KR970024027A - 고주파 증폭 집적-회로 장치(High-Frequency Amplifier Integrated-Circuit Device) - Google Patents

고주파 증폭 집적-회로 장치(High-Frequency Amplifier Integrated-Circuit Device) Download PDF

Info

Publication number
KR970024027A
KR970024027A KR1019960048604A KR19960048604A KR970024027A KR 970024027 A KR970024027 A KR 970024027A KR 1019960048604 A KR1019960048604 A KR 1019960048604A KR 19960048604 A KR19960048604 A KR 19960048604A KR 970024027 A KR970024027 A KR 970024027A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
electrodes
high frequency
circuit device
source electrode
Prior art date
Application number
KR1019960048604A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100228754B1 (ko
Inventor
노부미츠 아마치
야수시 야마모토
고이치 사카모토
미추히로 츠치오카
Original Assignee
무라따 미치히로
가부시끼가이샤 무라따 세이사꾸쇼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 무라따 미치히로, 가부시끼가이샤 무라따 세이사꾸쇼 filed Critical 무라따 미치히로
Publication of KR970024027A publication Critical patent/KR970024027A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100228754B1 publication Critical patent/KR100228754B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/06Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/06Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
    • H01L27/0611Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region
    • H01L27/0617Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region comprising components of the field-effect type
    • H01L27/0629Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region comprising components of the field-effect type in combination with diodes, or resistors, or capacitors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/06Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
    • H01L27/0605Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits made of compound material, e.g. AIIIBV
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6644Packaging aspects of high-frequency amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Amplifiers (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Microwave Amplifiers (AREA)

Abstract

본 발명은 이전 기술의 장치와 비교하여 이득의 차이를 줄이면서, 저가로 제조 가능한 고주파 증폭 집적-회로 장치에 관한 것이다. 고주파 증폭 집적-회로 장치는 반도체 기판; 및 반도체 기판에 형성되어 복수 개의 제 1 전극, 복수 개의 제 2 전극, 및 적어도 하나의 제 3 전극을 가지며, 복수 개의 제 2 전극에 입력된 고주파 신호는 트랜지스터에 의해 증폭되어 제 3 전극으로부터 출력되고, 복수 개의 제 1 전극 중에서 적어도 두 개의 제 1 전극은 커패시터를 통해 접지되고, 두 커패시터의 정전 용량값은 상호 다른 값으로 설정되는 트랜지스터를 포함한다.

Description

고주파 증폭 집적-회로 장치(High-Frequency Amplifier Integrated-Circuit Device)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
도 1은 본 발명의 양태에 따른 모체 기판(100) 상에 실장된 고주파 증폭 집적-회로 장치(91)의 평면도이다,
도 2는 도 1의 A-A' 선을 따라 절단된 단면도이다,
도 3은 도 1의 고주파 증폭 집적-회로 장치(91)의 회로도이다,
도 4는 도 1의 고주파 증폭 집적-회로 장치의 출력단 반사 계수 및 이득의 주파수 특성을 도시하는 그래프이다,
도 5는 종래의 고주파 증폭 집적-회로 장치(92)의 평면도이다,
도 6은 도 5의 고주파 증폭 집적-회로 장치(92)의 회로도이다,
도 7은 도 5의 고주파 증폭 집적-회로 장치(92)의 출력단 반사 계수 및 이득의 주파수 특성을 도시하는 그래프이다.

Claims (11)

  1. 반도체 기판; 및 반도체 기판에 형성되고, 복수 개의 제 1 전극, 복수 개의 제 2 전극, 및 적어도 하나의 제 3 전극을 지니고 있어서, 상기 복수 개의 제 2 전극에 입력된 고주파 신호를 증폭하고, 상기 제 3 전극으로부터 증폭된 신호를 출력하는 트랜지스터를 포함하며, 상기 복수 개의 제 1 전극 중에서 적어도 두 개의 제 1 전극은 각기 커패시터를 통해 각각 접지됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 제 1 전극 중에서 단지 두 개가 접지됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 반도체 기판 상에 형성되고, 상기 반도체 기판의 단지 외부에서 서로 접속되며, 상기 적어도 두 개의 제 1 전극이 상기 각각의 커패시터를 통해 각각 접속되는 적어도 두 개의 접지 도체를 더 포함함을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
  4. 제 3항에 있어서, 모체 기판 상에 제공되어 상기 복수 개의 제 1 전극에 접속된 제 1 단자 및 상기 적어도 하나의 제 3 전극에 접속된 제 2 단자를 포함하고, 상기 제 1 단자, 상기 제 2 단자, 및 상기 적어도 두 개의 접지 도체는 본딩 와이어에 의해서 상기 모체 기판 상에 형성된 각각의 다른 단자에 접속됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
  5. 제 3항에 있어서, 상기 제 1 전극 중에서 단지 두 개가 접지됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
  6. 제 5항에 있어서, 상기 두 개 커패시터의 정전 용량값이 상호 다른 값으로 설정됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
  7. 제 6항에 있어서, 상기 두 개의 커패시터 중 하나의 정전 용량값은 다른 커패시터의 정전 용량값의 3 내지 50배 범위의 크기 값으로 설정됨을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
  8. 제 7항에 있어서, 상기 하나의 커패시터의 용량이 상기 외부 커패시터 용량의 40배 크기임을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
  9. 제 1항에 있어서, 상기 트랜지스터는 상기 제 1 전극이 소스 전극, 상기 제 2 전극이 게이트 전극, 상기 제 3 전극이 드레인 전극인 전계 효과 트랜지스터임을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
  10. 반도체 기판; 상기 기판에 형성되어 게이트 전극, 드레인 전극, 및 소스 전극을 지니는 트랜지스터; 상기기판 상에 형성된 접지 도체; 상기 소스 전극과 상기 접지 전극 사이에서 접속되고, 상기 소스 전극의 제 1 부분에 접속되어진 제 1 커패시터; 및 상기 소스 전극과 상기 접지 전극 사이에서 접속되고, 상기 소스 전극의 제 2 부분에 접속되어진 제 2 커패시터를 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 부분은 상기 소스 전극이 소정의 고 주파수 영역에서 인덕터로서 작용하는 것을 방지하도록 결정되는 상기 소스 전극 상의 각각의 부분임을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
  11. 제 10항에 있어서, 상기 소스 전극은 복수 개의 병렬 분기를 가지고, 상기 소스의 상기 분기는 기판의 표면상에 있는 상기 게이트 및 드레인 전극의 사이에 끼워지며, 상기 제 1 커패시터는 상기 소스 전극의 상기 분기 중의 하나에 접속되고, 상기 제 2 커패시터는 상기 소스 전극의 상기 분기 중의 다른 하나에 접속되며, 상기 제 1 및 제 2 커패시터는 상기 소스 전극이 상기한 소정의 고 주파수 영역에서 인덕터로서 작용하는 것을 방지함을 특징으로 하는 고주파 증폭 집적-회로 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960048604A 1995-10-26 1996-10-25 고주파 증폭 집적-회로 장치 KR100228754B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7-278744 1995-10-26
JP7278744A JPH09121127A (ja) 1995-10-26 1995-10-26 高周波増幅集積回路装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970024027A true KR970024027A (ko) 1997-05-30
KR100228754B1 KR100228754B1 (ko) 1999-11-01

Family

ID=17601603

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960048604A KR100228754B1 (ko) 1995-10-26 1996-10-25 고주파 증폭 집적-회로 장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5874859A (ko)
EP (1) EP0771032A3 (ko)
JP (1) JPH09121127A (ko)
KR (1) KR100228754B1 (ko)
CA (1) CA2188962C (ko)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6459343B1 (en) * 1999-02-25 2002-10-01 Formfactor, Inc. Integrated circuit interconnect system forming a multi-pole filter
US6232840B1 (en) * 1999-06-10 2001-05-15 Raytheon Company Transistor amplifier having reduced parasitic oscillations
DE10036127B4 (de) * 2000-07-25 2007-03-01 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur Versorgungsspannungsentkopplung für HF-Verstärkerschaltungen
JP2002171143A (ja) * 2000-11-30 2002-06-14 Mitsubishi Electric Corp 高周波用電力増幅器
US6309245B1 (en) 2000-12-18 2001-10-30 Powerwave Technologies, Inc. RF amplifier assembly with reliable RF pallet ground
US6549077B1 (en) * 2002-02-20 2003-04-15 United Microelectronics Corp. Integrated inductor for RF transistor
JP2009159059A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Samsung Electro Mech Co Ltd 高周波スイッチ回路
US9806159B2 (en) * 2015-10-08 2017-10-31 Macom Technology Solutions Holdings, Inc. Tuned semiconductor amplifier
JP7103064B2 (ja) * 2018-08-28 2022-07-20 富士通株式会社 増幅装置及び無線通信装置
DE102018131040B4 (de) * 2018-12-05 2022-02-24 Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz- Institut für Höchstfrequenztechnik Hochfrequenz-Leistungstransistor und Hochfrequenz-Leistungsverstärker

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3067917D1 (en) * 1979-03-10 1984-06-28 Fujitsu Ltd Constructional arrangement for semiconductor devices
US4658220A (en) * 1985-09-06 1987-04-14 Texas Instruments Incorporated Dual-gate, field-effect transistor low noise amplifier
JPH06101652B2 (ja) * 1987-02-12 1994-12-12 三菱電機株式会社 バイアス回路
US4771247A (en) * 1987-09-24 1988-09-13 General Electric Company MMIC (monolithic microwave integrated circuit) low noise amplifier
JP2643662B2 (ja) * 1991-07-08 1997-08-20 三菱電機株式会社 高出力電界効果トランジスタ増幅器
FR2697698A1 (fr) * 1992-11-04 1994-05-06 Philips Electronique Lab Dispositif semiconducteur comprenant un circuit amplificateur distribué monolithiquement intégré, à large bande et fort gain.
US5469108A (en) * 1994-08-15 1995-11-21 Texas Instruments Incorporated Reactively compensated power transistor circuits

Also Published As

Publication number Publication date
CA2188962C (en) 1999-09-14
CA2188962A1 (en) 1997-04-27
EP0771032A2 (en) 1997-05-02
US5874859A (en) 1999-02-23
JPH09121127A (ja) 1997-05-06
KR100228754B1 (ko) 1999-11-01
EP0771032A3 (en) 1997-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4206589B2 (ja) 分布増幅器
KR970024027A (ko) 고주파 증폭 집적-회로 장치(High-Frequency Amplifier Integrated-Circuit Device)
KR100335681B1 (ko) 반도체장치
JP2643662B2 (ja) 高出力電界効果トランジスタ増幅器
US4841253A (en) Multiple spiral inductors for DC biasing of an amplifier
JPH0257722B2 (ko)
KR960009160A (ko) 무효 보상 전력 트랜지스터 회로
US6768153B2 (en) Semiconductor device
JP2015139207A (ja) 増幅装置
US4267520A (en) Hybrid component for very high frequency amplification
JP3062358B2 (ja) マイクロ波集積回路素子
JP3448833B2 (ja) 伝送線路及び半導体装置
US6043713A (en) Amplifier with temperature compensation function
JPH05308229A (ja) マイクロ波低雑音増幅回路
JPH0575314A (ja) マイクロ波集積回路素子
JPS6365242B2 (ko)
JPS59216307A (ja) 半導体素子用整合回路
US20240339967A1 (en) Semiconductor amplifier circuit
JP2605871B2 (ja) 電界効果トランジスタおよびこれを用いた集積回路
JP3211729B2 (ja) 増幅器及び電圧制御ゲインコントロール回路
JPH11204728A (ja) 高周波半導体装置
JPH0219002A (ja) マイクロ波増幅回路
SU1681379A1 (ru) СВЧ-усилитель
JPS611104A (ja) モノリシツク集積回路多段増幅器
JPH0774558A (ja) 集積化増幅器

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20070808

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee