JP3211729B2 - 増幅器及び電圧制御ゲインコントロール回路 - Google Patents
増幅器及び電圧制御ゲインコントロール回路Info
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Description
御ゲインコントロール回路に関し、特に、増幅器とその
利得制御を行うための電圧制御ゲインコントロール回路
とをモノリシックIC化した増幅器及び電圧制御コント
ロール回路に関する。
路としては、従来、図5に回路図を示すもの(従来例
1)が知られている。この図に示すゲインコントロール
回路は、笠島他,「CDMA方式携帯電話用GaAs
AGCアンプ」,信学技報,ED95−160,MW9
5−145,ICD95−216(1996−01),
第55〜60頁に記載された回路である。図5を参照し
て、このゲインコントロール回路は多段の増幅器の段間
に設けられて、前段の増幅器(図示せず)からの信号I
Nを減衰させ、図示されない後段の増幅器に信号OUT
として伝達する。回路の構成は、トランジスタとキャパ
シタとの直列回路を、前段の増幅器から後段の増幅器に
至る信号線の中間点とグランドとの間に設け、トランジ
スタ(GaAs FET)のゲート電圧VAGCを可変に
した構成となっている。この回路において、FETのゲ
ート電圧をピンチオフ電圧以上に変化させると、FET
はオープン状態からスルー状態に変化するので、前段の
増幅器の出力信号INはトランジスタのソース・ドレイ
ン間を通過し、キャパシタを介して接地されるようにな
る。これにより、前段増幅器の出力信号を減衰させるこ
とができる。つまり、増幅器の利得を制御できる。
ロール回路には、増幅利得のコントロール量(最大利得
と最小利得との差)が大きいことが望まれるのである
が、この点で、図5に示す従来例1のゲインコントロー
ル回路には、改良すべき余地が残されている。すなわ
ち、従来例1の回路において、ゲインコントロール量
は、FETがオープン状態のときのゲイン(最大ゲイ
ン)とスルー状態のときのゲイン(最小ゲイン)との差
によって決まるのであるが、FETがスルー状態のとき
はグランドとの間にキャパシタのインピーダンスが介在
し、完全なショート状態にはならない。そのため、最小
利得が十分小さくならないからである。上記の容量性イ
ンピーダンスを実用に差し支えない程度にまで下げよう
とすると大きな容量値が必要になり、このような電圧制
御ゲインコントロールを備える増幅器をモノリシックI
Cで実現することが困難になってしまう。
ールしようとするときに生じる問題を解決する一つの方
法に、インダクタンスと容量との共振におけるインピー
ダンス極小化現象を用いる方法が考えられる。そのよう
なLCの共振を用いてゲインコントロールを行うモノリ
シックIC化増幅器の一例(従来例2)が、特開昭64
−42905号公報に記載されている。上記公報記載の
増幅器の回路図を示す図6(a)及び利得の周波数特性
を示す図6(b)を参照すると、一対のnpn型バイポ
ーラトランジスタ62,63を差動構成に接続した差動
増幅器の一方の出力点(トランジスタ63のコレクタ電
極)に、インダクタとキャパシタとの直列接続からな
る、高域低インピーダンスの直列共振回路65が接続さ
れている。この共振回路65は、その共振点で差動増幅
器の出力点を低インピーダンス化することで、図6
(b)に示すように、高周波領域における最小利得の上
昇を抑制する。そして、これにより、若しこの直列共振
回路が設けられていない場合に生じる、高周波領域での
利得減衰量(最大利得と最小利得との差)の低下を防い
でいる。
はないが、LCの直列共振を用いてゲインコントロール
を行う増幅器の別の例(従来例3)が、特開平3−29
7227号公報に開示されている。従来例3の回路図を
示す図7(a)及びそのゲインの周波数特性を示す図7
(b)を参照すると、この従来例3の増幅器は、増幅器
73の出力信号の検波信号を出力するレベル検波器74
と、そのレベル検波器の出力信号の大きさに応じてイン
ピーダンスが変化する可変インピーダンス回路75と、
コイルLとコンデンサCとを直列に接続した直列共振回
路76とを備えている。可変インピーダンス回路75と
直列共振回路76とは、増幅器73の入力点との間に直
列に接続されている。直列共振回路の共振点f0は、妨
害波の周波数になるよう設定されている。このようにす
ることによって、強電界の妨害波を大きく減衰させ、共
振周波数から外れた弱電界の希望波の利得を大きくし
て、希望波を明瞭に受信できるようにしている。
器のゲインコントロールにLCの直列共振を用いると、
容量だけで利得調整を行う場合に比べ、ゲインコントロ
ール量を大きくできる。しかしながら、そのようなLC
の共振を利用するゲインコントロールにおける第1の問
題は、モノリシックIC上でキャパシタとインダクタと
を実現すると、たとえ高周波帯ではあっても、容量値あ
るいはインダクタンス値が大きくなり、半導体チップ内
に実現することが困難となることである。
るとすると、容量値Cとインダクタンス値Lの積LC
は、LC=25(nH×pF)程度必要となる。そこ
で、容量値CをICで実現できる程度の1pFと小さく
したとすると、インダクタンスの値は25nHと大きく
なってしまう。このような大きなインダクタンス値を半
導体チップ上で実現しようとすると、チップ内での占有
面積が大きくなってチップの小型化が困難になってしま
う。一方、キャパシタだけでは、f=1GHzのとき、
C=1pFでは約160Ωの抵抗をもち損失が大きくな
ってしまうので、損失を小さくするためには大きな容量
値が必要となり、やはりチップ内での占有面積が大きく
なってしまう。
第2の問題は、直列共振回路のQ値が下がり、ゲインコ
ントロール量を大きくできないことである。すなわち、
従来例2(図6(a))においては、直列共振回路65
に差動増幅器のトランジスタ63が並列に挿入されてい
ることになる。又、従来例3(図7(a))において
は、少なくともレベル検波器74とダイオードD1と
が、直列共振回路76に並列に挿入されている。このよ
うに、直列共振回路に並列にインダクタやキャパシタ或
いはトランジスタなどを付加すると共振におけるQ値が
低下することは、よく知られたことである。ところが、
ゲインコントロールの変化量は信号の通過時と遮断時の
損失差であり、信号通過時の損失は、共振回路のQ値が
高ければ高いほど大きくできるのである。
ための電圧制御ゲインコントロール回路とをモノリシッ
クIC化するとき、大きなゲインコントロール量を持つ
電圧制御ゲインコントロール回路を小さなキャパシタ、
小さなインダクタで実現できるようにし、特性向上、小
型・軽量化、高集積化できるようにすることを目的とす
るものである。
コントロール回路は、増幅器に前置され又は増幅器の段
間に設けられて電圧制御により増幅器の利得を制御する
電圧制御ゲインコントロール回路であって、前記増幅器
と接地電位点との間にキャパシタとインダクタとの直列
共振回路を含む電圧制御ゲインコントロール回路におい
て、前記直列共振回路を前記接地電位点側に配し、前記
増幅器と前記直列共振回路との間にトランジスタを前記
直列共振回路に直列に設け、増幅すべき信号又は増幅さ
れた信号を前記直列共振回路に直列に設けたトランジス
タのドレイン・ソース間を通して前記トランジスタに接
続された前記直列共振回路に通過させて、前記直列共振
回路から接地することで、増幅器の利得を制御するよう
に構成したことを特徴とする。
って、共振回路の接地をパッケージのチップマウントエ
リアから取らない。本発明においては、チップ上には、
共振回路の接地専用の電極(ボンディングパッド)を設
け、一方、パッケージに対しては、リードフレームの複
数のリード端子の内の一つを共振回路の接地専用のリー
ド端子とする。そして、チップ上の接地用ボンディング
パッドとリードフレームの上記接地専用のリード端子と
を、ボンディングワイヤで接続する。これにより、接地
用ボンディングワイヤのインダクタンスと、専用接地リ
ード端子の寄生インダクタンスとを、LC共振のインダ
クタンスに利用する。それら二つのインダクタンスの
分、チップ上で実現すべきインダクタンス値を小さくで
きるので、チップを小型化できる。
タなど他の回路素子を並列に接続しないので、共振のQ
値を大きくでき、ゲインコントロール量を大きくでき
る。
て、実施例を用い図面を参照して、詳細に説明する。
例(実施例1)を用いて、本発明の基本的な構成および
作用原理を説明する。図1は、実施例1によるモノリシ
ックIC化増幅器の、回路図を主体とした模式的平面図
である。又、主としてチップとパッケージのリード端子
との関係を表わす模式的平面図を、図2に示す。図1を
参照して、本実施例の増幅器は、初段のトランジスタ増
幅器10と後段のトランジスタ増幅器11とを縦列2段
に接続した増幅器である。チップ13上には、信号入力
電極1から初段増幅器10への信号線路の中間点とグラ
ンド電極7との間に、トランジスタQ1,キャパシタ
C,インダクタLが直列に接続されている。チップの、
ゲインコントロール回路のグランド電極7は、低抵抗金
属ワイヤ8で、パッケージ18のリード端子9に接続さ
れている。このリード端子9はゲインコントロール回路
の接地専用の機能リード端子であって、プリント配線板
のような、このICを実装するための実装用基板のグラ
ンド19に接地される。チップ上のキャパシタCはMI
M(Metal―Insulator−Metal)構
造であり、インダクタLは低抵抗金属薄膜で形成されて
いる。トランジスタQ1のゲート電極は、チップ上に形
成されたゲート抵抗RGを介して、チップのゲインコン
トロール電極14に接続されている。
から分るように、LC直列共振回路にはトランジスタQ
1が直列に接続されているだけであり、従来例2或いは
従来例3とは異なって、直列共振回路に並列に接続され
る回路あるいは素子は何も無いことである。その結果、
共振のQ値を、大きくできる。
ジのチップマウントエリア15に、ソルダなどを用いて
マウントされている。チップの各電極(入力電極1,グ
ランド電極7,ゲインコントロール電極14,出力電極
2)とパッケージの各リード端子とが、低抵抗金属ワイ
ヤ8で接続されている。本発明のもう一つの特徴は、ゲ
インコントロール回路のグランド電極7をパッケージの
リード端子の一つにワイヤボンディングし、そのリード
端子をゲインコントロール回路の接地専用の端子として
いることである。従来、チップ上の各回路のグランド
は、ゲインコントロール回路も含めて、通常、チップの
裏面からパッケージのチップマウントエリア15に直接
接地するか、又は、チップ上のグランド電極7とチップ
マウントエリア15とをワイヤで接続するかなどして、
チップマウントエリア15を外部に対する共通接地電極
として用いるのが一般的である。
専用のグランドを、専用のリード端子にワイヤボンディ
ングすれば、その接地専用のリード端子のインダクタン
ス及びボンディングワイヤのインダクタンスも共振回路
のインダクタンスとして利用できるので、チップ上で実
現すべきインダクタンス値はその分小さくてすむ。
参照して説明する。図3(a)は、本実施例における増
幅器の入力損失の周波数依存性を示す図である。図3
(b)は、共振周波数における増幅利得の、トランジス
タQ1のゲート電圧依存性を示す図である。図3を参照
して、チップ上の信号入力電極1に入力された信号は、
初段増幅器10及び、電圧制御ゲインコントロール回路
の入力点17に入力される。このとき、ゲインコントロ
ール回路のトランジスタQ1が遮断されていれば、ゲイ
ンコントロール回路の入力点でのインピーダンスはほぼ
無限大と高く、入力信号は全て増幅部初段10に入力さ
れる。従って、このときのゲインコントロール回路の損
失L1は小さく、増幅器のゲインはL1だけ損失したG1
となる。
VAGCをゲインコントロール電極14で、トランジスタ
が通過する方向にV1→V2→V3と変化させると、ゲイ
ンコントロール回路の入力点17のインピーダンスが低
くなってゆくので、入力信号は初段増幅器10に入力さ
れるだけでなく、ゲインコントロール回路の入力点17
にも入力される。その結果、増幅器のゲインは下がる。
そして、共振周波数f0で直列共振回路のインピーダン
スがほぼ0に近付くと、入力信号はトランジスタQ1の
遮断時の損失L1と通過時の損失L2との差L2−L1だけ
損失されたG3に下がる。このとき、ゲインコントロー
ル回路を構成する直列共振回路のQ値は、インダクタン
スLの抵抗とトランジスタQ1の抵抗とが小さければ高
く、損失の差L2−L1(=G1)は大きくなる。しか
し、直列共振回路にQを低下させる抵抗成分が入ると、
共振回路のインピーダンスは0にはならず損失が大きく
なるので、増幅器の入力損失がL2より小さなL3とな
る。その結果、トランジスタQ1のゲートバイアスVAGC
をV1→V2→V3と変化させても、増幅器のゲインはG3
より高いG2となるに留まる。すなわち、直列共振回路
のQ値により、トランジスタQ1の遮断時と通過時の損
失差が変わり、ゲインコントロール量も変化することに
なるのであるが、本発明では、前述したように共振回路
のQを大きくできるので、ゲインコントロール量を大き
くできる。
をもつ電圧制御ゲインコントロール回路を備える実施例
1の増幅器を、以下のようにして実現した。先ず、チッ
プは、厚さ140μmのGaAs基板を用い、これにG
aAs MESFETと、MIM構造のキャパシタと、
厚さ2.3μmの金配線で形成されたインダクタとを作
り込んだものである。
2とパッケージのリード端子9とを接続するワイヤ8
は、直径30μmの金ワイヤで、長さ1mm程度であ
る。この金ワイヤは、約1nHのインダクタンスを持
つ。パッケージは8ピンのSSOPである。リード端子
は銅を母材としこれに銀めっきを施したものであり、厚
さ0.15mm、幅0.22mm、長さ2mmである。
リード端子は2nH程度のインダクタンスを持つ。従っ
て、本実施例では、チップ外の金ボンディングワイヤ8
とリード端子9とで計約3nHのインダクタンスが得ら
れることになる。
1.0GHzとすると、これを実現するための容量値お
よびインダクタンス値は、LC=25×10-21(F・
H)となる。そこで、キャパシタCの容量値をモノリシ
ックICで実現可能な2.5pFとすれば、インダクタ
ンス値はL=10nHとなる。このインダクタンス値を
チップ上の厚さ2.3μm、幅10μmの金配線だけで
得ようとすると、ライン間隔5μmで約5mmの長さが
必要となる。ところが本実施例においては、チップ外の
ボンディングワイヤとリード端子とで3nHを得ている
ので、チップ内の金配線で実現すべきインダクタンス値
は、7nHで済むことになる。
ンディングワイヤ8は直径30μmφであるから、その
抵抗はチップ上の金配線の抵抗に比べ断面積に比例して
小さくなり、約1/40となる。従って、Q値は、ほぼ
無限大と見做してよい。又、リードフレーム9は、母材
である銅の抵抗率が1.35×10-6Ω・cmと金の抵
抗率2.35×10-6Ω・cmの約1/2であり、しか
も断面積が十分に大きいので抵抗は無視でき、Q値はや
はりほぼ無限大である。これに対し、チップ内の金配線
の抵抗は金の抵抗率2.35×10-6Ω・cmと、厚さ
2.3μm及び幅10μmとから、約1Ω/mmとなる
ので、10nHのインダクタンスを全て金配線で得るた
めに長さを5mmとすると、約5Ωとなる。従って、チ
ップ内だけで10nHを実現すれば、f0=1GHz
で、Q=(L/C)1/2/R=12.6と、かなり低い
値になってしまう。
Hzとした場合、必要なインダクタンス値は10nHと
なる。そして、このインダクタンス値をチップ内だけで
得ようとすると、金配線に10nHを持たせなくてはな
らない。一方、本実施例のように、ボンディングワイヤ
及びリードフレームのインダクタンスをも利用すると、
金配線には約7nHを持たせるだけで済む。このときQ
値は、チップ外部の抵抗成分は上述のように無視できる
ので、チップ内だけで必要なインダクタンス値を実現す
る場合に比べ、約30%高くなる。その結果、損失とし
ては約1.5dΒ改善できる。すなわち、増幅器全体と
してのゲインコントロール量は、1.5dΒ向上する。
(実施例2)について、説明する。図4は、実施例2の
平面図を、回路図を主体として示す図である。図4を参
照して、本実施例は、チップ上のインダクタを、トラン
ジスタ,抵抗,キャパシタで構成するインダクタ、所謂
アクティブインダクタ16で実現している。本実施例に
おいてアクティブインダクタのFETのゲート幅を大き
くし、損失を少なくして、インピーダンスを実施例1に
おけるインダクタと同様に7nHを得れば、共振回路の
Q値が無限大となるので、ゲインコントロール回路の損
失はFETの損失のみで決まることになる。このとき、
FETは直列に接続されるので、結局、図1に比べ、増
幅器の損失が大きく改善されることになる。
ンダクタンスを得ることができるという特徴を利用し
て、22nHのインピーダンスを得れば、チップ上に実
現すべき容量値は1pFでよいことになる。つまり、チ
ップ内に、小さな容量とアクティブインダクタのみでQ
値の高い直列共振回路が得られるので、チップの小型化
が可能である。但し、このときは、図1に示す実施例1
のトランジスタQ1に比べ、図4中のトランジスタQ1,
Q2,Q3の直列接続を一つのトランジスタとみなしたと
きの等価的なゲート幅を大きくし、Q値を大きくしてお
くことが望ましい。
御ゲインコントロール回路を初段増幅器10の前に設け
た例であるが、本発明はこれに限らず、ゲインコントロ
ール回路を初段増幅器10と後段増幅器11との段間に
設けても良いし或いは、後段増幅器の後に配置しても実
施例におけると同様の作用効果を得ることができること
は、発明の作用原理から明らかであろう。
御ゲインコントロール回路を構成するLC直列共振回路
に対し、トランジスタを直列に接続すると共に、チップ
上にはゲインコントロール回路の接地専用の電極を設
け、一方、パケージ側ではリード端子の内の一つをゲイ
ンコントロール回路の接地専用の端子として、チップ上
の接地専用電極とパッケージの接地専用リード端子とを
ボンディングワイヤで接続することにより、ボンディン
グワイヤのインダクタンス及び接地専用リード端子のイ
ンダクタンスをもLC直列共振のインダクタンスとして
利用している。
のQ値を高め、ゲインコントロール量を大きくできる。
又、チップのサイズを小さくできる。
クティブインダクタを用いると、ゲインコントロール量
の改善効果及びチップの小型化の効果は、特に著しい。
幅器の平面図を、回路図を主体にして示す図である。
面図を、チップ上の電極とパッケージのリード端子との
関係を主体にして示す図である。
性を示す図および、共振周波数における増幅器のゲイン
のゲート電圧依存性を示す図である。
して示す図である。
図である。
器の一例の回路図および、増幅利得の周波数依存性を示
す図である。
器の他の例の回路図および、増幅利得の周波数依存性を
示す図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 増幅器に前置され又は増幅器の段間に設
けられて電圧制御により増幅器の利得を制御する電圧制
御ゲインコントロール回路であって、前記増幅器と接地
電位点との間にキャパシタとインダクタとの直列共振回
路を含む電圧制御ゲインコントロール回路において、前記直列共振回路を前記接地電位点側に配し、前記増幅
器と前記直列共振回路との間にトランジスタを前記直列
共振回路に直列に設け、 増幅すべき信号又は増幅された
信号を前記直列共振回路に直列に設けたトランジスタの
ドレイン・ソース間を通して前記トランジスタに接続さ
れた前記直列共振回路に通過させて、前記直列共振回路
から接地することで、増幅器の利得を制御するように構
成したことを特徴とする電圧制御ゲインコントロール回
路。 - 【請求項2】 増幅器とその利得制御のための電圧制御
ゲインコントロール回路とを同一チップ上に集積したモ
ノリシックIC化増幅器に用いられる前記電圧制御ゲイ
ンコントロールであって、増幅器への又は増幅器からの
信号伝達経路と基準電位の点との間にキャパシタとイン
ダクタとの直列共振回路を備える電圧制御ゲインコント
ロール回路において、 前記直列共振回路を前記基準電位点側に配し、前記信号
伝達経路と前記直列共振回路との間に直列にトランジス
タを設け、そのトランジスタの制御電極の電圧をチップ
外部から制御可能にすると共に、 チップ上に、この電圧制御ゲインコントロール回路に前
記基準電位を与えるための専用の電極を設け、そのチッ
プ上の専用電極とパッケージのリード端子のうちの一つ
とをボンディングワイヤで接続したことを特徴とする電
圧制御ゲインコントロール回路。 - 【請求項3】 前記インダクタを金属配線で構成したこ
とを特徴とする、請求項1又は請求項2記載の電圧制御
ゲインコントロール回路。 - 【請求項4】 前記インダクタをアクティブインダクタ
で形成したことを特徴とする、請求項1又は請求項2記
載の電圧制御ゲインコントロール回路。 - 【請求項5】 一半導体基板上に、増幅器と、ドレイン
電極が基板上に設けた入力用電極から前記増幅器の入力
点に至る信号線の中間点に接続するFETと、一方の電
極が前記FETのソース電極に接続するキャパシタと、
一端が前記キャパシタの他方の電極に接続し他端が基板
上に設けた専用の接地用電極に接続する、金属配線で形
成したインダクタとを設けてなるチップと、 複数のリード端子を備えるパッケージと、 前記チップの接地用電極と前記パッケージのリード端子
の一つとを接続するワイヤとを含んでなる、モノリシッ
クIC化した増幅器。 - 【請求項6】 請求項5に記載の増幅器において、前記
チップ上のインダクタを金属配線で形成するのに替え
て、 ドレイン電極が前記FETのソース電極に接続する第2
のFETと、 ドレイン電極が前記第2のFETのソース電極に接続
し、ソース電極が前記半導体基板上の接地用電極に接続
する第3のFETと、 前記第2のFETのゲート電極と前記第3のFETのソ
ース電極との間に直列に接続された抵抗及びキャパシタ
とからなるアクティブインダクタで構成したことを特徴
とする増幅器。
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