KR970052670A - 플라즈마를 이용한 체임버 세정방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 장치의 제조에 사용되는 체임버내의 반응부산물에 관한 것으로, 반도체 장치의 식각공정에서 발생하여 체임버 벽면에 잔류하는 폴리머를 제거한 방법을 제공하고 있다. 본 발명은 체임버 내에서 반도체 장치의 막질 식각시 발생하는 폴리머를 여러가지 가스의 플라즈마를 이용하여 건식세정의 방법으로 제거하여 줌으로써, 폴리머에 의해 반도체 장치의 수율이 저하되는 것을 방지하고자 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 플루오르카본계 가스의 반응부산물이 체임버 내부에 달라붙는 예를도시한 체임버의 단면도.
Claims (2)
- 건식식각공정을 수행하는 반도체장비에 있어서, 반응체임버(10)의 벽면에 형성된 폴리머(14)를 산소 또는 산소와 첨가 가스와의 혼합가스를 소스로 하는 플라즈마를 발생시켜 세정하는 것을 특징으로 하는 반도체장치의 반응 체임버 세정방법.
- 제1항에 있어서, 상기 혼합가스 플라즈마로 Ar+O2, CF4+O2, CHF3+O2혼합가스 플라즈마중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 반도체장비의 반응체임버 세정방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950059241A KR970052670A (ko) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | 플라즈마를 이용한 체임버 세정방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950059241A KR970052670A (ko) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | 플라즈마를 이용한 체임버 세정방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970052670A true KR970052670A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66619818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950059241A KR970052670A (ko) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | 플라즈마를 이용한 체임버 세정방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970052670A (ko) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010063031A (ko) * | 1999-12-21 | 2001-07-09 | 손정하 | 건식 식각 장비의 세정 방법 |
| KR100333822B1 (ko) * | 2000-07-11 | 2002-04-26 | 이종성 | 세라믹계 절연체의 세정방법 |
| KR100445273B1 (ko) * | 2001-10-26 | 2004-08-21 | 손정하 | 세라믹 절연체의 세정방법 |
| KR100676206B1 (ko) * | 2005-11-14 | 2007-01-30 | 삼성전자주식회사 | 반도체 디바이스 제조설비에서의 프로세스 챔버 세정 방법 |
-
1995
- 1995-12-27 KR KR1019950059241A patent/KR970052670A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010063031A (ko) * | 1999-12-21 | 2001-07-09 | 손정하 | 건식 식각 장비의 세정 방법 |
| KR100333822B1 (ko) * | 2000-07-11 | 2002-04-26 | 이종성 | 세라믹계 절연체의 세정방법 |
| KR100445273B1 (ko) * | 2001-10-26 | 2004-08-21 | 손정하 | 세라믹 절연체의 세정방법 |
| KR100676206B1 (ko) * | 2005-11-14 | 2007-01-30 | 삼성전자주식회사 | 반도체 디바이스 제조설비에서의 프로세스 챔버 세정 방법 |
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