KR970065742A - 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도고인성 후강재의 제조방법 - Google Patents

재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도고인성 후강재의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 강재간에 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도고인성 후강재의 제조방법에 관한 것으로서, C:0.001∼0.25wt%, Mn:1.0∼3.0wt%,Ti:0.005∼0.20wt%, Nb:0.005∼0.20wt%, B:0.0003∼0.0050wt% 및 Al:0.01∼0.100wt%을 함유하며, 잔부는 실질적으로 Fe 및 불가피적 불순물의 조성으로 이루어지고 또 변태개시온도(Bs)가 670℃이하인 강소재를, Ac3점∼1,350℃의 온도로 가열한 후 열간압연을 실시하고, 계속해서 10℃/s이하의 냉각 속도로 냉각하는 것을 특징으로 한다.

Description

재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도고인성 후강재의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 미세한 그래뉼러베이나이틱페라이트조직을 나타낸 현미경조직 사진, 제2도는 후강판에 있어서의 냉각속도와 강도와의 관계를 나타낸 도면이다.

Claims (13)

  1. C:0.001∼0.25wt%, Mn:1.0∼3.0wt%, Ti:0.005∼0.20wt%, Nb:0.005∼0.20wt%, B:0.0003∼0.0050wt% 및 Al:0.01∼0.100wt%을 함유하며, 잔부는 실질적으로 Fe및 불가피적 불순물의 조성으로 이루어지고 또 변태개시온도(Bs)가 670℃이하인 강소재를, Ac3점∼1,350℃의 온도로 가열한 후 열간압연을 실시하고, 계속해서 10℃/s이하의 냉각 속도로 냉각하는 것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 조성이 하기 (1)식을 만족하는 것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
    130Mn+2500Nb≥296 (1)
  3. 제1항에 있어서, 최종 마무리온도를 800℃이상으로 열간압연을 실시하는 것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
  4. 재1항내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 강재가 또한 V:0.04∼0.15wt%, N:0.0035∼0.01000wt%를 함유하는 조성으로 이루어진 것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
  5. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 강재가 또한 V:0.005∼0.04wt%를 함유하는 조성으로 이루어진것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
  6. 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 강재가 또한 Si:0.60wt%이하, Cr:0.2wt%이하, Ni:0.05∼2.0wt%, Mo:0.5wt%이하, W:0.5wt%이하 및 Cu:0.05∼0.7wt%중에서 선택된 1종류 또는 2종류 이상을 함유하는 조성으로 이루어지며, 또한 하기 (2)식을 만족하는 것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
    130Mn-13Ni+2500Nb+55Cu≥296 (2)
  7. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 강재가 또한, REM:0.02wt%이하 및 Ca:0.006wt%이하중에서 선택된 1종류 또는 2종류 이상을 함유하는 조성으로 이루어진 것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
  8. 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 강제가 V:0.04∼0.15wt%, N:0.0035∼0.01000wt%를 함유하며, 또한 Si:0.60wt%이하, Cr:0.2wt%이하, Ni:0.05∼2.0wt%, Mo:0.5wt%이하, W:0.5wt%이하 및 Cu:0.05∼0.7wt%중에서 선택된 1종류 또는 2종류 이상을 함유하는 조성으로 이루어지며, 하기(2)식을 만족하는 것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법. 130Mn-13Ni+2500Nb+55Cu≥296
  9. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 강제가 V:0.005∼0.04wt%를 함유하며, 또한 Si:0.60wt%이하, Cr:0.2wt%이하, Ni:0.05∼2.0wt%, Mo:0.5wt%이하, W:0.5wt%이하 및 Cu:0.05∼0.7wt%중에서 선택된 1종류 또는 2종류 이상을 함유하는 조성으로 이루어진 것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
  10. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 강재가 V:0.04∼0.15wt%, N:0.0035∼0.01000wt%를 함유하며,또한 REM:0.02wt%이하 및 Ca:0.006wt%이하중에서 선택된 1종류 또는 2종류 이상을 함유하는 조성으로 이루어진 것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
  11. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 강재가 V:0.005∼0.04wt%를 함유하며 또한 REM:0.02wt%이하 및 Ca:0.006wt%이하중에서 선택된 1종류 또는 2종류 이상을 함유하는 조성으로 이루어진 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
  12. 제1항 또는 제3항에 있어서, 상기 강재가 V:0.04∼0.15wt%, N : 0.0035∼0.01000wt%를 함유하며,또한 Si : 0.60wt%이하, Cr : 0.2wt%이하, Ni : 0.05∼2.0wt%, Mo : 0.5wt%이하, W : 0.5wt%이하 및 Cu : 0.05∼0.7wt%중에서 선택된 1종류 또는 2종류 이상을 함유하며, 또한 REM:0.02wt%이하 및 Ca:0.006wt%이하중에서 선택된 1종류 또는 2종류 이상을 함유하는 조성으로 이루어지며, 하기 (2)식을 만족하는 것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
    130Mn-13Ni+2500Nb+55Cu≥296 (2)
  13. 제1항 또는 제3항에 있어서, V:0.005∼0.04wt%를 함유하며, 또한 Si:0.60wt%이하, Cr:0.2wt%이하, Ni:0.05∼2.0wt%, Mo:0.5wt%이하, W:0.5wt%이하 및 Cu:0.05∼0.7wt%중에서 선택된 1종류 또는 2종류 이상을 함유하며, 또한 REM:0.02wt%이하 및 Ca:0.006wt%이하중에서 선택된 1종류 또는 2종류 이상을 함유하는 조성으로 이루어진 것을 특징으로 하는 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970009014A 1996-03-18 1997-03-17 재질의 분산이 적고 용접성이 우수한 고강도 고인성 후강재의 제조방법 KR100260655B1 (ko)

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