KR970073567A - 모발 보호용 세제 화장 조성물, 및 용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 화장학적으로 허용 가능한 매질중에, (A) 세척 염기 및 (B) 하나 이상의 양이온성 중합체 및 하나 이상의 아미노화 실리콘 및 점성도가 100Pa.s (1000,000 cSt) 이하인 하나 이상의 불용성 실리콘의 혼합물을 함유하는 컨디셔닝 시스템으로 이루어진 신규한 세제 및 컨디셔닝 모발-보호 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 모발의 세정 및 보호에 이용된다.

Description

모발 보호용 세제 화장 조성물, 및 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (24)

  1. 화장학적으로 허용 가능한 매질중에, (A) 세척 염기 및 (B) 하나 이상의 양이온성 중합체 및 하나 이상의 아미노화 실리콘 및 점성도가 100Pa.s (1000,000 cSt) 이하인 상기 아미노화 실리콘과는 상이한 하나 이상의 불용성 실리콘의 혼합물을 함유하는 컨디셔닝 시스템으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 세제 및 컨디셔닝 모발-보호 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 세척 염기가 음이온성, 양쪽성, 비이온성 및 양이온성 계면활성제 및 그의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 계면활성제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 세척 염기가 조성물 총량에 대해서 4%∼50%의 중량 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 함량이 10%∼35%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 상기 함량이 12%∼25%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 양이온성 중합체가 조성물의 총량에 대해서 0.0001%∼10%의 중량 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 상기 함량이 0.005%∼5%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 상기 함량이 0.01%∼3%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 점성도가 100 Pa.s 이하인 상기 불용성 실리콘이 조성물의 총량에 대해서 0.05%∼10%의 중량 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제9항에 있어서, 상기 함량이 0.1%∼5%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 상기 함량이 0.2%∼3%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 아미드화 실리콘이 조성물 총량에 대해서 0.05%∼10%의 중량 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제12항에 있어서, 상기 함량이 조성물의 총량에 대해서 0.1∼5%인 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 양이온성 중합체가 사차 셀룰로스에테르 유도체, 고리중합체, 양이온성 다당류 및 그의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제14항에 있어서, 상기 고리중합체가 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 및 아크릴아미드의 공중합체들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제14항에 있어서, 상기 사차 셀룰로스에테르 유도체가 트리메틸암모늄기로 치환된 에폭시드와 반응하는 히드록시에틸셀룰로스로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제14항에 있어서, 상기 양이온성 다당류가 2, 3-에폭시프로필트리메틸암모늄염으로 변형된 구아르 고무로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제1항 또는 제2항에 있어서, 점성도가 100 Pa.s 이하인 상기 불용성 실리콘이 20∼100 Pa.s (20,000∼100,000 cSt)의 점성도를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제1항 또는 제2항에 있어서, 점성도가 100,000 cSt (100 Pa.s) 이하인 실리콘을 (i) 폴리디알킬실록산, (ⅱ) 폴리디아릴실록산 및 (ⅲ) 폴리알킬아릴실록산으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제1항 또는 제2항에 있어서, 아미드화 실리콘이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물 : (a) 하기 화학식 2에 해당하는, CTFA 사전에서 "아모디메티콘"으로 명명된 폴리실록산 ；
    〔식 중 x' 및 y'는 분자량에 따른 정수로, 일반적으로 상기 수평균 분자량은 약 5,000∼500,000이다〕；(b) 하기 화학식(3)에 해당하는 양이온성 실리콘 중합체 :
    R'aG3-a-Si(OSiG2)n-(OSiGbR'2-b)m-O-SiG3-a-R'a
    〔식 중, G는 수소원자 또는 페닐, OH 또는 예를 들어, 메틸과 같은 C1-C8알킬기이고, a는 0 또는 1 내지 3의 정수, 특히 0을 나타내고, b는 0 또는 1 및 특히 1을 나타내고, m 및 n은, 합(n+m)은, 특별하게는, 1∼2,000, 및 특히, 50∼150으로 다양할 수 있고, 이는 n이 0∼1,999, 및 특히 49∼149의 수를 나타내고, m이 1∼2,000 및 특히 0∼10을 나타내는 것이 가능하고；R'은 식 -CqH2qL (식 중, q는 2∼8의 수이고, L은 하기 군으로부터 선택된 임의 사차화된 아미노기이다 :
    -NR-CH2-CH2-N'(R)2, -N(R)2, -N (R)3A-, -NH(R)3A-, -NH2(R)A-, -N(R)-CH2-CH2-NRH2A-
    (식 중, R은 수소, 페닐, 벤질 또는 1가의 포화 탄화수소 라디칼, 예를 들어, 1∼20개의 탄소원자를 갖는 알킬 라디칼을 나타낼 수 있고, A-는, 예를 들어, 플루오라이드, 클로라이드, 보로마이드, 또는 요오드와 같은 할라이드 이온을 나타낸다).
    (c) 하기 화학식(5)에 해당하는 양이온성 실리콘 중합체들 :
    〔식 중, R7은 1∼18개의 탄소원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼, 및 특히 C1-C18알킬 또는 C2-C18알케닐 라디칼, 예를 들어 메틸을 나타내고；R|8은 2가의 탄화수소 라디칼, 특히 C1-C18알킬렌 라디칼 또는 2가의 C1-C18, 예를 들어 C1-C8, 알킬레녹시 라디칼을 나타내고；Q-는 할라이드 이온, 특히 클로라이드이고；r은 2∼20, 및 특히 2∼8의 평균 통계치를 나타내고；s는 20∼200, 및 특히 20∼50의 평균 통계치를 나타낸다]〕
  21. 제1항 또는 제2항에 있어서, 3∼10의 pH를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 컨디셔닝 시스템이 아미드화 실리콘 및 점성도가 100,000 cSt (100 Pa.s) 이하인 불용성 실리콘이외의 실리콘이 없는 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 모발을 세정 및/또는 컨디셔닝하기 위해 사용되는 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에서 정의되는 조성물.
  24. 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에서 정의된 조성물의 유효량을 젖은 상태의 모발과 같은 케라틴성 섬유에 도포한 다음, 일정 기간의 노출 후 물로 헹구는 것으로 구성되는, 모발과 같은 케라틴성 섬유의 세척 및 컨디셔닝 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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