徴とする請求項4に記載のフィルタリン
    グ装置。
  6. 【請求項6】 前記第2の置換用液体は純水であること
    を特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のフ
    ィルタリング装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8337627B2 (en) 2009-10-01 2012-12-25 International Business Machines Corporation Cleaning exhaust screens in a manufacturing process
KR101576120B1 (ko) 2013-08-30 2015-12-09 한국해양과학기술원 필터링 장치
JP2017069345A (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置におけるフィルタ交換方法

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