KR100694571B1 - 케미컬 필터의 세정 방법 및 장치 - Google Patents

케미컬 필터의 세정 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

케미컬 필터에 잔재하는 오염 물질을 완전히 제거하는 세정 방법 및 장치가 개시되어 있다. 세정을 수행하기 위한 대상 필터가 장착된 순환 라인 내로 이소프로필 알코올을 플로우한 후, 순환시킨다. 상기 순환 라인 내로 탈이온수를 플로우한다. 상기 순환 라인 내에 질산 및 탈이온수가 혼합된 혼합 케미컬을 채운 후 순환 라인 내에서 순환시키는 단계와, 상기 순환 라인으로 탈이온수를 플로우하는 단계 및 상기 플로우된 탈이온수 내에 남아있는 상기 혼합 케미컬 성분이 설정된 기준치 이하가 될 때까지 계속하여 탈이온수를 플로우하는 단계를 수행하여 케미컬 필터를 세정한다. 상기 방법에 의하면, 필터 내에 잔재하는 유기 성분 및 금속성 오염물을 완전히 제거할 수 있다. 따라서, 상기 케미컬 필터에 남아있는 오염물에 의해 발생되는 공정 불량을 방지할 수 있다.

Description

케미컬 필터의 세정 방법 및 장치{Method and apparatus for chemical filter cleaning}
도 1은 종래의 케미컬 필터 세정 장치의 개략적인 배관도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 케미컬 필터 세정 장치의 개략적인 배관도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 케미컬 필터의 세정 방법을 나타내는 공정도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100 : 제1 공급부 102 : 제2 공급부
104 : 제3 공급부 110 : 순환 라인
112 : 필터 지지부 114 : 드레인부
본 발명은 케미컬 필터의 세정 방법 및 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 습식 클리닝 장비에서 장착되는 케미컬 필터에 발생되어 있는 오염 물질들을 제거하기 위한 세정 방법 및 장치에 관한 것이다.
상기 반도체 장치를 제조하기 위한 각 단위 공정들을 수행하기 전 또는 수행한 이 후에, 상기 웨이퍼는 일련의 표면 세정 공정을 수행하여 웨이퍼 표면에 잔재하는 불순물 및 이물질을 완전히 제거하여야 한다. 이러한 표면 세정 공정은 일반적으로, 세정액을 사용하여 웨이퍼를 세정하는 습식 클리닝 장치를 사용하여 수행한다.
상기 습식 클리닝 장치에는 상기 세정액에 잔재되어 있는 오염물들을 필터링하기 위한 케미컬 필터가 장착되어 있다. 그런데, 상기 습식 클리닝 장치에 장착되어 있는 케미컬 필터는 일정 기간 동안 계속하여 사용할 경우 오염물이 침적되어 필터의 눈막힘 현상이 발생하게 되고, 이 때문에 상기 세정액 내의 오염물을 정상적으로 필터링하지 못하게 된다. 때문에, 상기 습식 클리닝 장치에 장착되어 있는 케미컬 필터는 주기적으로 새로운 필터로 교체하여 주거나 또는 세정을 수행하여야 한다.
상기 습식 클리닝 장치에 장착되는 케미컬 필터를 새로운 필터로 교체할 경우, 상기 새 필터에 부착되어 있는 각종 오염 물질들에 의해 세정이 수행되는 웨이퍼 상에 각종 공정 불량이 발생하게 된다. 때문에, 상기 새 필터로 교체하기 이전에 상기 새 필터에 잔재하는 오염물들을 완전히 제거하는 필터 세정 공정을 선행하여야만 한다. 상기 필터의 세정은 일반적으로 상기 습식 클리닝 장비와는 별도로 구비되는 필터 세정 장치에서 수행되어 진다.
도 1은 종래의 케미컬 필터 세정 장치의 개략적인 배관도이다.
도 1을 참조하면, 이소프로필 알코올(IPA)을 공급하는 제1 공급부(10)와, 탈 이온수(D.I water)를 공급하는 제2 공급부(12)가 구비된다. 상기 제1 및 제2 공급부(10, 12)와 각각 연결되는 순환 라인(14)이 구비된다. 상기 순환 라인(14)내의 소정 부위에는 세정을 수행하기 위한 대상 필터(16a)를 탈, 부착할 수 있도록 지지하는 필터 지지부(16)가 구비된다. 그리고, 상기 순환 라인에서 상기 필터 지지부(16)의 후단에 연결되고, 상기 순환 라인(14) 내의 용액을 외부로 드레인하는 드레인부(18)가 구비된다.
상기 제1 공급부(10)는 이소프로필 알코올의 공급을 제어하는 제1 밸브(10a)를 포함하고, 상기 제2 공급부(12)는 탈이온수의 공급을 제어하는 제2 밸브(12a)를 포함한다. 또한, 상기 드레인부(18)은 용액의 드레인을 제어하기 위한 제3 밸브(18a)를 포함한다. 그리고, 상기 필터 지지부(16)는 필터(16a)를 장착하였을 때, 상기 순환 라인(14)을 통과하는 용액이 상기 필터(16a)를 반드시 경유할 수 있도록 구비한다.
상기 구성을 갖는 필터 세정 장치를 사용하여, 필터를 세정하는 방법을 설명한다. 우선, 상기 필터 지지부(16)에 세정을 수행하기 위한 케미컬 필터(16a)들을 장착한다. 이어서, 상기 순환 라인(14)내에 이소프로필 알코올 용액을 채워넣어 상기 필터(16a)를 상기 이소프로필 용액 내에 침지한다. 일정 시간 동안 상기 필터(16a)를 이소프로필 알코올에 침지한 다음, 상기 이소프로필 알코올을 드레인하고, 탈이온수를 상기 순환 라인(14)내로 플로우하여 상기 필터(16a)내에 남아있는 이소프로필 알코올 용액을 완전히 제거한다.
그러나, 상기와 같이 이소프로필 알코올에 상기 필터를 침지하는 방식으로 상기 필터를 세정하더라도 상기 필터 내의 오염물들이 완전히 제거되지는 않는다. 특히, 상기 필터 내에 부착되어 있는 유기 성분의 오염 물질은 비교적 잘 제거되지만, 금속 성분의 오염 물질은 거의 제거되지 않고 상기 필터에 남아있게 된다. 때문에, 상기 방법에 의해 세정된 케미컬 필터를 습식 클리닝 장치에 장착할 경우, 상기 케미컬 필터에 남아있는 금속 성분의 오염 물질에 의해 웨이퍼 상에 공정 불량이 유발되는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명의 제1 목적은 케미컬 필터에 잔재하는 오염 물질을 완전히 제거하는 세정 방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 제2 목적은 케미컬 필터에 잔재하는 오염 물질을 완전히 제거하는 세정 장치를 제공하는데 있다.
상기한 제1 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 세정을 수행하기 위한 대상 필터가 장착된 순환 라인 내로 이소프로필 알코올을 플로우하고, 상기 필터를 통과한 이소프로필 알코올을 상기 순환 라인의 외부로 드레인하는 단계와, 상기 이소프로필 알코올의 드레인을 중지하고, 상기 이소프로필 알코올이 계속하여 상기 필터를 통과하도록 상기 이소프로필 알코올을 상기 순환 라인 내에서 계속하여 순환시키는 단계와, 상기 순환되는 이소프로필 알코올을 드레인시키고, 상기 순환 라인 내로 탈이온수를 플로우하는 단계와, 상기 탈이온수의 공급을 중지하고, 상기 순환 라인 내에 질산 및 탈이온수가 혼합된 혼합 케미컬을 채우는 단계와, 상기 채워진 혼합 케미컬을 상기 순환 라인 내에서 순환시키는 단계와, 상기 순환 라인 내의 혼합 케미컬을 드레인 시키고, 상기 순환 라인으로 탈이온수를 플로우하는 단계 및 상기 플로우된 탈이온수 내에 남아있는 상기 혼합 케미컬 성분이 설정된 기준치 이하가 될 때까지 계속하여 탈이온수를 플로우하는 단계를 수행하여 케미컬 필터를 세정하는 방법을 제공한다.
상기한 제2 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 이소프로필 알코올을 공급하는 제1 공급부와, 혼합 케미컬을 공급하는 제2 공급부와, 탈이온수를 공급하는 제3 공급부와, 상기 제1 내지 제3 공급부와 각각 연결되고, 상기 제1 내지 제3 공급부에서 공급되는 세정액들이 순환하도록 폐회로로 형성되는 순환 라인과, 상기 순환 라인 내의 소정 부위에 구비되고, 세정을 수행하기 위한 대상 필터를 탈,부착할 수 있도록 지지하는 필터 지지부와, 상기 필터 지지부의 후단의 순환 라인과 연결되고, 상기 순환 라인 내의 용액을 외부로 드레인하는 드레인부를 구비하는 케미컬 필터의 세정 장치를 제공한다.
상기 케미컬 필터 세정 방법에 의하면, 상기 케미컬 필터를 질산 및 탈이온수가 혼합된 혼합 케미컬 내에 침지하여 상기 필터 내에 잔재하는 금속성 오염물을 용출하고, 이어서 탈이온수로 상기 필터 내에 남아있는 혼합 케미컬을 세정함으로서, 상기 필터 내의 금속성 오염물까지 완전히 제거할 수 있다. 따라서, 상기 케미컬 필터에 남아있는 오염물에 의해 발생되는 공정 불량을 방지할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하고자 한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 케미컬 필터 세정 장치의 개략적인 배관도이다.
도 2를 참조하면, 이소프로필 알코올(IPA) 용액을 공급하는 제1 공급부(100)가 구비된다. 상기 제1 공급부(100)에서 공급하는 이소프로필 알코올은 필터에 잔재하는 유기물 성분의 오염물을 제거한다. 상기 제1 공급부(100)는 구체적으로, 이소프로필 알코올을 수용하는 제1 탱크(100a)와, 상기 제1 탱크(100a)와 연결되어 상기 제1 탱크(100a)에 수용된 이소프로필 알코올을 공급하는 제1 라인(100b) 및 상기 제1 라인(100b)상에 구비되고, 상기 이소프로필 알코올의 공급을 제어하는 제1 밸브(100c)로 구성된다.
탈이온수(D.I water)를 공급하는 제2 공급부(102)가 구비된다. 상기 제2 공급부(102)는, 탈이온수를 수용하는 제2 탱크(102a)와, 상기 제2 탱크(102a)와 연결되어 상기 제2 탱크(102a)에 수용되어 있는 탈이온수를 공급하는 제2 라인(102b) 및 상기 제2 라인(102b)상에 구비되고, 상기 탈이온수의 공급을 제어하는 제2 밸브(102c)가 구비된다.
그리고, 혼합 케미컬을 공급하는 제3 공급부(104)가 구비된다. 상기 혼합 케미컬의 성분은 질산, 과산화 수소 및 탈이온수가 소정 비율로 혼합되어 있는 것으로서, 필터에 잔재하는 금속 성분의 오염물을 제거한다.
상기 제3 공급부(104)는 구체적으로, 질산을 수용하는 질산 수용부(105a)와 과산화 수소를 수용하는 과산화수소 수용부(106a)가 구비된다. 상기 질산 수용부(105a) 및 과산화수소 수용부(106a)와 연결된 각각의 공급 라인들(105b, 106b)이 구비되고, 상기 공급 라인들(105b, 106b)과 각각 연결되어 상기 질산 및 과산화 수소를 공급받을 수 있도록 구성된 제3 탱크(107a)가 구비된다. 상기 제3 탱크(107a)는 또한, 상기 제2 탱크(102a)와 연결되어 있는 제2 라인(102b)상에서 분기되는 분기 라인(108a)과 연결되어 있다. 따라서, 상기 제3 탱크(107a)는 상기 분기 라인(108a)을 통해 상기 제2 탱크(102a)내에 수용되어 있는 탈이온수를 공급받을 수 있다. 상기 공급 라인들(105b, 106b) 및 분기 라인(108a)에는 상기 제3 탱크(107a)로 공급하는 용액들의 양을 제어할 수 있는 제5 내지 제7 밸브들(105c, 106c,108b)이 각각 장착된다.
따라서, 상기 제3 탱크(107a)에는 질산, 과산화 수소 및 탈이온수가 혼합되어 있는 혼합 케미컬이 수용된다.
상기 제3 탱크(107a)와 연결되어 상기 제3 탱크(107a)에 수용되어 있는 혼합 케미컬을 공급하는 제3 라인(107b)이 구비된다. 상기 제3 라인(107b)상에는 상기 혼합 케미컬의 공급을 제어하는 제3 밸브(107c)가 구비된다. 그리고, 상기 제3 라인에서 상기 제3 밸브(107c)의 후단에 상기 혼합 케미컬을 펌핑하는 펌프(107d)를 더 구비할 수 있다.
상기 제1 내지 제3 공급부(100, 102, 104)와 각각 연결되고, 상기 제1 내지 제3 공급부(100, 102, 104)에서 공급되는 용액들이 순환하도록 폐회로로 형성되는 순환 라인(110)이 구비된다. 상기 순환 라인(110)은 구체적으로, 상기 제1 내지 제3 라인(100b, 102b, 107b)의 각 단부와 연결된다.
상기 순환 라인(110)은 상기 용액들이 플로우되는 각 라인이 병렬 방식으로 연결되고, 상기 병렬로 연결된 라인(110a)의 선단으로 회귀하는 회귀 라인(110b)이 더 포함된다. 상기 회귀 라인(110b)에는 상기 병렬로 연결되어 있는 라인들로 용액이 순환할 수 있도록 순환 펌프(111a)를 구비한다. 그리고, 상기 회귀 라인(110b)에서 상기 순환 펌프(111a)의 후단에는 상기 용액의 순환을 제어하는 제8 밸브(111b)를 더 구비한다.
상기 순환 라인(110)내의 소정 부위에 구비되고, 세정을 수행하기 위한 대상 필터를 탈,부착할 수 있도록 지지하는 필터 지지부(112)가 구비된다. 상기 필터 지지부(112)는 상기 필터 지지부(112)에 필터(112a)가 장착되어 있을 경우, 상기 순환 라인(110)내를 플로우하는 용액이 상기 필터(112a)를 반드시 경유하도록 형성되어 있다.
상기 순환 라인(110)에서 병렬 방식으로 연결된 각각의 라인 상에 각각 하나씩 필터 지지부(112)를 구비함으로서, 다수개의 필터(112a)를 동시에 세정할 수 있다.
상기 필터 지지부(112)의 후단의 순환 라인(110)과 연결되고, 상기 순환 라인(110)내의 용액을 외부로 드레인하는 드레인부(114)를 구비한다. 상기 드레인부(114)는 순환 라인(110)의 일측에서 분기되는 배출 라인(114a) 및 상기 배출 라인 (114a)상에 구비되어 용액의 드레인을 제어하는 제4 밸브(114b)를 포함한다.
이하에서는 상기 구성을 갖는 필터 세정 장치를 사용하여 필터를 세정하는 방법을 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 케미컬 필터의 세정 방법을 나타내는 공정도이다.
세정을 수행하기 위한 대상 필터(112a)를 필터 지지부(112)에 장착하고, 상기 필터(112a)가 장착되어 있는 순환 라인(110)내로 이소프로필 알코올을 플로우한다.(S10) 이 때, 상기 순환 라인(110)으로 플로우된 이소프로필 알코올은 상기 순환 라인의 외부로 드레인된다.
구체적으로, 상기 이소프로필 알코올의 공급을 제어하는 제1 밸브(100c) 및 배출 라인(114a) 상에 구비하는 제4 밸브(114b)를 오픈하여, 상기 제1 탱크(100a) 내의 이소프로필 알코올을 순환 라인(110)으로 플로우하고, 플로우된 이소프로필 알코올을 드레인한다. 상기 이소프로필 알코올의 플로우는 약 3분간 수행한다.
이어서, 상기 이소프로필 알코올의 드레인을 중지하고, 상기 이소프로필 알코올이 계속하여 상기 필터(112a)를 통과하도록 상기 이소프로필 알코올을 상기 순환 라인(110)내에서 계속하여 순환시킨다.(S12) 이를 위해, 상기 제1 밸브(100c) 및 제4 밸브(114b)를 클로즈하고, 제8 밸브(111b)를 오픈한다. 이어서, 상기 순환 펌프(111a)를 가동하여 상기 순환 라인(110)내에서 이소프로필 알코올을 순환시킨다. 상기 이소프로필 알코올의 순환은 약 20분간 수행한다.
상기 순환 라인(110)내에서 이소프로필 알코올을 순환시키면 상기 필터(112a) 내에 잔재하는 유기 성분의 오염 물질이 상기 순환되는 이소프로필 알코올에 용출된다.
일정 시간 동안 순환되어 유기 성분의 오염 물질이 용출되어 있는 상기 이소 프로필 알코올을 외부로 드레인시키고, 상기 순환 라인(110)내로 탈이온수를 플로우하여 상기 필터(112a)에 남아있는 이소프로필 알코올을 제거한다.(S14) 이를 위해, 탈이온수의 공급을 제어하는 제2 밸브(102c)를 오픈하여 상기 순환 라인(110)내로 탈이온수를 플로우하고, 상기 제4 밸브(114b)를 오픈하여 상기 플로우된 탈이온수를 드레인한다. 상기 탈이온수의 플로우는 약 10분간 수행한다. 이 때, 상기 순환 펌프(111a)를 구동시키고, 제 8 밸브(111b)를 오픈하여, 상기 탈이온수의 일부는 순환 라인 내에서 순환시키고 일부는 드레인할 수도 있다.
상기의 과정에 의해 필터(112a)내에 잔재하는 유기 성분의 오염 물질이 제거된다.
이어서, 상기 탈이온수의 공급을 중지하고, 상기 순환 라인(110)내에 질산(HNO3), 과산화 수소수(H2O2) 및 탈이온수가 혼합된 혼합 케미컬을 채운다.
상기 혼합 케미컬은 구체적으로, 질산이 2.5 내지 3.5의 중량 퍼센트의 비율로 혼합되고, 과산화 수소가 4.5 내지 5.5의 중량 퍼센트의 비율로 혼합되고, 나머지 비율로 탈이온수가 혼합되어 있는 케미컬이다. 상기 혼합 케미컬은 상기 탈이온수 및 2.5 내지 3.5의 중량 퍼센트의 질산만을 혼합하여 만들수도 있다.
이를 구체적으로 설명하면, 우선 상기 제2 라인(102b)에서 분기한 분기 라인(108a)에 장착되어 있는 제7 밸브(108b)를 오픈하여 제2 탱크(102a)에 수용되어 있는 탈이온수를 제3 탱크(107a)로 공급한다. 상기 탈이온수를 소정의 양만큼 공급한 이 후에, 상기 분기 라인(108a)에 장착되어 있는 제7 밸브(108b)를 클로즈 한다. 그리고, 상기 질산 수용부(105a) 및 과산화수소 수용부(106a)와 연결된 공급 라인(105b, 106b)들에 각각 장착되어 있는 제5 및 제6 밸브(105c, 106c)를 오픈하여 상기 질산 및 과산화 수소를 제3 탱크(107a)에 공급한다. 이 때, 상기 탈이온수, 질산 및 과산화 수소는 상기 설명한 혼합 비율이 되도록 상기 제5 및 제6 밸브(105c, 106c)를 오픈한 후, 클로즈한다.
상기 제3 탱크(107a)에 혼합 케미컬이 수용되면, 제3 밸브(107c)를 오픈하고, 상기 제3 밸브(107c) 후단에 구비되는 펌프(107d)를 가동하여 상기 제3 탱크(107a)에 수용된 혼합 케미컬을 순환 라인(110)내로 플로우한다. 그리고 이 때, 상기 제4 밸브(114b)를 클로즈하여 상기 혼합 케미컬이 드레인되지 않고 상기 순환 라인(110) 내에 채워지도록 한다.
상기 순환 라인(110) 내에 혼합 케미컬이 채워지면, 상기 순환 펌프(111a)를 가동하고, 제 8밸브(111b)를 오픈하여 상기 혼합 케미컬을 상기 순환 라인(110) 내에서 순환시킨다.(S18)
상기 혼합 케미컬은 상기 순환 라인(110) 내를 순환하면서 상기 필터(112a)에 잔존하는 금속 오염 물질을 용출한다. 이 때, 상기 혼합 케미컬에 의해 상기 금속 오염 물질을 완전히 용출하기 위해서, 상기 혼합 케미컬을 적어도 2시간 동안 순환시켜야 한다.
이어서, 상기 순환 라인(110) 내의 혼합 케미컬을 드레인 시키고, 상기 순환 라인(110)으로 탈이온수를 플로우한다.(S20) 그리고, 상기 플로우된 탈이온수 내에 남아있는 상기 혼합 케미컬 성분의 양을 검사하여 상기 혼합 케미컬 성분이 설정된 기준치를 벗어나는지 여부를 확인한다.(S22) 만일, 상기 혼합 케미컬 성분이 기준치를 이상으로 검출될 경우, 상기 탈이온수의 플로우를 계속하여 수행한다. 상기 혼합 케미컬 성분이 기준치 이상으로 검출되지 않으면 상기 필터(112a)의 세정이 완료된다.
이를 위해, 상기 제4 밸브(114b)를 오픈하고 이어서 상기 제2 밸브(102c)를 오픈하여 상기 순환 라인(110)으로 탈이온수를 공급한다. 이 때, 상기 순환 펌프(111a)를 구동시키고, 제 8 밸브(111b)를 오픈하여, 상기 탈이온수의 일부는 순환 라인(110)내에서 순환시키고 일부는 드레인할 수도 있다.
상기 탈이온수는 상기 필터(112a) 내에 남아있는 혼합 케미컬을 완전히 제거하기 위해 공급되는 것으로, 적어도 1시간 이상 동안 상기 순환 라인(110)으로 플로우한다. 그리고, 상기 플로우된 탈이온수를 소량 채취하여 이온 분석을 수행함으로서, 상기 혼합 케미컬의 성분인 질산이나 과산화 수소가 검출되는지를 확인한다. 그리고, 상기 혼합 케미컬 성분이 설정된 기준 이상으로 검출되었을 경우 추가적으로 상기 탈이온수를 플로우한다.
상기 탈이온수에서 상기 혼합 케미컬 성분이 설정된 기준 이하로 검출되어 필터의 세정이 완료되면, 모든 밸브를 클로즈하고 상기 필터 세정 장치를 중지시킨후 상기 필터 지지부(112)에 지지되어 있는 필터(112a)를 탈착한다. 그리고, 상기 필터(112a)는 탈이온수가 수용되어 있는 별도의 수용조 내에 침지하여 보관한다.
상기의 과정에 의해 케미컬 필터내에 잔재하는 금속 성분의 오염 물질이 제거된다.
상기 방법에 의해 케미컬 필터를 세정하면, 상기 케미컬 필터내에 잔재하고 있는 유기성분 및 금속 성분의 오염 물질이 효과적으로 제거할 수 있다. 때문에, 상기 과정을 거쳐 세정된 케미컬 필터를 습식 클리닝 장비에 장착할 경우 케미컬 필터에 남아있는 오염물에 의한 공정 불량을 감소시킬 수 있다.
도 4a 내지 도 4b는 본 발명의 일실시예에 따른 방법으로 금속 성분의 오염 물질을 용출한 결과를 나타내는 그래프도이다.
상기 용출 평가에서 사용한 혼합 케미컬은 97%의 탈 이온수와 3%의 질산이 혼합된 것이다. 그리고, 상기 도 4a 내지 도 4b의 그래프는 각각의 샘플 케미컬 필터에 대해 각각 다음의 방법에 의해 오염 물질을 용출한 결과이다.
먼저, 상기 혼합 케미컬을 케미컬 필터가 채용된 순환 라인 내를 1시간동안 순환시킨다. 그리고, 1시간 동안 순환한 혼합 케미컬에 용출되어 있는 금속 오염물의 양을 분석하였다.(200a, 210a)
이어서, 이미 1시간 동안 혼합 케미컬을 순환시킨 상기 순환 라인에, 다시 1시간동안 상기 혼합 케미컬을 순환시킨다. 따라서, 상기 순환 라인은 상기 혼합 케미컬을 2시간 동안 순환시킨 것과 같다. 그리고, 다시 1시간 동안 순환 라인 내를 순환한 혼합 케미컬에 용출되어 있는 금속 오염물의 양을 분석하였다. 이 때, 이 전에 검출된 금속 오염물의 양에 비해 적은 량의 금속 오염물이 검출됨을 알 수 있다. (200b, 210b)
이어서, 이미 2시간 동안 혼합 케미컬을 순환시킨 상기 순환 라인에, 다시 1시간동안 상기 혼합 케미컬을 순환시킨다. 따라서, 상기 순환 라인은 상기 혼합 케 미컬을 3시간 동안 순환시킨 것과 같다. 그리고, 다시 1시간 동안 순환 라인 내를 순환한 혼합 케미컬에서 용출되어 있는 금속 오염물의 양을 분석하였다.(200c, 210c)
그리고, 이미 3시간 동안 혼합 케미컬을 순환시킨 상기 순환 라인에, 2시간동안 탈이온수를 플로우한 후 상기 탈이온수에 용출되어 있는 금속 오염물의 양을 분석하였다. (200d, 210d) 상기 탈이온수에는 금속 오염물이 거의 검출되지 않음을 알 수 있다.
상기 결과에서, 상기 혼합 케미컬을 순환함으로서 상기 케미컬 필터 내에 잔재하는 금속 오염물이 실재로 용출됨을 알 수 있다. 그리고, 상기 케미컬 필터에 잔재하는 금속 오염물을 제거할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 질산, 과산화 수소 및 탈이온수가 일정 비율로 혼합된 혼합 케미컬을 필터를 통과하면서 순환시켜 상기 필터 내에 잔재하고 있는 금속 성분의 오염물까지도 완전히 제거할 수 있다. 때문에 상기 필터에 잔재하는 금속 성분의 오염물에 의해 발생되었던 공정 불량들이 감소되어 반도체 장치의 생산성 향상을 기대할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (11)

  1. 세정을 수행하기 위한 대상 필터가 장착된 순환 라인 내로 이소프로필 알코올을 플로우하고, 상기 필터를 통과한 이소프로필 알코올을 상기 순환 라인의 외부로 드레인하는 단계;
    상기 이소프로필 알코올의 드레인을 중지하고, 상기 이소프로필 알코올이 계속하여 상기 필터를 통과하도록 상기 이소프로필 알코올을 상기 순환 라인 내에서 계속하여 순환시키는 단계;
    상기 순환되는 이소프로필 알코올을 드레인시키고, 상기 순환 라인 내로 탈이온수를 플로우하는 단계;
    상기 탈이온수의 공급을 중지하고, 상기 순환 라인 내에 질산 및 탈이온수가 혼합된 혼합 케미컬을 채우는 단계;
    상기 채워진 혼합 케미컬을 상기 순환 라인 내에서 순환시키는 단계;
    상기 순환 라인 내의 혼합 케미컬을 드레인 시키고, 상기 순환 라인으로 탈이온수를 플로우하는 단계; 및
    상기 플로우된 탈이온수 내에 남아있는 상기 혼합 케미컬 성분이 설정된 기준치 이하가 될 때까지 계속하여 탈이온수를 플로우하는 단계를 수행하는 것을 특징으로 하는 화학 필터의 세정 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 혼합 케미컬에서 상기 질산은 전체 혼합 케미컬에서 2.5 내지 3.5의 중량 퍼센트의 비율로 혼합되는 것을 특징으로 하는 화학 필터의 세정 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 혼합 케미컬의 조성물로서 과산화 수소를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 필터의 세정 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 과산화 수소는 전체 혼합 케미컬에서 4.5 내지 5.5의 중량 퍼센트의 비율로 혼합되는 것을 특징으로 하는 화학 필터의 세정 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 혼합 케미컬의 순환은 적어도 2시간동안 수행하는 것을 특징으로 하는 화학 필터의 세정 방법.
  6. 이소프로필 알코올을 공급하는 제1 공급부;
    탈이온수를 공급하는 제2 공급부;
    혼합 케미컬을 공급하는 제3 공급부;
    상기 제1 내지 제3 공급부와 각각 연결되고, 상기 제1 내지 제3 공급부에서 공급되는 용액들이 순환하도록 폐회로로 형성되는 순환 라인;
    상기 순환 라인 내의 소정 부위에 구비되고, 세정을 수행하기 위한 대상 필터를 탈,부착할 수 있도록 지지하는 필터 지지부;
    상기 필터 지지부의 후단의 순환 라인과 연결되고, 상기 순환 라인 내의 용 액을 외부로 드레인하는 드레인부를 구비하는 것을 특징으로 하는 화학 필터의 세정 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제1 공급부는,
    이소프로필 알코올을 수용하는 제1 탱크;
    상기 제1 탱크와 연결되어 상기 제1 탱크에 수용된 이소프로필 알코올을 상기 순환 라인으로 공급하는 제1 라인; 및
    상기 제1 라인상에 구비되고, 상기 이소프로필 알코올의 공급을 제어하는 제1 밸브를 구비하는 것을 특징으로 하는 화학 필터의 세정 장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 제2 공급부는,
    탈이온수를 저장하는 제2 탱크;
    상기 제2 탱크와 연결되어 상기 제2 탱크에 수용된 탈이온수를 상기 순환 라인으로 공급하는 제2 라인; 및
    상기 제2 라인상에 구비되고, 상기 순환 라인으로 제공되는 탈이온수를 제어하는 제2 밸브를 구비하는 것을 특징으로 하는 화학 필터의 세정 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제3 공급부는,
    질산을 수용하는 질산 수용부;
    과산화 수소를 수용하는 과산화 수소 수용부;
    상기 질산 저장부, 과산화 수소 저장부 및 상기 제2 탱크와 연결되고, 상기 수용된 용액들을 각각 공급받는 제3 탱크;
    상기 제3 탱크와 연결되어 상기 제2 탱크에 수용된 혼합 케미컬을 상기 순환 라인으로 공급하는 제3 라인; 및
    상기 제3 라인상에 구비되고, 상기 순환 라인으로 제공되는 혼합 케미컬을 제어하는 제3 밸브를 구비하는 것을 특징으로 하는 습식 클리닝 장비에 장착되는 필터의 세정 장치.
  10. 제6항에 있어서, 상기 순환 라인 상에는 순환 펌프를 구비하는 것을 특징으로 하는 습식 클리닝 장비에 장착되는 필터의 세정 장치.
  11. 제6항에 있어서, 상기 드레인부에는 순환 라인 내의 용액이 드레인되는 것을 제어하는 제4 밸브를 구비하는 것을 특징으로 하는 습식 클리닝 장비에 장착되는 필터의 세정 장치.
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