KR970060603A - 높은 주변 온도에서도 저잡음으로 동작이 가능한 반도체 레이저 디바이스 - Google Patents
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Abstract
기판상에 수직 방향으로 레이저 공진기를 형성하기 위해 복수의 반도체 층을 적층한 반도체 레이저 디바이스에 있어서, 상기 레이저 공진기가 포화가능한 흡광영역을 포함하고 있다. 수직 방향에서의 광 도파로 프로파일의 스폿 크기가 0.4㎛ 보다 크다. 레이저 공진기는 50% 보다 큰 반사율을 제공하는 제1 및 제2반사막을 더 포함한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (5)
- 기판상에 수직방향으로 레이저 공진기를 형성하기 위해 복수의 반도체 층을 적층하여 구성한 반도체 레이저 디바이스에 있어서, 상기 레이저 공진기는 포화가능한 흡광영역, 레이저 발광면을 한정하는 제1면(first facet) 및 상기 제1면에 대향하는 제2면(second facet)을 포함하며, 상기 수직 방향에서 광 도파르 프로파일의 스폿크기가 0.4㎛ 보다 크고, 상기 레이저 공진기가 상기 제1 및 제2면에 코트되어 있으면서 50% 보다 큰 반사율을 제공하는 제1 및 제2반사막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 디바이스.
- 제1항에 있어서, 상기 복수의 반도체 층은 활성층 및 상기 활성층 상에 형성된 클래딩 층, 상기 클래딩 층 상에 형성되는 메사 구조를 포함하고, 또한 상기 메사 구조의 양측에 형성되어 전류를 한정하는 한쌍의 차단층을 더 구비하며, 상기 포화 가능한 흡광 영역은 상기 메사구조의 양측에 있는 상기 활성층에 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 디바이스.
- 제 1항에 있어서, 상기 복수의 반도체 층은 활성층 및 상기 활성층 위 및 상기 활성층 아래에 형성된 클래딩 층을 포함하고, 상기 포화가능한 흡광 영역은 적어도 하나 이상의 클래딩 층에 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 디바이스.
- 제1항에 있어서, 상기 레이저 공진기에는 스트라이프 형상의 전류 주입 구조가 제공되며, 상기 스트라이프 형상의 전류 주입 구조의 일부분은 비전류 주입 영역이 되고, 상기 포화가능한 흡광영역은 상기 비 전류 주입 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 디바이스.
- 제4항에 있어서, 상기 이온 주입은 상기 포화가능한 흡광 영역에서 행해지는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 디바이스.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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