KR970043359A - 티타늄 질화물 박막의 형성방법 및 그 방법에 따라 형성된 티타늄 질화물 박막 - Google Patents
티타늄 질화물 박막의 형성방법 및 그 방법에 따라 형성된 티타늄 질화물 박막 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 화학기상증착방법을 이용한 티타늄 질화물 박막의 형성방법에 있어서, (a) 반도체 기판상에 티탄과 질소를 함유하는 금속유기 공급원을 사용하여 제1티타늄 질화막을 형성하는 단계; (b) 상기 결과물상에 티탄과 질소를 함유하는 금속 유기 공급원과 암모니아 가스를 함께 사용하여 제2티타늄 질화막을 형성하는 단계를 교대로 반복하는 것을 특징으로 하는 티타늄 질화물 박막의 형성방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 우수한 단차도포성, 비저항 및 안정성을 갖는 티타늄 질화물 박막을 얻을 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (3)
- 화학기상증착방법을 이용한 티타늄 질화물 박막의 형성방법에 있어서, (A) 반도체 기판상에 티탄과 질소를 함유하는 금속유기 공급원을 사용하여 제1티타늄 질화막을 형성하는 단계; 및 (B) 상기 결과물상에 티탄과 질 소를 함유하는 금속유기 공급원과 암모니아 가스를 함께 사용하여 제2티타늄 질화막을 형성하는 단계를 교대로 반복하는 것을 특징으로 하는 티타늄 질화물 박막의 형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 금속유기 공급원이 TDMAT와 TDEAT중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 티타 늄 질화물 박막의 형성방법.
- 제1항 내지 제2항중 어느 한 항의 방법에 따라 형성된 티타늄 질화물 박막.
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KR100318113B1 (ko) * | 1999-10-25 | 2002-01-18 | 정덕영 | 미세 접촉 인쇄법과 선택적 화학 기상 증착법을 이용한 산화티타늄 박막의 형상화 방법 |
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- 1995-12-15 KR KR1019950050679A patent/KR0183772B1/ko not_active IP Right Cessation
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