KR970024027A - 고주파 증폭 집적-회로 장치(High-Frequency Amplifier Integrated-Circuit Device) - Google Patents
고주파 증폭 집적-회로 장치(High-Frequency Amplifier Integrated-Circuit Device) Download PDFInfo
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 3
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
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- H01L2223/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
- H01L2223/64—Impedance arrangements
- H01L2223/66—High-frequency adaptations
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/4805—Shape
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Abstract
본 발명은 이전 기술의 장치와 비교하여 이득의 차이를 줄이면서, 저가로 제조 가능한 고주파 증폭 집적-회로 장치에 관한 것이다. 고주파 증폭 집적-회로 장치는 반도체 기판; 및 반도체 기판에 형성되어 복수 개의 제 1 전극, 복수 개의 제 2 전극, 및 적어도 하나의 제 3 전극을 가지며, 복수 개의 제 2 전극에 입력된 고주파 신호는 트랜지스터에 의해 증폭되어 제 3 전극으로부터 출력되고, 복수 개의 제 1 전극 중에서 적어도 두 개의 제 1 전극은 커패시터를 통해 접지되고, 두 커패시터의 정전 용량값은 상호 다른 값으로 설정되는 트랜지스터를 포함한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
도 1은 본 발명의 양태에 따른 모체 기판(100) 상에 실장된 고주파 증폭 집적-회로 장치(91)의 평면도이다,
도 2는 도 1의 A-A' 선을 따라 절단된 단면도이다,
도 3은 도 1의 고주파 증폭 집적-회로 장치(91)의 회로도이다,
도 4는 도 1의 고주파 증폭 집적-회로 장치의 출력단 반사 계수 및 이득의 주파수 특성을 도시하는 그래프이다,
도 5는 종래의 고주파 증폭 집적-회로 장치(92)의 평면도이다,
도 6은 도 5의 고주파 증폭 집적-회로 장치(92)의 회로도이다,
도 7은 도 5의 고주파 증폭 집적-회로 장치(92)의 출력단 반사 계수 및 이득의 주파수 특성을 도시하는 그래프이다.
Claims (11)
- 반도체 기판; 및 반도체 기판에 형성되고, 복수 개의 제 1 전극, 복수 개의 제 2 전극, 및 적어도 하나의 제 3 전극을 지니고 있어서, 상기 복수 개의 제 2 전극에 입력된 고주파 신호를 증폭하고, 상기 제 3 전극으로부터 증폭된 신호를 출력하는 트랜지스터를 포함하며, 상기 복수 개의 제 1 전극 중에서 적어도 두 개의 제 1 전극은 각기 커패시터를 통해 각각 접지됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 제 1 전극 중에서 단지 두 개가 접지됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 반도체 기판 상에 형성되고, 상기 반도체 기판의 단지 외부에서 서로 접속되며, 상기 적어도 두 개의 제 1 전극이 상기 각각의 커패시터를 통해 각각 접속되는 적어도 두 개의 접지 도체를 더 포함함을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
- 제 3항에 있어서, 모체 기판 상에 제공되어 상기 복수 개의 제 1 전극에 접속된 제 1 단자 및 상기 적어도 하나의 제 3 전극에 접속된 제 2 단자를 포함하고, 상기 제 1 단자, 상기 제 2 단자, 및 상기 적어도 두 개의 접지 도체는 본딩 와이어에 의해서 상기 모체 기판 상에 형성된 각각의 다른 단자에 접속됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
- 제 3항에 있어서, 상기 제 1 전극 중에서 단지 두 개가 접지됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
- 제 5항에 있어서, 상기 두 개 커패시터의 정전 용량값이 상호 다른 값으로 설정됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
- 제 6항에 있어서, 상기 두 개의 커패시터 중 하나의 정전 용량값은 다른 커패시터의 정전 용량값의 3 내지 50배 범위의 크기 값으로 설정됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
- 제 7항에 있어서, 상기 하나의 커패시터의 용량이 상기 외부 커패시터 용량의 40배 크기임을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 트랜지스터는 상기 제 1 전극이 소스 전극, 상기 제 2 전극이 게이트 전극, 상기 제 3 전극이 드레인 전극인 전계 효과 트랜지스터임을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
- 반도체 기판; 상기 기판에 형성되어 게이트 전극, 드레인 전극, 및 소스 전극을 지니는 트랜지스터; 상기기판 상에 형성된 접지 도체; 상기 소스 전극과 상기 접지 전극 사이에서 접속되고, 상기 소스 전극의 제 1 부분에 접속되어진 제 1 커패시터; 및 상기 소스 전극과 상기 접지 전극 사이에서 접속되고, 상기 소스 전극의 제 2 부분에 접속되어진 제 2 커패시터를 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 부분은 상기 소스 전극이 소정의 고 주파수 영역에서 인덕터로서 작용하는 것을 방지하도록 결정되는 상기 소스 전극 상의 각각의 부분임을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
- 제 10항에 있어서, 상기 소스 전극은 복수 개의 병렬 분기를 가지고, 상기 소스의 상기 분기는 기판의 표면상에 있는 상기 게이트 및 드레인 전극의 사이에 끼워지며, 상기 제 1 커패시터는 상기 소스 전극의 상기 분기 중의 하나에 접속되고, 상기 제 2 커패시터는 상기 소스 전극의 상기 분기 중의 다른 하나에 접속되며, 상기 제 1 및 제 2 커패시터는 상기 소스 전극이 상기한 소정의 고 주파수 영역에서 인덕터로서 작용하는 것을 방지함을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7-278744 | 1995-10-26 | ||
JP7278744A JPH09121127A (ja) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | 高周波増幅集積回路装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970024027A true KR970024027A (ko) | 1997-05-30 |
KR100228754B1 KR100228754B1 (ko) | 1999-11-01 |
Family
ID=17601603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960048604A KR100228754B1 (ko) | 1995-10-26 | 1996-10-25 | 고주파 증폭 집적-회로 장치 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5874859A (ko) |
EP (1) | EP0771032A3 (ko) |
JP (1) | JPH09121127A (ko) |
KR (1) | KR100228754B1 (ko) |
CA (1) | CA2188962C (ko) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6459343B1 (en) * | 1999-02-25 | 2002-10-01 | Formfactor, Inc. | Integrated circuit interconnect system forming a multi-pole filter |
US6232840B1 (en) * | 1999-06-10 | 2001-05-15 | Raytheon Company | Transistor amplifier having reduced parasitic oscillations |
DE10036127B4 (de) * | 2000-07-25 | 2007-03-01 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zur Versorgungsspannungsentkopplung für HF-Verstärkerschaltungen |
JP2002171143A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Mitsubishi Electric Corp | 高周波用電力増幅器 |
US6309245B1 (en) | 2000-12-18 | 2001-10-30 | Powerwave Technologies, Inc. | RF amplifier assembly with reliable RF pallet ground |
US6549077B1 (en) * | 2002-02-20 | 2003-04-15 | United Microelectronics Corp. | Integrated inductor for RF transistor |
JP2009159059A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 高周波スイッチ回路 |
US9806159B2 (en) * | 2015-10-08 | 2017-10-31 | Macom Technology Solutions Holdings, Inc. | Tuned semiconductor amplifier |
JP7103064B2 (ja) * | 2018-08-28 | 2022-07-20 | 富士通株式会社 | 増幅装置及び無線通信装置 |
DE102018131040B4 (de) * | 2018-12-05 | 2022-02-24 | Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz- Institut für Höchstfrequenztechnik | Hochfrequenz-Leistungstransistor und Hochfrequenz-Leistungsverstärker |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3067917D1 (en) * | 1979-03-10 | 1984-06-28 | Fujitsu Ltd | Constructional arrangement for semiconductor devices |
US4658220A (en) * | 1985-09-06 | 1987-04-14 | Texas Instruments Incorporated | Dual-gate, field-effect transistor low noise amplifier |
JPH06101652B2 (ja) * | 1987-02-12 | 1994-12-12 | 三菱電機株式会社 | バイアス回路 |
US4771247A (en) * | 1987-09-24 | 1988-09-13 | General Electric Company | MMIC (monolithic microwave integrated circuit) low noise amplifier |
JP2643662B2 (ja) * | 1991-07-08 | 1997-08-20 | 三菱電機株式会社 | 高出力電界効果トランジスタ増幅器 |
FR2697698A1 (fr) * | 1992-11-04 | 1994-05-06 | Philips Electronique Lab | Dispositif semiconducteur comprenant un circuit amplificateur distribué monolithiquement intégré, à large bande et fort gain. |
US5469108A (en) * | 1994-08-15 | 1995-11-21 | Texas Instruments Incorporated | Reactively compensated power transistor circuits |
-
1995
- 1995-10-26 JP JP7278744A patent/JPH09121127A/ja active Pending
-
1996
- 1996-10-25 US US08/738,022 patent/US5874859A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-25 EP EP96117193A patent/EP0771032A3/en not_active Ceased
- 1996-10-25 KR KR1019960048604A patent/KR100228754B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-10-28 CA CA002188962A patent/CA2188962C/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2188962C (en) | 1999-09-14 |
CA2188962A1 (en) | 1997-04-27 |
EP0771032A2 (en) | 1997-05-02 |
US5874859A (en) | 1999-02-23 |
JPH09121127A (ja) | 1997-05-06 |
KR100228754B1 (ko) | 1999-11-01 |
EP0771032A3 (en) | 1997-08-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20070808 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |