KR970077083A - 기판 지지용 척을 위한 절연된 웨이퍼 스페이싱 마스크 및 그 제조 방법 - Google Patents

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KR970077083A KR1019970017575A KR19970017575A KR970077083A KR 970077083 A KR970077083 A KR 970077083A KR 1019970017575 A KR1019970017575 A KR 1019970017575A KR 19970017575 A KR19970017575 A KR 19970017575A KR 970077083 A KR970077083 A KR 970077083A
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이. 버크하트 빈센트
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조셉 제이. 스위니
어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
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Abstract

본 발명은 제품 지지용 척에 대해 공간적으로 떨어진 관계로 제품을 지지하기 위한 절연된 웨이퍼 스페이싱 마스크에 관한 것이다. 특히, 웨이퍼 스페이싱 마스크는 웨이퍼 스페이싱 마스크와 척의 지지용 표면 사이에 배치된 절연 재료 상에 증착되는 다수의 지지용 부재를 포함한다. 지지용 부재는 척의 지지용 표면에 관련하여 웨이퍼 또는 다른 제품을 공간적으로 떨어지게 유지한다. 웨이퍼이 후면과 척 사이의 거리는 지지용 부재의 두께에 의해 한정된다. 상기 거리는 척의 표면상에 놓일 수 있는 오염 미립자의 기대된 직경보다 커야한다. 이런 방식으로, 오염 미립자는 웨이퍼의 후면에 접착되지 않고 웨이퍼를 통한 전류 누설이 최소화된다.

Description

기판 지지용 척을 위한 절연된 웨이퍼 스페이싱 마스크 및 그 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 절연된 웨이퍼 스페이싱 마스크를 포함하는 세라믹 정전기 척의 수직 단면도.

Claims (23)

  1. 제품 지지용 척의 지지용 표면에 대해 공간적으로 떨어진 관계로 제품을 지지하기 위한 장치에 있어서, 상기 제품 지지용 척의 지지용 표면 상에 형성되는 절연 수단; 및 상기 절연 수단의 표면 상에 증착되는 상기 지지용 표면에 대해 공간적으로 떨어진 관계로 상기 제품을 지지하기 위한 스페이싱 마스크를 포함하는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 스페이싱 마스크는 금속 재료로 제조되는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 금속재료는 티타늄, 질화 티타늄 또는 스테인레스강인 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 절연 수단은 상기 지지용 표면내에 매립된 절연 영역의 소정 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 절연 수단은 지지용 표면 상에 증착되는 절연 영역의 소정 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 스페이싱 마스크는 패턴을 형성하는 지지용 부재를 포함하며, 상기 지지용 부재는 상기 절연 영역의 상기 소정 패턴과 비슷한 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 지지용 부재 패턴은 다수의 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  8. 제5항에 있어서, 상기 스페이싱 마스크는 패턴을 형성하는 지지용 부재를 포함하며, 상기 지지용 부재 패턴은 상기 절연 영역의 상기 소정 패턴과 비슷한 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 지지용 부재 패턴은 다수의 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  10. 세라믹 정전기 척의 지지용 표면에 대해 공간적으로 떨어진 관계로 제품을 지지하기 위한 장치에 있어서, 상기 지지용 표면 상에 배치된 절연 영역의 소정 패턴; 및 상기 지지용 표면에 대해 공간적으로 떨어진 관계로 상기 제품을 지지하기 위해 상기 절연 영역 상에 중착되는 스페이싱 마스크를 포함하는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 스페이싱 마스크는 금속 재료로 제조되는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 금속 재료는 티타늄, 질화 티타늄 또는 스테인레스강인 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  13. 제10항에 있어서, 상기 스페이싱 마스크는 패턴을 형성하는 지지용 부재를 포함하며, 상기 지지용 부재패턴은 상기 절연 영역의 상기 소정 패턴과 비슷한 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 지지용 부재 패턴은 다수의 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  15. 세라믹 정전기 척의 지지용 표면에 대해 공간적으로 떨어진 관계로 제품을 지지하기 위한 장치에 있어서, 상기 지지용 표면내에 매립된 절연 영역의 소정 패턴; 및 상기 지지용 표면에 대해 공간적으로 떨어진 관계로 상기 제품을 지지하기 위한 상기 절연 영역 상에 중착되는 스페이싱 마스크를 포함하는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 스페이싱 마스크는 금속 재료로 제조되는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 금속 재료는 티타늄, 질화 티타늄 또는 스테인레스 강인 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  18. 제15항에 있어서, 상기 스페이싱 마스크는 패턴을 형성하는 지지용 부재를 포함하며, 상기 지지용 부재 패턴은 상기 절연 영역의 상기 소정 패턴과 비슷한 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  19. 제18항에 있어서, 상기 지지용 부재 패턴은 다수의 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 제품 지지용 장치.
  20. 절연된 웨이퍼 스페이싱 마스크 제조 방법에 있어서, 지지용 표면을 가지는 제품 지지용 척을 제공하는 단계; 상기 지지용 표면 상에 절연 영역의 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 절연 영역 상에 웨이퍼 스페이싱 마스크의 지지용 부재를 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 절연된 웨이퍼 스페이싱 마스크 제조 방법.
  21. 제20항에 있어서, 상기 절연 영역의 패턴 형성 단계는, 상기 지지용 표면내에 소정 패턴의 압입부를 형성하는 단계; 상기 압입부 영역을 형성하기 위해 절연 재료로 상기 압입부를 채우는 단계; 상기 제품 지지용 척을 소결하는 단계; 및 상기 절연 영역이 상기 지지용 표면과 동일 평면이 될 때까지 상기 절연 영역을 래핑하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 절연된 웨이퍼 스페이싱 마스크 제조 방법.
  22. 제20항에 있어서, 상기 웨이퍼 스페이싱 마스크의 지지용 부재 증착단계는 상기 웨이퍼 스페이싱 마스크를 증착하기 위하여 물리적 기상 증착 처리를 사용하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 절연된 웨이퍼 스페이싱 마스크 제조 방법.
  23. 제20항에 있어서, 상기 절연 영역의 패턴 형성 단계는 상기 절연 영역을 형성하는 절연 재료를 증착하기 위해 물리적 기상 증착 처리를 사용하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 절연된 웨이퍼 스페이싱 마스크 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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