KR100320691B1

KR100320691B1 - 세제조성물

Info

Publication number: KR100320691B1
Application number: KR1019950700443A
Authority: KR
Inventors: 존 필든 헬리웰
Original assignee: 유니레버 엔.브이.
Priority date: 1992-08-07
Filing date: 1993-08-03
Publication date: 2002-07-27
Also published as: BR9306852A; KR950702822A; CZ285853B6; PL172485B1; HUT71382A; AU676188B2; EP0655909A1; DE69302280D1; JPH07509707A; CA2141877C; MY110529A; EP0655909B1; CA2141877A1; TW228477B; AU4706793A; US5500152A; HU216152B; ZA935732B; HU9500368D0; WO1994003151A1

Abstract

본 발명은 지방산 아실 이세티오네이트 30 내지 100 중량% (총 세정제 기준) 및 다른 세정제 0 내지 70 중량% (총 세정제 기준)로 이루어지는 세정제 5 내지 50 중량%, 양이온 중합체 0.01 내지 5 중량% 및 실리콘 0.5 내지 15 중량%를 함유하는 액형 또는 겔형 샤워 겔 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 조성물은 다른 계면활성제를 사용한 조성물과 비교할 때 실리콘 침착이 증진되는 것으로 나타난다.

Description

세제 조성물

본 발명은 피부 또는 머리카락의 개인 세정에 적합한 액형 또는 겔형 세제 조성물에 관한 것이다.

이러한 조성물중에는 헤어 컨디쇼닝 또는 세정 후의 피부 촉감 증진을 위한 실리콘이 포함된다는 것이 알려져 있다. 또한, 실리콘과 함께 양이온 중합체가 포함된다는 것이 알려져 있다.

일본 특허원 공보 제(평) 3-81400호(도요 뷰티 가부시끼가이샤)에는 또한 실리콘유 및 양이온 중합체를 함유하는 비누 기재의 세정 조성물이 개시되어 있다.

EP-A-432951에는 나트륨 라우릴 에테르 술페이트 및 베타인 계면활성제, 재규어(Jaguar)(RTM) 양이온 중합체 및 실리콘 콘디쇼너를 포함하는 샴푸 조성물이 기재되어 있다. EP-A-457688(로레알(L'Oreal))에는 실리콘유 및 양이온 중합체를 함유하는 샤워 겔이 개시되어 있다.

본 발명자들은 양이온 중합체가 조성물 중에 포함되어 있는 세정제에 따라 이러한 조성물로부터 실리콘의 침착을 다양한 정도로 증진시킨다는 것을 밝혀내었다. 본 발명은 실리콘과 선택된 계면활성제와의 상승적 상호작용에 관한 것이다.

실리콘의 침착은 조성물 중 세정제가 상당한 비율의 지방산 아실 이세티오네이트를 함유할 경우 양이온 중합체에 의해 증진된다.

따라서, 본 발명에 따르면,

i) (a) 총 세정제를 기준으로 하여 30 내지 100 중량%의 하기 일반식:

R-CO₂-CH₂CH₂-SO₃M

(여기서, R은 탄소 원자수가 7 내지 21인 알킬기 또는 알케닐기이고, M은 가용화 양이온, 예를 들면 나트륨, 칼륨, 암모늄 또는 치환된 암모늄 이온임)의 지방산 아실이세티오네이트;

(b) 총 세정제를 기준으로 하여 0 내지 70 중량%의 다른 세정제로 이루어진 세정제 5 내지 50 중량%,

ii) 양이온 중합체 0,01 내지 5 중량%, 및

iii) 실리콘 0.5 내지 15 중량%

를 함유하는 수용액형 또는 겔형 세제 조성물이 제공된다.

아실 이세티오네이트가 양쪽 이온성 세정제를 동반하는 세정제 혼합물이 특히 바람직하다.

아실 이세티오네이트, 및 아실 이세티오네이트와 베타인과 같은 양쪽 이온성세정제와의 혼합물은 많은 개인용 세정 조성물의 성분으로서 알려져 있다. 본 발명의 조성물에 있어서, 계면활성제 시스템은 피부의 스트라툼 코르네움(Stratum corneum), 즉 외피층을 손상시키지 않는다는 점에서 연성(mild)이라고 할만 하다. 본 발명의 범위가 작용 이론을 참고로 하여 제한받기를 바라지는 않지만, 비누와 같은 경성(harsh) 계면활성제가 존재함으로써 야기되는 피부 표면 손상이 실리콘이 침착될 수 있는 표면적을 증가시키기 때문에, 이러한 계면활성제가 존재하는 경우보다 나은 침착이 기대될 것으로 여겨진다. 실험 결과, 양이온 중합체가 없을 때 실제로 그러한 것으로 나타났다. 그러나, 본 발명자들은 이세티오네이트, 실리콘 및 양이온 중합체를 포함하는 연성 계면활성제 시스템의 조합이 경성 계면활성제를 포함하는 대등한 시스템과 비교할 때 침착을 개선시키는 것을 밝혀내었다. 따라서, 이러한 시스템은 계면활성제의 선택으로 인한 연성이라는 잇점과 함께 이러한 선택으로 인하여 침착이 증진된다는 잇점 둘다를 나타낸다.

본 발명에 사용되는 여러 재료 및 바람직한 특징을 이제 이하에서 기술하고자 한다.

지방산 아실 이세티오네이트를 탄소 원자수가 8 내지 22인 알칼리 금속 이세티오네이트와 지방족 지방산 (또는 그의 산 염화물)과의 반응에 의해 제조할 수 있다. 바람직하게는 이들 지방산의 요오드가는 20 미만이다. 일반적으로 지방족 지방산의 혼합물을 사용한다. 본 발명의 몇몇 양태에서는, 아실 이세티오네이트 중의 지방산 아실기의 3/4 이상이 탄소 원자수가 12 내지 18인 반면에, 지방산 아실기의 나머지 1/4 이하는 탄소 원자수가 8 내지 10일 수 있다. 특히, 지방산 아실기는 코코넛 지방산에 의해 제공될 수 있다.

지방산 아실 이세티오네이트는 피부에 대해 조성물이 연성이도록 하며, 또한 부피 및(또는) 품질면에서 양호한 거품을 얻도록 한다. 아실 이세티오네이트는 매우 낮은 농도로도 이들 잇점을 얻을 수 있게 한다.

지방산 아실 이세티오네이트의 양은 조성물 중 세정제의 30 중량% 이상이어야 한다. 그것은 조성물 중에 존재하는 세정제의 35% 이상 또는 40% 이상일 수 있고, 실제로는 50% 이상일 수 있다.

지방산 아실 이세티오네이트가 단독으로 존재하는 세정제일 수 있다. 그러나, 그의 수용해도는 단독으로 사용될 때 오히려 낮고, 추가의 세정제가 존재하는 것이 바람직하다.

세정제 혼합물은 친수성 말단기에 4급 질소 원자, 및 카르복실산기 또는 술폰산기일 수 있는 1개 이상의 산기가 둘다 함유되어 있는 양쪽 이온성 세정제 20내지 50 중량%를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 세정제는 일반적으로 탄소 원자수가 7 내지 18인 알킬기 또는 알케닐기를 포함해야 한다. 그들은 보통 하기의 전체 구조식으로 나타내어진다.

여기서,

R¹은 탄소 원자수가 7 내지 18인 알긴 또는 알케닐이고;

R²및 R³는 각각 독립적으로 탄소 원자수가 1 내지 3인 알킬, 히드록시알킬 또는 카르복시알킬이며;

m은 2 내지 4이고;

n은 0 또는 1이며;

X는 히드록실로 임의로 치환된 탄소 원자수 1 내지 3의 알킬렌이고;

Y는 -CO₂- 또는 -SO₃-이다.

상기 일반식으로 나타내는 양쪽 이온성 세정제로서 적합한 것은 하기 일반식

(여기서, R¹, R²및 R³는 상기 정의한 바와 같음)의 단순 베타인, 및 하기 일반식

(여기서, m은 2 또는 3이고, R¹, R²및 R³는 상기 정의한 바와 같음)의 아미도 베타인이다. R¹은 특히 R¹기의 1/2 이상, 바람직하게는 3/4 이상이 10 내지 14개의 탄소원자를 갖도록 코코넛으로부터 유도되는 C₁₂알킬기 및 C₁₄알킬기의 혼합물일 수 있다. R²및 R³는 바람직하게는 메틸이다.

추가로 가능한 양쪽 이온성 세정제는 하기 일반식

(여기서, R¹, R²및 R³는 상기 정의한 바와 같음) 또는

(여기서, m은 2 또는 3이고, R¹, R²및 R³는 상기 정의한 바와 같음)의 술포베타인,

로 치환한 이들의 변형물이다.

아실 이세티오네이트 이외의 다른 음이온계 세정제는 특히 세정제 혼합물의 10 내지 50%의 양으로 존재할 수 있다. 특히 구체적인 음이온계 세정제는 하기 일반식의 알킬 에테르 술페이트이다.

여기서, R⁴는 탄소 원자수가 8 내지 18, 특히 11 내지 15인 알킬 또는 알케닐이고, t는 평균 값이 2.0 이상이며, M은 가용화 양이온, 예를 들면 나트륨, 칼륨, 암모늄 또는 치환된 암모늄 이온이다. 바람직하게는 t는 평균 값이 3이다.

다른 가능한 음이온계 세정제로서는 알킬 글리세릴 에테르 술페이트, 술포숙시네이트, 타우레이트, 사르코시네이트, 술포아세테이트, 알킬 포스페이트 및 아실 락테이트가 있다. 술포숙시네이트로서는 일반식: R⁵O₂CCH₂CH(SO₃M)CO₂M의 모노알킬술포숙시네이트, 및 일반식: R⁵CONHCH₂CH₂O₂CCH₂CH(SO₃M)CO₂M(여기서, R⁵는 C₈-C₂₀알킬, 바람직하게는 C₁₂-C₁₅알킬이고, M은 가용화 양이온임)의 아미도-MEA 술포숙시네이트가 있다.

사르코시네이트는 일반적으로 일반식: R⁵CON(CH₃)CH₂CO₂M(여기서, R은 C₈-C₂₀알킬, 바람직하게는 C₁₂-C₁₅알킬이고, M은 가용화 양이온임)으로 표시한다.

타우레이트는 일반적으로 일반식: R⁵CONR⁶CH₂CH₂SO₃H(여기서, R⁵는 C₈-C₂₀알킬, 바람직하게는 C₁₂-C₁₅알킬이고, R⁶은 C₁-C₄알킬이고, M은 가용화 양이온임)으로 표시 한다.

조성물 중에 포함되는 음이온계 세정제로는 일반적으로 경성 세정제, 예를 들면 1급 알칸 술포네이트 또는 알킬 벤젠 술포네이트를 피하여 선택한다. 이들은 존재하는 경우, 양이 바람직하게는 세정제의 3% 미만으로 존재하도록 한다.

알칸올아미드 세정제는 그들이 연성을 감소시키는 것으로 밝혀졌기 때문에 존재하더라도 바람직하게는 낮은 수준으로만 포함된다. 바람직하게는 그들을 세정제 혼합물의 5 중량% 이하로 제한시킨다. 알칸올아미드, 경성 음이온제, 알킬 벤젠 술포네이트 및 1급 알칸 술포네이트를 완전하게 배제하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 아민 옥시드는 비누거품의 품질을 감소시키는 것으로 밝혀졌기 때문에 세정제 혼합물의 5 중량% 이하인 것이 바람직하다.

조성물 중 세정제의 총량은 일반적으로 25 중량%를 넘지 않을 것이다. 그 양은 20%를 넘지 않을 수 있다. 그 양은 종종 8 중량% 이상 또는 심지어 10 중량% 이상일 것이다.

양이온 중합체의 양은 바람직하게는 전체 조성물의 0.05 중량% 이상이다. 그것은 조성물의 3% 또는 심지어 2%를 넘을 수 없다.

여러 양이온 중합체를 사용할 수 있다. 양이온 중합체의 예로서는 미합중국 특허 제3,816,616호 및 제4,272,515호에 개시되어 있고 유니온 카바이드사(Union Carbide Corp.)가 상품명 폴리머 제이알(POLYMER IR)로 시판하는 양이온성 셀룰로스 에테르가 있다. 다른 재료로서는 미합중국 특허 제4,298,494호에 개시되어 있고 셀라니즈-스테인 홀사(Celanese-Stein Hall)가 상품명 재규어(JAGUAR)로 시판하는 양이온성 폴리갈락토만난 검(gum) 유도체가 적합하다. 적합한 재료의 한 예로서는 하기 일반식:

(여기서, G는 구아(guar) 검임)의 구아 검의 히드록시프로필트리메틸암모늄 유도체가 있다. 이러한 재료는 상품명 재규어 C-13-S로 시판되고 있다. 이 재료는 또한 구아 히드록시프로필트리모늄 클로라이드의 CTFA 지정 명칭을 갖는다. 재규어 C-13-S에서는 양이온기의 치환도가 약 0.13이다. 다른 재료로서는 재규어 C-13-S 와 유사하지만 더 높은 양이온기 치환도가 약 0.25 내지 0.31인 재규어 C-17로서 알려진 것이 가능하다. 구아 유도체의 추가 예로서는 상기 양이온 4급 암모늄기를함유할 뿐만 아니라 히드록시프로필(-CH₂CH(OH)CH₃) 치환기도 함유하는 재규어 C-16으로 알려진 히드록시프로필화 양이온성 구아 유도체가 있다. 재규어 C-l6에서는 양이온기 치환도가 0.11 내지 0.16이고, 히드록시프로필기의 치환 몰수가 0.8 내지 1.1이다.

다른 양이온 중합체로서는 미합중국 특허 제4,080,310호에 개시되어 있는 저분자량 아디프산/디에틸렌-트리아민 폴리아미드, 및 비닐피롤리돈과 디메틸 술페이트로 4급화된 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트의 공중합체(가프사(GAF Corporation) 의 가프콰트(Gafquat) 755)와 같은 양이온 폴리아미드 중합체; 미합중국 특허 제4,048,301호에 개시되어 있는 N-비닐피롤리돈, 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트 및 폴리에틸렌 글리콜을 함유하는 그래프트 양이온 공중합체; 미합중국 특허 제4,009,256호에 개시되어 있는 탄소 원자수가 3 내지 5인 불포화 카르복실산의 단독중합체 및 공중합체의 아미노-알킬 에스테르의 무기산염; 및 미합중국 특허 제 3,186,911호에 개시되어 있는 에테르화 전분의 중합체가 있다.

고분자량의 양이온 중합체는 머크사(Merck & Co., Inc,)가 상품명 메르콰트(MERQUAT)로 시판하고 있다. 전형적인 것으로는 고도로 충전된 양이온 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 단독중합체인 메르콰트 100, 및 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 및 아크릴아미드로 제조한 고도로 충전된 양이온 공중합체인 메르콰트 550이 있다. 이들 재료는 CTFA 사전에 각각 쿼터늄-40(Quaternium-40) 및 쿼터늄-41로 표시되어 있다.

실리콘의 양이 조성물 중의 2 중량% 이상, 바람직하게는 3% 이상 또는 3.5% 이상인 것은 바람직하다. 그 양은 일반적으로 10% 또는 심지어는 8%를 초과하지 않을 것이다.

실리콘은 비휘발성 실리콘유 또는 비교적 보다 휘발성인 실리콘일 수 있다. 비휠발성 실리콘유는 일반적으로 점도가 25 ℃에서 5 센티스토크 이상, 예를 들면 10 내지 100,000 센터스토크이다. 사실상, 비휘발성 실리콘은 본 발명에 있어서 매우 바람직하다.

적합한 실리콘으로서는 하기 구조식의 폴리알킬 실록산 또는 폴리아릴 실록산이 있다:

여기서, R은 알길 또는 아릴이고, x는 약 100 내지 약 2,400의 정수이며, A는 실리콘쇄의 말단을 봉쇄하는 기를 나타낸다. 적합한 A기로서는 메틸, 메톡시, 에톡시, 프로폭시 및 아릴옥시가 있다, 각각의 실리콘 원자 상의 2개의 R기는 동일한 기 또는 상이한 기를 나타낼 수 있다. 바람직하게는 2개의 R기는 동일한 기를 나타낸다. 적합한 R기로서는 메틸, 에틸, 프로필, 페닐, 메틸페닐 및 페닐메틸이 있다. 실리콘으로서는 폴리디메틸 실록산, 폴리디에틸실록산 및 폴리디메틸페닐실록산이 바람직하다. 폴리디메틸실록산은 특히 바람직하다.

본 발명의 용도에 적합한 다른 실리콘으로서는 시클릭 실리콘이 있다. 이들재료는 하기 일반식을 갖는다:

여기서, n은 4 또는 5이고, R은 선형 실록산의 구조에서와 같은 의미이다.

디메틸 시클릭 실록산은 휘발성이므로 침착한 후 단지 일시적으로 존재한다. 휘발성 시클릭 실록산은 다우 코닝사(Dow Corning Corporation)로부터 상품명 다우코닝(DOW CORNING) 344 유체 및 345 유체로 입수가능하다.

본 발명에서 사용되는 실리콘은 미합중국 특허 제3,957,970호에 개시되어 있는 바와 같이 실리콘이 공중합체, 예를 들면 폴리에테르를 포함함으로써 개질될 수 있지만, 실리콘 단독중합체일 수 있다. 이러한 공중합체는 실리콘의 단독중합체보다 더 가용성인 경향이 있다.

다른 재료가 본 발명의 조성물 중에 포함될 수 잇다. 착색제, 불투명제, 유기 중합체, 탈취성 방향제를 포함한 방향제, 피부상의 식물계 미생물군을 감소시키기 위한 살균제, 산화방지제 및 다른 방부제가 포함될 수 있다.

존재할 수 있는 유기 중합체로서는 굿리치사(Goodrich)로부터 입수가능한 카르보폴(Carbopol) (TM) 중합체와 같은 가교결합된 폴리아크릴레이트가 있다. 이들은 조성물의 점도를 증진시키거나 또는 안정성을 향상시키는 데에 작용할 수 있다. 다당류는 또한 중점제로서 잘 알려져 있고 대부분이 셀룰로스 또는 셀룰로스 유도체이다.

본 발명의 조성물은 일반적으로, 다소 점성일 수 있더라도 유동성(pourable)액체 또는 반액체일 것이다. 따라서, 그들은 전해질 및(또는) 방향제를 포함시킴으로써 농화시킬 수 있다.

본 발명의 조성물은 피부 세정용 제품, 예를 들면 목욕 또는 샤워 겔, 손 세정 조성물 또는 세안액으로서 제제화될 수 있다. 그들은 또한 헤어 샴푸로서 제제화될 수 있다.

대부분의 제품 형태에 대해서 10 내지 25 sec^-1의 낮은 전단율에서 500 센티 포이즈(0.5 Pa.초) 이상의 점도가 요구될 수 있다. 헤어 샴푸는 일반적으로 이러한 전단율에서 점도가 1,000 센티포이즈 이상일 것이다. 피부 세정용 제품은 통상적으로 점성이 보다 크다. 동일한 전단율에서 5,000 센티포이즈 이상 또는 보다 양호하게는 7,000 센티포이즈 이상의 점도가 보통 이들에 대해 적절하다.

본 발명에 따른 조성물은 실리콘 분산상으로서 존재하는 에멀젼이다. 이러한 에멀젼은 성분들을 높은 전단 조건하에서 혼합함으로써 형성할 수 있다. 그러나, 조성물의 혼합을 단순화하기 위해 예비형성된 에멀젼을 이용하는 것이 바람직할 수 있다.

안정성을 향상시키기 위해서는 실리콘유의 분산된 액적의 입자 크기가 2 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.1 내지 1 ㎛인 것이 바람직하다.

본 발명자들은 본 발명의 조성물이 25℃에서 전단율이 10 sec^-1일 때 점도가 6,000 센티포이즈 이상이 되도록 제형될 때 (예를 들면 전해질로 농화될 때) 특히 안정성이 양호하다는 것을 밝혀내었다. 이러한 점도는 샤워 겔과 같은 피부 세정용조성물에 적절하다.

전단율이 10 sec^-1일 때 점도가 5,000 센티포이즈 이하인 조성물, 예를 들어 헤어 샴푸의 경우, 일반적으로 에멀젼을 구조화함으로써 안정성을 향상시키는 물질을 포함하는 것이 바람직할 것이다.

당업계에 공지된 이러한 물질의 예로서는 에틸렌글리콜 및 그의 올리고머와같은 디히드릭 알콜의 디스테아레이트가 있다.

실리콘 에멀젼의 안정성을 향상시키기 위한 함유물로서 제안되어온 다른 재료로서는 탄소 원자수가 총 20을 넘는 2개의 알킬쇄를 갖는 알콜이 있다.

따라서, 본 발명의 바람직한 형태는 전단율이 10 sec^-1일 때 점도가 6,000 센티포이즈 이상이고 입자 크기가 2 ㎛ 이하인 액적으로 분산된 실리콘유를 함유하고 있는, 피부 세정용 조성물이다.

이러한 조성물은 탄소 원자수가 총 20을 넘는 2개의 알킬기 또는 아실기를 갖는 에스테르 및 알콜, 아실기가 각각 탄소 원자수 16 이상의 여러 아실 유도체, 스클레로글루칸(Scleroglucan) 검, 및 탄소 원자수가 16 이상인 알킬기가 혼입된 아민옥시드와 같은 구조 화합물을 필요로 함이 없이 양호한 연성, 피부상의 실리콘 침착 및 매우 양호한 저장 안정성의 가치있는 조합을 제공할 수 있다. 그때, 이러한 화합물은 바람직하게는 존재하지 않거나 또는 존재하더라도 0.5%보다 적은 양으로 함유된다.

본 발명의 특히 바람직한 실시양태는

a) 총 계면활성제를 기준하여 50% 이상의 하기 일반식:

R-CO₂-CH₂CH₂-SO₃M

(여기서, R은 탄소 원자수가 8 내지 14인 알킬이고, M은 나트륨, 칼륨 및 암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택된 가용화 양이온임)의 지방산 아실 이세티오네이트를 함유하고, 또한 총 계면활성제를 기준하여 10% 이상의 베타인을 추가로 함유하는 계면활성제 10 내지 20%,

b) 양이온성 중합체 0.01 내지 5 중량%, 및

c) 가능한 평균 크기가 0.1 내지 1 ㎛인 액적으로서 존재하는, 25℃에서 점도가 5 센티스토크 이상인 비휘발성 실리콘유 0.5 내지 15 중량%를 함유하는 수용액 또는 겔을 포함한다.

실시예

하기 실시예에서는 인간 지원자들에게 많은 시험을 행했다. 이용된 실험 순서는 다음과 같았다.

지원자들은 한쪽 팔뚝을 실리콘도 양이온 중합체도 함유하지 않은 대조용 샤워 겔로 세정하였다. 이는 팔 및 또한 지원자의 맨손을 온수로 적신 다음, 맨손을 사용하여 팔에 대조용 샤워 걸 0.5 그램으로 비누거품을 일으키고 이어서 맨손으로 문지르면서 10초 동안 헹군 다음 팔을 종이 타월로 건조시킴으로써 행했다.

이러한 예비세정을 한 후, 지원자들은 동일한 팔뚝을 동일한 과정을 이용하여 시험 제품으로 세정한다. 팔뚝을 건조시킬 때, 종이 타월이 팔뚝의 시험 영역을가로질러 단 한 번 거치도록 주의한다.

팔뚝을 건조시킨지 10분 후, 지원자들은 피부상의 테이프를 반복가능한 85 g.cm^-2의 압력으로 누르기 위해 고무 마개상을 압박하는 용수철 장착 장치를 사용하여 30 초 동안 제 위치에 유지시키면서, 접착 테이프 스트립(strip)을 그 영역상으로 누른다. 사용된 접착 테이프는 폭이 25 mm인 제이-라르 슈퍼클리어(J-Lar superclear) (TM) 테이프이었다.

5개 이상의 이러한 테이프 스트립을 이러한 방법으로 피부의 동일한 영역에 차례로 도포한다.

이러한 시험 과정에서는, 그 결과 피부상에 침착하는 실리콘이 지원자 피부의 외층 몇몇 곳과 함께 테이프로 이전될 것이다.

테이프에 접착하고 있는 실리콘 및 피부의 양은 엑스레이 형광 분광학에 의해 측정한다. 테이프 스트립을 이 기계의 광선에 대향하는 접착면과 함께 엑스레이형광 분광계 내에 놓는다. 테이프의 중간 중의 표준화된 영역만을 엑스레이 광선에 노출시키기 위해 마스크를 테이프 상에 도포한다. 기계의 샘플 챔버를 측정 전에 진공하에 둔 다음, 분광계를 사용하여 실리콘 및 황의 양을 측정한다. 황은 테이프에 이전된 피부의 양을 의미한다.

접착 테이프의 깨끗한 조각에 대해 관찰되는 실리콘 및 황의 양을 실험 측정치로부터 뺀다. 테이프의 연속된 조각에 대한 실험 측정치를 함께 더하고, 실리콘 및 황의 누적 총계는 황에 대한 실리콘의 비로서 표현한다.

실시예 1

샤워 겔은 다음의 성분들을 함유했다.

나트륨 코코일 이세티오네이트는 가프사로부터 입수가능한 페노폰(Fenopon)(등록 상표명) AC78이었다. 코코넛 베타인을 일반식

(여기서, R¹CO-는 코코넛으로부터 유도되는 아실기의 혼합물임)으로 나타내는 것이었다. 이러한 베타인은 알브라이트 앤드 월슨사(Albright and Wilson)의 엠피젠(Empigen)(등록 상표명) BB이었다.

상술한 바와 같이, 재규어 C-13-S는 셀라니즈-스테인 홀사로부터 입수가능한 CTFA 지정 명칭이 구아 히드록시프로필트리모늄 클로라이드인 양이온성 구아검 유도체이다.

실리콘은 하기의 성분들을 포함하는 도레이 실리콘사(Toray Silicone Co Ltd)의 예비형성된 에멀젼 BY22-026 10%로서 첨가되었다.

이 에멀젼 중의 실리콘 입자는 평균 입자 크기가 0.4 ㎛이다.

모든 성분을 패들 교반기에서 혼합하여 샤워 길 조성물을 제조하였다. 이렇게 하여 10 sec^-1에서 점도가 15,000 센티포이즈인 조성물을 수득하였다.

본 조성물에 의한 실리콘 침착을 상술한 시험 순서에 의해 측정하였다. 이것을 재규어 C-13-S를 뺀 동일한 조성물로부터의 실리콘 침착과 비교하였다.

8개의 시험 스트립으로부터의 누적 결과는 다음과 같았다.

실시예 2

샤워 겔은 다음의 성분들을 함유했다.

중량 %

코코넛 이세티오네이트는 이전의 실시예에서와 같이 페노폰 AC78이었다.

코코넛 아미도프로필 베타인은 일반식

(여기서, R¹CO-는 코코넛으로부터 유도되는 아실기의 혼합물임)으로 나타내는 것이었다. 이것은 르워사(Rewo)의 르워테릭(Rewoteric) AMB 14 (TM)이었다.

나트륨 라우릴 에테르 술페이트는 알브라이트 앤드 월슨사의 엠피콜(Empicol) 0251 (TM)이었다.

실리콘은 이전의 실시예에서와 같이 BY22-026이었다.

다시, 성분들을 혼합하여 샤워 겔을 제조하였다. 조성물의 점도는 10 sec^-1에서 15,000 센티포이즈로서 측정되었다.

실리콘 침착을 상술한 과정에 의해 측정하여, 재규어 C-13-S가 없는 동일한 조성물로부터의 실리콘 침착과 비교하였다. 8개의 시험 스트립으로부터의 누적 결과는 다음과 같았다.

비교예

액형 비누 조성물은 다음의 성분들을 함유하였다.

비누는 올레산 및 코코넛 지방산의 나트륨염의 혼합물이었다. 실리콘은 도레이 실리콘사의 BY22-026이었다. 전과 같이 패들 교반기를 사용하여 조성물을 제조하였는데 매우 점성이었다.

실리콘 침착을 측정하여 재규어가 없는 유사한 조성물로부터의 침착과 비교하였다. 8개의 시험 스트립으로부터의 누적 결과는 다음과 같았다.

이들 수치로부터, 조성물 중의 세정제인 비누에 대한 실리콘의 침착은 재규어 C-13-S를 포함함으로써 낮고 더욱 향상되지 않는 반면에, 실시예 1 및 2에서는 재규어 C-13-S의 존재로 인해 실리콘 침착이 매우 실질적으로 증가한다.

Claims

(a) 전체 조성물을 기준으로 하여 약 5 중량%의 하기 일반식

(상기 식에서, R은 탄소 원자수가 7 내지 21인 알킬기 또는 알케닐기이고, M은 나트륨, 칼륨, 암모늄 또는 치환된 암모늄과 같은 가용화 양이온임)의 지방산 아실 이세티오네이트 또는 그의 혼합물,

(b) 저체 조성물을 기준으로 하여 약 8 중량%의 하기 일반식

(상기 식에서, R¹은 탄소 원자수가 7 내지 18일 알킬 또는 알케닐이고, R²및 R³는 각각 독립적으로 탄소 원자수가 1 내지 3인 알킬, 히드록시알킬 또는 카르복시알킬이며, m은 2 내지 4이고, n은 0 또는 1이며, X는 히드록실로 임의 치환된 탄소 원자수 1 내지 3의 알킬렌이고, Y는 -CO2- 또는 -SO3-이다)의 양쪽 이온성 세정제,

(c) 전체 조성물을 기준으로 하여 약 2 중량%의 알콕시화 또는 비알콕시화 알킬 에테르 술페이트,

(d) 양이온성 셀룰로스 에테르 및 양이온성 폴리갈락토만난 검으로 이루어진 군으로 선택되는, 전체 조성물을 기준으로 하여 0.01 내지 5 중량%의 양이온 중합체,

(e) 전체 조성물을 기준으로 하여 0.5 내지 15 중량%의 실리콘 및

(f) 밸렌스(balance) 물 및 전해질

을 포함하는, 수용액형 또는 겔형 세제 조성물.
제1항에 있어서, 상기 이세티오네이트가 사슬 길이가 서로 다른 이세티오네이트의 혼합물이며, 상기 아실 이세티오네이트의 R기의 3/4 이상이 탄소 원자수 11내지 17의 알킬인 조성물.
제1항에 있어서, 양이온 중합체를 0.05 중량% 내지 2 중량% 함유하는 조성물.
제1항에 있어서, 상기 실리콘이 하기 구조식의 폴리실록산인 조성물

(상기 식에서,

R은 알킬 또는 아릴이고,

x는 약 100 내지 약 2,400의 정수이며,

A는 실리콘쇄의 말단을 봉쇄하는 기를 나타낸다).
제1항에 있어서, 실리콘을 2 중량% 내지 8 중량% 함유하는 조성물.
제1항에 있어서, 상기 실리콘유의 점도가 25 ℃에서 5 센티스토크 이상인 조성물.
제1항에 있어서, 상기 전해질이 무기 전해질인 조성물.
제1항에 있어서, 상기 전해질이 무기 전해질이고, 상기 조성물의 점도가 전단율 10 sec^-1에서 6,000 센티포이즈 이상인 조성물.